JP2017222532A - シリカの製造方法およびシリカ - Google Patents
シリカの製造方法およびシリカ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017222532A JP2017222532A JP2016117876A JP2016117876A JP2017222532A JP 2017222532 A JP2017222532 A JP 2017222532A JP 2016117876 A JP2016117876 A JP 2016117876A JP 2016117876 A JP2016117876 A JP 2016117876A JP 2017222532 A JP2017222532 A JP 2017222532A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica
- less
- particle size
- water
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
Description
一次凝集体を形成させる微粒子シリカは、平均一次粒子径が50nm以下であれば特に限定されず、ケイ酸ナトリウムを原料として調製されたシリカ(湿式シリカ)や、アルコキシシランなどのシラン化合物を原料として調製されたシリカなどが挙げられる。なかでも、微粒子シリカの一次粒子径を制御できることから均質な粒径のシリカが得られるため、溶媒を除去する際に、粒子が最密充填されてしまうという問題を本発明により解決できるという理由から、シラン化合物を原料として調製されたシリカが好ましく、コストおよび安全性の観点からアルコキシシランがより好ましい。
本発明における一次凝集体とは、微粒子シリカの粒子が数十〜数百個凝集することで形成された凝集体であり、シリカクラスターとも称される。この一次凝集体を形成させる方法としては、塩化ナトリウムなどの塩を、微粒子シリカ分散水溶液に所定量添加し、所定のpHおよび温度環境下で熟成させる方法が挙げられる。
前記の一次凝集体を形成させた後、乾燥させることで分散性に優れたシリカを製造することもできるが、一次凝集体を含む水溶液に対し水溶性化合物を添加することで、さらにシリカの自己凝集性が低下し、より分散性に優れたシリカを製造することができる。
一次凝集体を含む水溶液に対し水溶性化合物を添加した場合、洗浄により、過剰の水溶性分子を除去することが好ましい。洗浄回数は加えた水溶性分子の量や洗浄液の量に依存するが、2〜3回の洗浄が好ましい。回数が少ないと、水溶性分子が残存して、シリカとしての性能が悪くなるおそれがある。回数が多いとシリカの回収率が悪くなるおそれがある。
洗浄終了後、オーブンなどで乾燥させることで本発明の分散性に優れたシリカを製造することができる。乾燥条件としては特に限定されず、従来の方法に従って乾燥させればよい。例えば、乾燥温度は80〜120℃、乾燥時間は3〜24時間で行えばよい。
本発明の製造方法により得られるシリカは分散性に優れる。本発明における分散性の評価は、所定濃度のシリカを添加した水に対して超音波分散処理を行い、処理後のシリカ分散液中の粒度分布を測定し、粒子径が1μm以下の粒子の存在率で示す。1μm以下の粒子の存在率が大きい程、水に分散させた時の再分散性に優れることを示す。
テトラエトキシシラン:Sigma−Aldrich社製
L−リシン:東京化成(株)製
塩化ナトリウム:和光純薬工業(株)製
ジエチレングリコール:和光純薬工業(株)製特級
濃硫酸:和光純薬工業(株)製
ビーカーにテトラエトキシシラン71.2gおよび純水428gを加え、リシン0.1gを添加してpH10に調整した。得られた水溶液を60℃で72時間撹拌し、液相が均一になったことを確認した後、硫酸を添加してpH7.5に調整し、80℃で24時間熟成させた。その後、さらに10%の硫酸を添加し、pHを3に下げて反応を止めた。結果、平均一次粒子径が18nmの微粒子シリカ分散液を得た。平均一次粒子径は光散乱光度計(大塚電子(株)製 ELSZ−2)により確認した。
実施例1〜5の微粒子シリカ分散液について、全体の濃度が1質量%になるように塩化ナトリウムを添加し、10分間撹拌した後、80℃で24時間熟成させてシリカの一次凝集体を形成させた。得られた一次凝集体の粒度分布をレーザー回折式粒度分布計((株)堀場製作所製 LA−950V2)にて測定し、平均粒度D50を算出した。結果を表1に示す。なお、比較例1の微粒子シリカについては一次凝集体の形成を行わなかった。
実施例2〜5の一次凝集体の分散液に、シリカ100質量部に対する含有量が、表1に示す含有量となるようにエチレングリコールを添加し、室温で1時間撹拌した。その後、4000rpmで10分間遠心分離後、上澄み除去を行い、固形分を得た。この固形分を冷凍庫に入れて凍結させた後、室温に戻し、分離した水分を上澄みとしてさらに除去した。さらに過剰の純水を添加し、遠心分離−上澄み除去−凍結−融解の操作を、さらに2回繰り返し行った。最終的な分散液のpHは7.1となった。
乾燥、実施例1〜5のシリカ分散液を、遠心分離し、得られた固形分をオーブンを用いて80℃で24時間乾燥させて粉末状シリカを得た。なお、比較例1については一次凝集体を形成させていないため、遠心分離をしても固形分を回収することができなかった。
得られた粉末状シリカの質量と仕込んだテトラエトキシシランの質量より、回収率を算出した。結果を表1に示す。なお、比較例1については粉末状のシリカが回収されなかったため0質量%とした。
得られた粉末状シリカを純水50gにシリカ濃度が0.4質量%となるように分散させた分散液を、超音波出力130W、15分の条件で分散液を冷却しながら、超音波ホモジナイザーによりシリカの凝集体を分解、分散させ、得られたシリカ分散液中の粒度分布を、レーザー回折式粒度分布計により測定し、全体の積算強度から1μm以下の積算強度の百分率を算出することで、1μm以下の粒子の存在率を求めた。結果を表1に示す。
Claims (7)
- 平均一次粒子径が50nm以下のシリカを凝集させて平均粒度D50が1μm以下の一次凝集体を形成させた後、乾燥させるシリカの製造方法。
- 前記一次凝集体を形成させた後、水溶性化合物を添加する請求項1記載の製造方法。
- 水溶性化合物として、エチレングリコールおよび/またはポリエチレングリコールを使用する請求項2記載の製造方法。
- 水溶性化合物を添加した後、洗浄を行う請求項2または3記載の製造方法。
- 前記洗浄として、凍結および融解操作を含む請求項4記載の製造方法。
- 原料としてアルコキシシランを用いた請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
- 0.4質量%のシリカを含有する分散液を超音波により分散処理した後の粒度分布において、粒子径が1μm以下の存在率が70%以上であるシリカ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016117876A JP6950151B2 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | シリカの製造方法およびシリカ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016117876A JP6950151B2 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | シリカの製造方法およびシリカ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017222532A true JP2017222532A (ja) | 2017-12-21 |
JP6950151B2 JP6950151B2 (ja) | 2021-10-13 |
Family
ID=60686217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016117876A Active JP6950151B2 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | シリカの製造方法およびシリカ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6950151B2 (ja) |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003277025A (ja) * | 2002-03-19 | 2003-10-02 | Ube Nitto Kasei Co Ltd | 金属酸化物球状粒子およびその製造方法 |
WO2005075068A1 (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Taiyo Kagaku Co., Ltd. | 多孔質シリカを含有する吸着能付与剤 |
JP2006265097A (ja) * | 1998-09-03 | 2006-10-05 | Degussa Ag | 沈降ケイ酸、その製法並びにそれを含有するゴム混合物及び加硫ゴム |
JP2011513189A (ja) * | 2008-03-10 | 2011-04-28 | ロディア オペレーションズ | 沈降シリカの新規製造方法、特定の形態、特定の粒度及び特定の多孔度を有する沈降シリカ並びに特に重合体の強化のためのそれらの使用 |
JP2012121732A (ja) * | 2010-12-06 | 2012-06-28 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 無機酸化物微粒子の水分散液 |
JP2013091589A (ja) * | 2011-10-27 | 2013-05-16 | Nissan Chem Ind Ltd | 多孔質2次凝集シリカゾル及びその製造方法 |
US20140070139A1 (en) * | 2011-03-22 | 2014-03-13 | Cornell University | Nanoscale ionic material (nim) compositions via acid/base reaction |
JP2014056843A (ja) * | 2008-01-29 | 2014-03-27 | Hitachi Maxell Ltd | 電気化学素子用セパレータおよび電気化学素子 |
JP2016001513A (ja) * | 2014-05-20 | 2016-01-07 | 花王株式会社 | 磁気ディスク基板用研磨液組成物 |
JP5853117B1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-02-09 | 花王株式会社 | 磁気ディスク基板用研磨液組成物 |
JP2016094619A (ja) * | 2015-12-15 | 2016-05-26 | 住友ゴム工業株式会社 | 表面が有機修飾された球状シリカ及びその製造方法 |
-
2016
- 2016-06-14 JP JP2016117876A patent/JP6950151B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006265097A (ja) * | 1998-09-03 | 2006-10-05 | Degussa Ag | 沈降ケイ酸、その製法並びにそれを含有するゴム混合物及び加硫ゴム |
JP2003277025A (ja) * | 2002-03-19 | 2003-10-02 | Ube Nitto Kasei Co Ltd | 金属酸化物球状粒子およびその製造方法 |
WO2005075068A1 (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Taiyo Kagaku Co., Ltd. | 多孔質シリカを含有する吸着能付与剤 |
JP2014056843A (ja) * | 2008-01-29 | 2014-03-27 | Hitachi Maxell Ltd | 電気化学素子用セパレータおよび電気化学素子 |
JP2011513189A (ja) * | 2008-03-10 | 2011-04-28 | ロディア オペレーションズ | 沈降シリカの新規製造方法、特定の形態、特定の粒度及び特定の多孔度を有する沈降シリカ並びに特に重合体の強化のためのそれらの使用 |
JP2012121732A (ja) * | 2010-12-06 | 2012-06-28 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 無機酸化物微粒子の水分散液 |
US20140070139A1 (en) * | 2011-03-22 | 2014-03-13 | Cornell University | Nanoscale ionic material (nim) compositions via acid/base reaction |
JP2013091589A (ja) * | 2011-10-27 | 2013-05-16 | Nissan Chem Ind Ltd | 多孔質2次凝集シリカゾル及びその製造方法 |
JP2016001513A (ja) * | 2014-05-20 | 2016-01-07 | 花王株式会社 | 磁気ディスク基板用研磨液組成物 |
JP5853117B1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-02-09 | 花王株式会社 | 磁気ディスク基板用研磨液組成物 |
JP2016094619A (ja) * | 2015-12-15 | 2016-05-26 | 住友ゴム工業株式会社 | 表面が有機修飾された球状シリカ及びその製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
赤崎忠行,福永登志一: "ゲル法シリカの特徴と応用", 東ソー研究・技術報告, vol. 45, JPN6020013290, 31 December 2001 (2001-12-31), JP, pages 65 - 69, ISSN: 0004418325 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6950151B2 (ja) | 2021-10-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5395045B2 (ja) | タイヤ用ゴム組成物及びスタッドレスタイヤ | |
JP6526072B2 (ja) | 複合体及びその製造方法 | |
KR102397679B1 (ko) | 침강 실리카의 신규 제조 방법, 신규 침강 실리카, 및 특히 중합체 강화를 위한 이의 용도 | |
JP5770559B2 (ja) | タイヤ用ゴム組成物及びスタッドレスタイヤ | |
JP2004523645A (ja) | ナノ粒子酸化亜鉛のアニオン性で安定化された水性分散液、該水性分散液の製造法および該水性分散液の使用 | |
KR102398810B1 (ko) | 침강 실리카의 신규 제조 방법, 신규 침강 실리카, 및 특히 중합체 강화를 위한 이의 용도 | |
CN105899593B (zh) | 在混合和加工含有极性填料的橡胶组合物上的改善 | |
JP5997283B2 (ja) | シリカ・スチレンブタジエンゴム複合体及びその製造方法、並びに、ゴム組成物及び空気入りタイヤ | |
KR101804877B1 (ko) | 침강 실리카의 신규 제조 방법, 신규 침강 실리카, 및 특히 중합체 보강을 위한 그의 용도 | |
CN106589485A (zh) | 并用aeo和硅烷偶联剂改性白炭黑及其与橡胶复合的方法 | |
JP5670768B2 (ja) | 複合体、その製造方法、ゴム組成物及び空気入りタイヤ | |
TW201545984A (zh) | 製備沈澱二氧化矽之方法,沈澱二氧化矽及其用途,特別是用於聚合物之增強 | |
JP5860661B2 (ja) | シリカの製造方法及びタイヤ用ゴム組成物 | |
BR112017002610B1 (pt) | Método para a fabricação de um produto de sílica funcionalizada | |
JP2006225600A (ja) | ゴム組成物を用いた空気入りタイヤ | |
JP5860660B2 (ja) | シリカ・天然ゴム複合体及びその製造方法、ゴム組成物及び空気入りタイヤ | |
JP2007291205A (ja) | 天然ゴムウェットマスターバッチ及びそれを用いたゴム組成物 | |
JP6950151B2 (ja) | シリカの製造方法およびシリカ | |
JP2008231152A (ja) | ウェットマスターバッチ及びその製造方法、並びにそれを用いたゴム組成物 | |
CN106883454B (zh) | 具有白炭黑化学隔离结构的橡胶/白炭黑母胶的制备方法 | |
JP5829473B2 (ja) | シリカの製造方法及びゴム組成物 | |
JP5519306B2 (ja) | ゴム/シリカ複合体の製造方法及びゴム/シリカ複合体 | |
JP6068910B2 (ja) | シリカ・スチレンブタジエンゴム複合体及びその製造方法、並びにゴム組成物及び空気入りタイヤ | |
JP6870219B2 (ja) | シリカの形態制御方法 | |
JP5480585B2 (ja) | 複合体、ゴム組成物及び空気入りタイヤ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190422 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200325 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200407 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200603 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200805 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210304 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20210622 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210707 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20210707 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20210716 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20210720 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210824 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210906 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6950151 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |