JP2017509923A5 - - Google Patents

Claims (42)

1. 基本波長帯域幅の基本波長を生成する基本レーザと、
   基本波長の第一の部分を第二の波長に変換する周波数変換モジュールと、
   基本波長の第二の部分から高調波波長を生成する高調波変換モジュールと、
   第二の波長を高調波波長と混合して合計波長を生成する周波数混合モジュールと、
   基本波長から第一の部分と第二の部分を、第二の部分が基本波長帯域幅の中の、第一の部分より狭い波長範囲を含むように選択する光学帯域幅フィルタ装置と、
   を含むレーザ。
2. 請求項１に記載のレーザにおいて、
   光学帯域幅フィルタ装置はレーザ発振キャビティの外に位置付けられるレーザ。
3. 請求項１に記載のレーザにおいて、
   光学帯域幅フィルタ装置は、エタロン、光学誘電体フィルタ、体積ブラッグ回折格子、複屈折フィルタ、および光格子からなる群より選択される少なくとも１つの装置を含むレーザ。
4. 請求項１に記載のレーザにおいて、
   周波数変換モジュールは、光パラメトリック発振器（ＯＰＯ）、光パラメトリック増幅器（ＯＰＡ）、およびラマン増幅器からなる群より選択される少なくとも１つの装置を含むレーザ。
5. 請求項４に記載のレーザにおいて、
   第二の波長は、ＯＰＯまたはＯＰＡからの信号光として生成されるレーザ。
6. 請求項５に記載のレーザにおいて、
   基本レーザは、ファイバレーザ、Ｎｄ：ＹＡＧ（ｎｅｏｄｙｍｉｕｍ−ｄｏｐｅｄ ｙｔｔｒｉｕｍ ａｌｕｍｉｎｕｍ ｇａｒｎｅｔ）レーザ、またはＮｄドープバンデートレーザを含むレーザ。
7. 請求項６に記載のレーザにおいて、 合計波長は約１８０ｎｍ〜２００ｎｍの間の波長であるレーザ。
8. 深ＵＶレーザ放射を生成する方法であって、
   基本波長と基本波長帯域幅を有する基本レーザ光を生成するステップと、
   基本波長の第一の部分を第二の波長に変換するステップと、
   基本波長の第二の部分から高調波波長を生成するステップと、
   第二の波長と高調波波長を合計して、出力波長を生成するステップと、
   を含み、
   基本波長の第二の部分は基本波長帯域幅の中の、第一の部分より狭い波長範囲を含む方法。
9. 請求項８に記載の方法において、
   基本波長から第一の部分と第二の部分を選択するステップをさらに含み、選択する前記ステップは、エタロン、光学誘電体フィルタ、体積ブラッグ回折格子、複屈折フィルタ、または光格子のうちの少なくとも１つにより実行される方法。
10. 請求項８に記載の方法において、
    基本波長の第一の部分を第二の波長に変換する前記ステップは、ＯＰＯ、ＯＰＡ、またはラマン増幅器により実行される方法。
11. 請求項８に記載の方法において、
    基本レーザ光を生成する前記ステップは、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ、Ｎｄドープバンデートレーザ、およびＹｂドープファイバレーザのうちの１つにより実行される方法。
12. 請求項１１に記載の方法において、
    出力波長は約１８０ｎｍ〜２００ｎｍの間の波長である方法。
13. サンプルを検査するシステムであって、
    サンプルを照明するＵＶレーザを含む照明源であって、ＵＶレーザが、基本波長からの第一の部分と基本波長からの第二の部分を、第二の部分が基本波長帯域幅の中で、第一の部分より狭い波長範囲を含むように選択するための光学帯域幅フィルタ装置を含むような照明源と、
    サンプルの光出力、反射、または透過を、光出力が第一のチャネルに対応する場合は第一のチャネルの画像モードリレイに、また光出力が第二のチャネルに対応する場合は、第二のチャネルの画像モードリレイに誘導するように構成された画像リレイ光学系と、
    第一のチャネルの画像モードリレイと第二のチャネルの画像モードリレイのリレイ出力を受け取るように構成されたセンサと、
    を含むシステム。
14. 請求項１３に記載のシステムにおいて、
    光学帯域幅フィルタ装置は、エタロン、光学誘電体フィルタ、体積ブラッグ回折格子、複屈折フィルタ、または光格子を含むシステム。
15. 請求項１３に記載のシステムにおいて、
    センサは半導体薄膜を含み、半導体薄膜は、半導体薄膜の第一の表面上に形成された回路素子と、半導体薄膜の第二の表面上に堆積された純ボロン層を含むシステム。
16. 基本波長帯域幅の基本波長を生成する基本レーザと、
    基本波長の第一の部分を第二の波長に変換する周波数変換モジュールと、
    第二の波長を基本波長の第二の部分と混合して、合計波長を生成する周波数混合モジュールと、
    基本波長から第一および第二の部分を、第二の部分が基本波長帯域幅の中の、第一の部分より狭い波長範囲を含むように選択する光学帯域幅フィルタ装置と、
    を含むレーザ。
17. 請求項１６に記載のレーザにおいて、
    光学帯域幅フィルタ装置は、レーザ発振キャビティの外に位置付けられるレーザ。
18. 請求項１６に記載のレーザにおいて、
    光学帯域幅フィルタ装置は、エタロン、光学誘電体フィルタ、体積ブラッグ回折格子、複屈折フィルタ、および光格子からなる群より選択される少なくとも１つの装置を含むレーザ。
19. 請求項１６に記載のレーザにおいて、
    周波数変換モジュールは、光パラメトリック発振器（ＯＰＯ）、光パラメトリック増幅器（ＯＰＡ）、およびラマン増幅器からなる群より選択される少なくとも１つの装置を含むレーザ。
20. 請求項１９に記載のレーザにおいて、
    第二の波長は、ＯＰＯまたはＯＰＡからの信号光として生成されるレーザ。
21. 請求項２０に記載のレーザにおいて、
    基本レーザは、約４０５ｎｍ以下の波長を生成するダイオードレーザを含むレーザ。
22. 基本波長帯域幅の基本波長を生成する基本レーザと、
    基本波長の第一の部分を第二の波長に変換する周波数変換モジュールと、
    第二の波長から高調波波長を生成する高調波変換モジュールと、
    高調波波長を基本波長の第二の波長と混合して合計波長を生成する周波数混合モジュールと、
    基本波長から第一の部分と第二の部分を、第二の部分が基本波長帯域幅の中の、第一の部分より狭い波長範囲を含むように選択する光学帯域幅フィルタ装置と、
    を含むレーザ。
23. 請求項２２に記載のレーザにおいて、
    光学帯域幅フィルタ装置はレーザ発振キャビティの外に位置付けられるレーザ。
24. 請求項２２に記載のレーザにおいて、
    光学帯域幅フィルタ装置は、エタロン、光学誘電体フィルタ、体積ブラッグ回折格子、複屈折フィルタ、および光格子からなる群より選択される少なくとも１つの装置を含むレーザ。
25. 請求項２２に記載のレーザにおいて、
    周波数変換モジュールは、光パラメトリック発振器（ＯＰＯ）、光パラメトリック増幅器（ＯＰＡ）、およびラマン増幅器からなる群より選択される少なくとも１つの装置を含むレーザ。
26. 請求項２５に記載のレーザにおいて、
    第二の波長は、ＯＰＯまたはＯＰＡからの信号光として生成されるレーザ。
27. 請求項２６に記載のレーザにおいて、
    基本レーザは、ファイバレーザ、Ｎｄ：ＹＡＧ（ｎｅｏｄｙｍｉｕｍ−ｄｏｐｅｄ ｙｔｔｒｉｕｍ ａｌｕｍｉｎｕｍ ｇａｒｎｅｔ）レーザ、またはＮｄドープバンデートレーザを含むレーザ。
28. 請求項２７に記載のレーザにおいて、合計波長は約１８０ｎｍ〜２００ｎｍの間の波長であるレーザ。
29. 深ＵＶレーザ放射を生成する方法であって、
    基本波長と基本波長帯域幅を有する基本レーザ光を生成するステップと、
    基本波長の第一の部分を第二の波長に変換するステップと、
    第二の波長と高調波波長の第二の部分を合計して出力波長を生成するステップと、
    を含み、
    基本波長の第二の部分は基本波長帯域幅の中の、第一の部分より狭い波長範囲を含む方法。
30. 請求項２９に記載の方法において、
    基本波長から第一の部分と第二の部分を選択するステップをさらに含み、選択する前記ステップは、エタロン、光学誘電体フィルタ、体積ブラッグ回折格子、複屈折フィルタ、または光格子のうちの少なくとも１つにより実行される方法。
31. 請求項２９に記載の方法において、
    基本波長の第一の部分を第二の波長に変換する前記ステップは、ＯＰＯ、ＯＰＡ、またはラマン増幅器により実行される方法。
32. 請求項２９に記載の方法において、
    基本レーザ光を生成する前記ステップは、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ、Ｎｄドープバンデートレーザ、およびＹｂドープファイバレーザのうちの１つにより実行される方法。
33. 深ＵＶレーザ放射を生成する方法であって、
    基本波長と基本波長帯域幅を有する基本レーザ光を生成するステップと、
    基本波長の第一の部分を第二の波長に変換するステップと、
    第二の波長から高調波波長を生成するステップと、
    基本波長の第二の部分と高調波波長を合計して出力波長を生成するステップと、
    を含み、
    基本波長の第二の部分は基本波長帯域幅の中の、第一の部分より狭い波長範囲を含む方法。
34. 請求項３３に記載の方法において、
    第一の部分と第二の部分を基本波長から選択するステップをさらに含み、選択する前記ステップは、エタロン、光学誘電体フィルタ、体積ブラッグ回折格子、複屈折フィルタ、または光格子のうちの少なくとも１つにより実行される方法。
35. 請求項３３に記載の方法において、
    基本波長の第一の部分を第二の部分に変換する前記ステップは、ＯＰＯ、ＯＰＡ、またはラマン増幅器により実行される方法。
36. 請求項３３に記載の方法において、
    基本レーザ光を生成する前記ステップは、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ、Ｎｄドープバンデートレーザ、およびＹｂドープファイバレーザのうちの１つにより実行される方法。
37. 請求項１５に記載の検査システムにおいて、
    イメージセンサは、電子衝撃イメージセンサをさらに含む検査システム。
38. サンプルを検査するシステムであって、
    深紫外（ＤＵＶ）レーザを含む照明源であって、これは所定の波長と帯域幅を有するＤＵＶ放射を生成し、ＤＵＶレーザが１つの波長範囲を周波数変換連鎖の１つの部分に、また別の波長範囲を周波数変換列の別の部分に誘導する光学帯域幅フィルタ装置を含むような照明源と、
    照明源からの放射をサンプルへと誘導し、そこに合焦させる光学系と、
    サンプルからの反射または散乱光を受け取る検出器と、を含み、
    光学系が、反射または散乱光を集光し、検出器へと誘導し、そこに合焦させるようにさらに構成されているシステム。
39. 請求項３８に記載のシステムにおいて、
    検出器は１つまたは複数のイメージセンサを含むシステム。
40. 請求項３９に記載のシステムにおいて、
    １つまたは複数のイメージセンサのうちの少なくとも１つのイメージセンサがＴＤＩ（ｔｉｍｅ ｄｅｌａｙ ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ）センサであるシステム。
41. 請求項３８に記載のシステムにおいて、
    サンプルを異なる入射角度から照明する１つまたは複数の照明小色をさらに含むシステム。
42. 請求項３８に記載のシステムにおいて、
    サンプルからの異なる方向への反射または散乱光を集光する１つまたは複数の集光光路を含むシステム。