JPH1115034A - レーザ光発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基本波レーザ光から非線形光学素子を用いて
第５高調波光を生成するレーザ光発生装置において、第
４高調波発生器としてＣＬＢＯを用いる際に第３高調波
光の発生を防止した簡便なレーザ光発生装置を提供す
る。 【解決手段】 第２高調波発生器２と第４高調波発生器
３間の光路上に基本波光と第２高調波光の偏光面を同一
にする波長板５を配設し、且つ、第４高調波発生器３と
第５高調波発生器４間の光路上に基本波光と第４高調波
光の偏光面を同一にする波長板６を配設する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光源のレー
ザ光から非線形光学素子を用いて効率よく波長変換し、
高次高調波のレーザ光を生成するレーザ光発生装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】半導体集積回路は高密度化が進み、半導
体ウェハの加工寸法はますます微細化している。これに
つれて、当然半導体ウェハ製造に用いる露光装置の光源
の短波長化が要請されてきている。従来から、露光用光
源の高出力化、短波長化については色々と研究されてお
り、波長変換手段によって短波長化する方法、装置が開
発されている。波長変換により短波長化すればするほ
ど、高出力を得ることが難しくなるために、その基本波
となる光源の高出力化が必要であることは言うまでもな
い。ここで、たとえば波長１０６４ｎｍのレーザ光を発
生するネオジミウムイットリウムアルミニウムガーネッ
ト（以下、Ｎｄ：ＹＡＧと記す）レーザ光から第５高調
波、 すなわち波長２１３ｎｍのレーザ光を生成する装
置は、比較的高いエネルギー変換効率を示し、小型であ
り比較的安価にて供給されるため、次世代露光装置の光
源としては有望である。ところが、露光用光源として用
いることが可能であるような空間的コヒーレンス、スペ
クトル的特徴を備えたものは高出力化が容易ではないの
で、非線形波長変換素子を用いる場合、その波長変換効
率をできるだけ高めることが望まれる。波長変換効率が
高い方が好ましいことは、その分、基本波光源の出力も
下げられるという経済的理由からも明らかである。

【０００３】従来、このような波長変換は、たとえば、
図２に示すような装置を用いて行われてきた。図２は、
レーザ光源１より出射された基本波となるレーザ光から
第２高調波発生器（ＳＨＧ）２、第４高調波発生器（４
ＨＧ）３、第５高調波発生器（５ＨＧ）４を介して、第
５高調波のレーザ光を生成するレーザ光発生装置１２０
の基本的構成を示すブロック図である。以下、この装置
を用いて第５高調波のレーザ光を生成する動作につい
て、図２を参照して説明する。

【０００４】まず、基本波であるレーザ光の発生源とな
るレーザ光源１として、たとえば、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ
を用いるものとする。したがって、基本波は１０６４ｎ
ｍの波長となる。また、このレーザ光は半導体製造装置
の露光装置の光源に使用するものとし、波長２１３ｎｍ
の高出力レーザ光の発生装置１２０となる。したがっ
て、レーザ光源１は縦単一モード発振するパルスレーザ
光源とし高変換効率、高出力をめざす。このレーザ光源
１を出射した基本波レーザ光は、第２高調波発生器２に
入射する。この第２高調波発生器２には非線形光学結晶
を用いる。たとえば、ほう酸リチウム（ＬＢＯ）が一般
的に使用されているが、燐酸２水素カリウム（ＫＤ
Ｐ）、ほう酸セシウムリチウム（ＣＬＢＯ）でも可能で
ある。パルスモードの基本波レーザ光はこの非線形光学
素子で第２高調波のレーザ光を生成する。したがって、
第２高調波発生器２の出力端には第２高調波と残存する
基本波のレーザ光が出射される。そして、この第２高調
波光と基本波光はダイクロイックミラー８で分離され
る。図２に示すような光学系では、第２高調波である５
３２ｎｍの光はダイクロイックミラー８を透過して第４
高調波発生器３に入射し、残存する基本波の１０６４ｎ
ｍの光はダイクロイックミラー８で反射され、その光路
を曲げられ、第２高調波の光と分離される。この基本波
光は図示するように２つのミラー１０、１１で形成する
光路をとり、ダイクロイックミラー９に入射する。

【０００５】第４高調波発生器３に入射した第２高調波
光は、第２高調波発生器と同様に、非線形光学結晶を用
いて、第２高調波の第２高調波、すなわち基本波に対し
第４次の高調波光を生成する。言うまでもないが、ここ
で用いる非線形光学結晶の機能はあくまで２次の非線形
特性を用いるもので、４次の非線形特性を用いるもので
はない。したがって、第４高調波発生器３の出力端に
は、第４高調波と残存する第２高調波のレーザ光が出射
される。これらの光は、ダイクロイックミラー９で前述
の第２高調波発生器２を出射した基本波光と合波され
る。ただし、ダイクロイックミラー９の光学特性によ
り、第２高調波光はフィルタリングされて減衰し、第５
高調波発生器４には波長１０６４ｎｍの基本波と波長２
６６ｎｍの第４高調波と一部の第２高調波の光が入射す
る。この第５高調波発生器４においても非線形光学結晶
を用い、その非線形特性を利用して、基本波と第４高調
波との和周波混合を行う。したがって、第５高調波発生
器４の出力端には、新たに生成された第５高調波と残存
する基本波と第２高調波と第４高調波のレーザ光が出力
される。これらの光をプリズム７で分離して、所望の第
５高調波（波長２１３ｎｍ）光を得る。なお、第４高調
波発生器３、第５高調波発生器４に用いる非線形光学結
晶としては、通常、ベータほう酸バリウム（ＢＢＯ）等
が使用されている。

【０００６】ところが、上述の方法によると、ダイクロ
イックミラー８で基本波光を分離した後、再び、第４高
調波発生器３からの出力光に対し光軸を重ね合わせる作
業、具体的にはダイクロイックミラー８、９、およびミ
ラー１０、１１の光学調整が非常に複雑で難しく、装置
の簡単な製作の妨げとなっている。さらに、図示してい
ないが、上述のレーザ光の光路上に必要に応じて光学レ
ンズ、たとえば集光レンズ等が用いられており、これら
を含めて、光学的な調整が必要となる。

【０００７】そこで、このような波長分離を行わず、適
当な非線形光学素子を選択することにより、図３に示す
ような構成でも良好な第５高調波光が得られることが分
かってきた。このレーザ光発生装置１３０は図２に示し
たレーザ光発生装置１２０との相異点は波長分離し、ま
た合波するダイクロイックミラー系が省かれているのみ
で、レーザ光源１、第２高調波発生器２、第４高調波発
生器３、第５高調波発生器４、プリズム７で構成され、
高調波発生器に用いる非線形光学結晶の基本的動作は同
じである。

【０００８】このような構成のレーザ光発生装置１３０
での本発明者の実験では、基本波光源として１２ＷのＮ
ｄ：ＹＡＧレーザ光出力を用いて、第５高調波として約
１Ｗの光出力を得ることができた。このときは、第２高
調波発生器２用の非線形光学素子としてはＬＢＯ結晶を
用いた。ＬＢＯは商品ベースでも入手可能であり、その
高効率、耐レーザ損傷性から広く用いられているもので
ある。また、第４高調波器３用の非線形光学素子として
は、角度４７．６度でカットしたＢＢＯ結晶を用いた。
第４高調波発生用としては、ＬＢＯは位相整合条件がと
れず、用いることはできない。ＢＢＯはやはりその高い
損傷しきい値などから、紫外光発生用としては、広く用
いられるものである。第５高調波発生用としては角度５
０．４度でカットしたＢＢＯを用いた。波長分離を行わ
ない系での良好な効率と同時に、実験の簡便性が証明さ
れた。

【０００９】ところで、近年開発された紫外光発生用結
晶である ＣＬＢＯを用いた研究が盛んに行われてい
る。ＣＬＢＯはやはり高い耐レーザ損傷性と、変換効率
の高さから注目されている光学素子である。しかし、Ｃ
ＬＢＯを第４高調波および第５高調波発生用結晶として
用い、図３に示すような簡便な実験方法であるレーザ光
発生装置１３０系で高調波の生成を試みると、図２に示
すような波長分離を行うレーザ光発生装置１２０系より
第４高調波の発生効率が下がってしまったとのＹ．Ｋ．
Ｙａｐ等の報告がある（ＯＰＴＩＣＳ ＬＥＴＴＥＲＳ
Ｖｏｌ．２１，Ｎｏ．２１，ｐｐ．１３４８−１３５
０）。レーザ光発生装置１２０系とレーザ光発生装置１
３０系における第４高調波発生器３に対する入力を同じ
にして、第４高調波発生器３の出力端における第４高調
波の光出力レベルを比較したものである。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者は、
第４高調波発生器３にＣＬＢＯを用いたレーザ光発生装
置１３０におけるレーザ光の動作について、一連の計算
と分析を行った結果、ＣＬＢＯ固有の第４高調波の光出
力が低下するという現象の原因は基本波のパラメトリッ
ク増幅にあると推測するに至った。以下に、この計算と
分析結果について述べる。

【００１１】ＣＬＢＯの屈折率は森らによって与えられ
ている（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３
４，Ｐｔ．２，Ｎｏ．３Ａ，ｐｐ．Ｌ２９６−Ｌ２９８
（１９９５））。この波長分散より、各相互作用の位相
整合角を求めることができる。その結果、ＣＬＢＯ中の
Ｎｄ：ＹＡＧレーザの第４高調波光発生のための位相
整合角は ６２．５度と求められた。これはタイプ１の
位相整合を仮定している。すなわち、５３２ｎｍの第２
高調波光は常光線、発生される２６６ｎｍの第４高調波
光は異常光線となっている。タイプ２の第４高調波光発
生の位相整合はＣＬＢＯでは不可能である。図３に示す
系では６２．５度にカットされた第４高調波発生器３の
ＣＬＢＯ結晶中では、第２高調波光が常光線として、そ
してそれと垂直に偏光された基本波光が異常光線として
存在する。そして異常光線の第４高調波光が発生され
る。

【００１２】ここで、異常光線の基本波光と、異常光線
の第４高調波光との相互作用について注目する。本来、
第４高調波光は、基本波光と第３高調波光との間の和周
波によっても発生可能である。そこで、和周波混合の場
合の位相整合角を求めると、６１．３度となる。これは
上述の伝搬方向６２．５度と非常に近い値であることが
分かる。厳密な角度は約１度程度異なっているが、結晶
に対して入力光をフォーカスしている場合には、ビーム
の収束、発散角がこれよりも大きくなり、部分的に上記
位相整合角は満たされる。

【００１３】ここで、結晶中には、初期的には第３高調
波光は発生していないことは明らかである。したがっ
て、上述の第３高調波を含む相互作用は第４高調波と基
本波の差周波混合による第３高調波光発生、あるいは見
方を変えると第４高調波によって励起される基本波光の
パラメトリック増幅またはパラメトリックバックコンバ
ージョンととらえることができる。呼び方は見方による
が、エネルギーの流れとしては第４高調波から基本波と
第３高調波に向かっている。すなわち、第２高調波光か
ら発生した第４高調波光は、そのエネルギーを第３高調
波光と基本波光に分配してしまい、本来変換効率のよい
第４高調波光を発生すべきところ、その出力が減少して
しまっているものと考えられる。

【００１４】このことは、基本波を分離してから第４高
調波発生を行った場合に良好な効率が得られていること
と一致している。つまり、上述の報告にあった、基本波
を分離しないで第４高調波発生をＣＬＢＯ結晶で行うこ
とは、パラメトリックバックコンバージョンが第４高調
波発生器３うちで起こっている可能性が大と考えられ
る。

【００１５】本発明は上述のような問題を解決するため
になされたもので、基本波レーザ光から非線形光学素子
を用いて第５高調波光を生成するレーザ光発生装置にお
いて、第４高調波発生器としてＣＬＢＯを用いる際に第
３高調波光の発生を防止し、且つ、簡便に製作、使用す
ることができるレーザ光発生装置を提供することを目的
とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明のレーザ光発生装置は、パルスモードで発
振し、基本波光を出射するレーザ光源と、基本波光から
第２高調波光を生成する第２高調波生成手段と、第２高
調波光から第４高調波光を生成する第４高調波生成手段
と、基本波光と第４高調波光から第５高調波光を生成す
る第５高調波生成手段とを具備するものである。そして
さらに、第２高調波生成手段の光出力端と第４高調波生
成手段の光入力端を結ぶ光路上に、第４高調波生成手段
への入力光のうち、基本波光の偏光面と第２高調波光の
偏光面とが同一面となるように調整する第１の偏光調整
手段を配設すると共に、第４高調波生成手段の光出力端
と第５高調波生成手段の光入力端を結ぶ光路上に、第５
高調波生成手段への入力光のうち、基本波光の偏光面と
第４高調波光の偏光面とが同一面となるように調整する
第２の偏光調整手段を配設するものである。

【００１７】上述の第１の偏光調整手段は、基本波光に
対しては全波長板としての特性を有して基本波光の偏光
面を保存し、第２高調波光に対しては１／２波長板とし
ての特性を有して第２高調波光の偏光面のみを調整する
ものである。また、上述の逆で、第１の偏光調整手段
は、基本波光に対しては１／２波長板としての特性を有
して基本波光の偏光面のみを調整し、第２高調波光に対
しては全波長板としての特性を有して第２高調波光の偏
光面を保存するものであってもよい。

【００１８】同様に、第２の偏光調整手段も、基本波光
に対しては全波長板としての特性を有して基本波光の偏
光面を保存し、第４高調波光に対しては１／２波長板と
しての特性を有して第４調波光の偏光面のみを調整する
ものである。また、上述の逆で、第２の偏光調整手段
は、基本波光に対しては１／２波長板としての特性を有
して基本波光の偏光面のみを調整し、第４高調波光に対
しては全波長板としての特性を有して第４高調波光の偏
光面を保存するものであってもよい。

【００１９】さらに、第２高調波生成手段、第４高調波
生成手段および第５高調波生成手段は、それぞれが非線
形光学素子であって、特に、第４高調波生成手段の非線
形光学素子はＣＬＢＯ結晶を具備するものである。

【００２０】上述のような構成のレーザ光発生装置おい
て、第１の偏光調整手段として配設する波長板が第４高
調波生成手段内での第３高調波光の発生を防止し、さら
に、第２の偏光調整手段として配設する波長板が第４高
調波生成手段を出射した基本波光と第４高調波光の偏光
面を同一にすることにより、第５高調波光の生成を容易
にしている。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。本発明のレーザ光
発生装置は、半導体製造装置の露光装置の光源等に使用
するため、基本波光であるパルスモードのレーザ光源か
ら波長変換により短波長である第５高調波のレーザ光を
生成するものである。図１はその実施の形態に係るレー
ザ光発生装置の基本的構成を示すブロック図である。本
実施の形態に係るレーザ光発生装置１１０は、レーザ光
源１、第２高調波発生器２、第４高調波発生器３、第５
高調波発生器４と２つの波長板５、６およびプリズム７
で構成されている。なお、従来の技術で記したものと同
一部材または同一機能のものは同一符号で示している。

【００２２】つぎに、実施の形態に係るレーザ光発生装
置１１０の動作を図１を参照して説明する。まず、縦単
一モード発振するパルスレーザ光源１には、たとえば，
Ｎｄ：ＹＡＧレーザを用いる。したがって、基本波の波
長は１０６４ｎｍとなる。このレーザ光は第２高調波発
生器２に入射して、第２高調波光を生成する。この過程
は従来の技術で述べたのと同様である。したがって、詳
細な説明は略す。

【００２３】第２高調波発生器２を出射した第２高調波
光と残存する基本波光は偏光調整手段となる波長板５に
入射する。ところで、この第２高調波光の偏光面は基本
波光の偏光面と直交している。この互いに直交した偏光
面を有した状態で、図３に示すレーザ光発生装置１３０
のように、第４高調波発生器３に入射すると、その非線
形光学素子の特性により、第４高調波光を生成すると同
時に、発明が解決しようとする課題の中で述べたような
パラメトリックバックコンバージョンが発生して、第３
高調波光を生成する虞があり、第４高調波光への変換効
率が悪くなる。

【００２４】そこで、本発明のレーザ光発生装置１１０
においては、第２高調波発生器２と第４高調波発生器３
との間の光路上に基本波光の偏光面と第２高調波光の偏
光面とを同一面にする波長板５が配設されている。この
波長板５は複屈折特性を有する水晶板などを用い、結晶
のカット面やその厚みを選択して偏光面を所望の角度、
回転させるものである。波長板５の場合、基本波光、第
２高調波光の偏光面に対して，ＦＡＳＴ軸およびＳＬＯ
Ｗ軸が４５度の角度をなすよう配置され、基本波光に対
してはＦＡＳＴ軸、ＳＬＯＷ軸それぞれに沿った偏光成
分の間に生じる位相差は２πの整数倍であり、偏光面は
保存される。第２高調波光に対しては、ＦＡＳＴ軸、Ｓ
ＬＯＷ軸それぞれに沿った偏光成分の間にπの位相差が
生じ、偏光面が９０度回転される特性を有する。したが
って９０度回転された第２高調波光の偏光面は基本波光
の偏光面と平行になる。なお、波長板５の特性は、第２
高調波光に対して、偏光面の回転が生ぜず、基本波光に
対してのみ、９０度の偏光面の回転が起きる特性であっ
ても、同じ効果が得られる。

【００２５】このようにして、基本波光と同一偏光面を
有する第２高調波光は、第４高調波発生器３に入射し
て、第２高調波の第２高調波である第４高調波光に変換
される。ここで、第４高調波発生器３として変換効率の
高いＣＬＢＯを用いる。しかし、この非線形光学素子で
パラメトリック増幅されるような光は存在せず、第３高
調波光が生成される虞はない。したがって、第４高調波
発生器３の出力端には、変換された第４高調波と残存す
る第２高調波および基本波のレーザ光が出射される。つ
ぎに、この第４高調波と基本波との和周波をとり、第５
高調波光を生成するのは従来の技術で述べた装置系と同
じである。

【００２６】しかし、この第４高調波光の偏光面は、基
本波光の偏光面に対して９０度異なっている。そこで、
ここでも、両者の偏光面を同一面にする必要が生じてい
る。したがって、第４高調波発生器３と第５高調波発生
器４との間の光路上に、波長板５と同じような機能の波
長板６が配設されている。この波長板６もまた複屈折特
性を有する水晶板などを用い、結晶のカット面やその厚
みを選択して偏光面を所望の角度だけ回転させる。波長
板６の場合は、基本波光と第４高調波光の偏光面に対し
て，ＦＡＳＴ軸およびＳＬＯＷ軸が４５度の角度をなす
ように配置され、基本波光に対してはＦＡＳＴ軸、ＳＬ
ＯＷ軸それぞれに沿った偏光成分の間に生じる位相差は
２πの整数倍であり、偏光面は保存される。第４高調波
光に対しては、ＦＡＳＴ軸、ＳＬＯＷ軸それぞれに沿っ
た偏光成分の間にπの位相差が生じ、偏光面が９０度回
転される特性を有する。したがって９０度回転された第
４高調波光の偏光面は基本波光の偏光面と平行になる。
なお、波長板６の特性は、第４高調波光に対して、偏光
面の回転が生ぜず、基本波光に対してのみ、９０度の偏
光面の回転が起きる特性であっても、同じ効果が得られ
る。

【００２７】このようにして、基本波光と同一偏光面を
有する第４高調波光は、第５高調波発生器４に入射し
て、非線形光学素子で基本波と第４高調波の和周波混合
が行われ、第５高調波光が生成される。なお、本実施の
形態例では、第５高調波発生器４としても、変換効率の
高いＣＬＢＯを用いている。第５高調波発生器４の出力
端には、波長変換された第５高調波光と、残存する第４
高調波、第２高調波および基本波の光が出射される。こ
れらの出射光を、プリズム７により、分散し、所望の波
長２１３ｎｍの第５高調波光を得る。

【００２８】以上、本発明の実施の形態例を説明した
が、本発明は、この実施の形態例に何ら限定されるもの
ではなく、非線形光学結晶の各高調波に対する位相整合
角が接近しており、いずれかの波長の偏光面を変えるこ
とで、所望の相互作用を妨げることなく、且つ、偏光面
を変えなかった場合に較べて、副次的な望ましくない効
果を抑制できることが可能な場合には特に有効である。

【００２９】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、第
４高調波発生器としてＣＬＢＯを用いる装置において
も、第４高調波発生器内でパラメトリック増幅が行われ
ることがなく、したがって第３高調波光の発生を防止で
き、高い変換効率で第５高調波光を生成でき、且つ、こ
のレーザ光発生装置は簡便に製作、使用することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態に係るレーザ光発生装置
の基本的構成を示すブロック図である。

【図２】 従来のレーザ光発生装置の基本的構成を示す
ブロック図である。

【図３】 従来の他のレーザ光発生装置の基本的構成を
示すブロック図である。

【符号の説明】

１…レーザ光源、２…第２高調波発生器、３…第４高調
波発生器、４…第５高調波発生器、５，６…波長板、７
…プリズム、８，９…ダイクロイックミラー、１０，１
１…ミラー、１１０，１２０，１３０…レーザ光発生装
置。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 パルスモードで発振し、基本波光を出射
   するレーザ光源と、 前記基本波光から第二高調波光を生成する第二高調波生
   成手段と、 前記第二高調波光から第四高調波光を生成する第四高調
   波生成手段と、 前記基本波光と前記第四高調波光から第五高調波光を生
   成する第五高調波生成手段とを具備するレーザ光発生装
   置において、 前記第二高調波生成手段の光出力端と前記第四高調波生
   成手段の光入力端を結ぶ光路上に、前記第四高調波生成
   手段への入力光のうち、前記基本波光の偏光面と前記第
   二高調波光の偏光面とが同一面となるように調整する第
   １の偏光調整手段を配設すると共に、 前記第四高調波生成手段の光出力端と前記第五高調波生
   成手段の光入力端を結ぶ光路上に、前記第五高調波生成
   手段への入力光のうち、前記基本波光の偏光面と前記第
   四高調波光の偏光面とが同一面となるように調整する第
   ２の偏光調整手段を配設することを特徴とするレーザ光
   発生装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載のレーザ光発生装置におい
   て、 前記第１の偏光調整手段は、前記基本波光に対しては全
   波長板としての特性を有して前記基本波光の偏光面を保
   存し、前記第二高調波光に対しては１／２波長板として
   の特性を有して前記第二高調波光の偏光面のみを調整す
   ることを特徴とするレーザ光発生装置。
3. 【請求項３】 請求項１記載のレーザ光発生装置におい
   て、 前記第１の偏光調整手段は、前記基本波光に対しては１
   ／２波長板としての特性を有して前記基本波光の偏光面
   のみを調整し、前記第二高調波光に対しては全波長板と
   しての特性を有して前記第二高調波光の偏光面を保存す
   ることを特徴とするレーザ光発生装置。
4. 【請求項４】 請求項１記載のレーザ光発生装置におい
   て、 前記第２の偏光調整手段は、前記基本波光に対しては全
   波長板としての特性を有して前記基本波光の偏光面を保
   存し、前記第四高調波光に対しては１／２波長板として
   の特性を有して前記第四高調波光の偏光面のみを調整す
   ることを特徴とするレーザ光発生装置。
5. 【請求項５】 請求項１記載のレーザ光発生装置におい
   て、 前記第２の偏光調整手段は、前記基本波光に対しては１
   ／２波長板としての特性を有して前記基本波光の偏光面
   のみを調整し、前記第四高調波光に対しては全波長板と
   しての特性を有して前記第四高調波光の偏光面を保存す
   ることを特徴とするレーザ光発生装置。
6. 【請求項６】 請求項１記載のレーザ光発生装置におい
   て、 前記第二高調波生成手段、前記第四高調波生成手段およ
   び前記第五高調波生成手段は、それぞれが非線形光学素
   子であることを特徴とするレーザ光発生装置。
7. 【請求項７】 請求項６記載のレーザ光発生装置におい
   て、 前記第四高調波生成手段の前記非線形光学素子は、ほう
   酸セシウムリチウム（（ＣＬＢＯ）結晶を具備すること
   を特徴とするレーザ光発生装置。