JP4640029B2 - 波長変換光学系、レーザ光源、露光装置、被検物検査装置、及び高分子結晶の加工装置 - Google Patents
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Description
前記課題を解決するための第4の手段は、前記第1の手段から第3の手段のいずれかであって、前記7倍波形成光学素子と前記8倍波形成素子との間に、集光光学系を有しないことを特徴とするものである。
例えば、第2EDFA2で増幅されたピークパワー5kWの基本波を用いて7倍波形成用2倍波を最大限発生させた場合、ピークパワー4kW程度(変換効率約80%)の2倍波を出力できる。
図2に示すように約0.69kWの5倍波に対して、2倍波のピークパワーが2.5kWの場合は、5倍波から7倍波への変換効率は77%程度であるが、2倍波が4kwの場合は、変換効率は100%程度である。これは5倍波の出力にも依存するが、この傾向は略同じである。ここで変換効率は5倍波出力に対する7倍波出力で定義される。
また、基本波のパルス幅が10psの場合、その空間的なパルス幅は約1.9mmであり、高調波になるにしたがってパルス幅は短くなる。
なお、2倍波が7倍波形成光学素子11に入射するタイミングの制御は、第1のDelay装置15により行う。
図4は、本発明の第2の実施形態であるレーザ装置の光学系の概要を示す図である。図4における構成は、図1に示す構成とその一部を共通にしているので、同じ構成要素には同じ符号を付してその説明を省略する。
図7は本発明のレーザ装置21を用いて構成される高分子結晶の加工装置の概要図である。レーザ装置21から放出された紫外短パルスレーザ光139は、シャッタ132、強度調整素子133、照射位置制御機構134、集光光学系135を介して試料容器136中に入れられた高分子結晶138に集光照射される。試料容器136は、ステージ137に搭載され、光軸方向をz軸として、x−y−z直交座標系でx軸、y軸、z軸の3次元方向の移動が可能とされていると共に、z軸の周りに回転可能となっている。高分子結晶138の表面に集光照射されたレーザ光により、高分子結晶の加工が行われる。
Claims (8)
- 第1の基本波から少なくとも一つの波長変換光学素子を経て5倍波を形成する第1の波長変換光学系と、
第2の基本波から2倍波形成光学素子を経て2倍波を形成する第2の波長変換光学系と、
第3の基本波と前記2倍波形成光学素子から出射した前記2倍波とを同一光路に合成して第1の合成波を出射する第1の光学部材と、
前記第1の光学部材から出射した前記第1の合成波と前記第1の波長変換光学系から出射した前記5倍波とを同一光路に合成して第2の合成波を出射する第2の光学部材と、
前記第2の合成波を構成する前記2倍波と前記5倍波とから7倍波を形成する7倍波形成光学素子と、
前記7倍波形成光学素子から出射した前記第3の基本波と前記7倍波とから8倍波を形成する8倍波形成光学素子とを有してなる波長変換光学系。 - 第1の基本波から第1の2倍波を形成する第1の2倍波形成光学素子と、前記第1の2倍波形成光学素子から出射した前記第1の基本波と前記2倍波とから3倍波を形成する3倍波形成光学素子と、前記3倍波形成光学素子から出射した前記2倍波と前記3倍波とから5倍波を形成する5倍波形成光学素子と、を備えた第1の波長変換光学系と、
第2の基本波から第2の2倍波形成光学素子を経て第2の2倍波を形成する第2の波長変換光学系と、
第3の基本波と前記第2の2倍波形成光学素子から出射した前記第2の2倍波とを同一光路に合成して第1の合成波を出射する第1の光学部材と、
前記第1の光学部材から出射した前記第1の合成波と前記第1の波長変換光学系から出射した前記5倍波とを同一光路を合成して第2の合成波を出射する第2の光学部材と、
前記第2の合成波を構成する前記第2の2倍波と前記5倍波とから7倍波を形成する7倍波形成光学素子と、
前記7倍波形成光学素子から出射した前記第3の基本波と前記7倍波とから8倍波を形成する8倍波形成光学素子とを有してなる波長変換光学系。 - 前記第1の基本波乃至第3の基本波のパルス幅が50ps以下であることを特徴とする請求項1から2記載のいずれか一項の波長変換光学系。
- 前記7倍波形成光学素子と前記8倍波形成素子との間に、光学系を有しないことを特徴とする請求項1から3記載のいずれか一項の波長変換光学系。
- 前記第1の基本波乃至前記第3の基本波を発振する少なくとも1つのレーザ光源と、
前記第1の基本波乃至第3の基本波をそれぞれ増幅する複数の光ファイバー増幅器と、
前記第1の基本波乃至第3の基本波のうちの少なくとも2つの基本波が前記各光ファイバー増幅器に入射するタイミングをそれぞれ制御する複数の遅延装置と、
請求項1から請求項4記載のいずれか一項の波長変換光学系を備えたことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項5に記載のレーザ光源と、
所定の露光パターンが設けられたフォトマスクを保持するマスク支持部と、露光対象物を保持する対象物保持部と、
前記レーザ光源から出射される紫外光を前記マスク支持部に保持されたフォトマスクに照射させる照明光学系と、
前記照明光学系を介して前記フォトマスクに照射されてここを通過した照射光を前記対象物保持部に保持された露光対象物に照射させる投影光学系とを備えて構成されることを特徴とする露光装置。 - 請求項5に記載のレーザ光源と、
被検物を保持する支持部と、
前記被検物の投影像を検出する検出器と、
前記レーザ光源から出射される紫外光を前記支持部に保持された被検物に照射させる照明光学系と、
前記照明光学系を介して前記被検物に照射されて、通過した照明光を前記検出器に投影させる投影光学系とを有することを特徴とする被検物検査装置。 - 高分子結晶を加工する高分子結晶の加工装置であって、請求項5に記載のレーザ光源と、当該レーザ光源から放出されるレーザ光を、被加工物である高分子結晶に導き、当該高分子結晶の被加工場所に集光させる光学系と、
前記光学系と前記高分子結晶の相対位置を変化させる機構を有することを特徴とする高分子結晶の加工装置。
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