JP6870219B2 - シリカの形態制御方法 - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 125
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 26
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 19
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 8
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 19
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 5
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N L-lysine Chemical compound NCCCC[C@H](N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 silane compound Chemical class 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019766 L-Lysine Nutrition 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 230000004520 agglutination Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000002431 foraging effect Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 235000018977 lysine Nutrition 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- Silicon Compounds (AREA)
Description
一次凝集体を形成させる微粒子シリカは、平均一次粒子径が100nm以下であれば特に限定されず、ケイ酸ナトリウムを原料として調製されたシリカ(湿式シリカ)や、アルコキシシランなどのシラン化合物を原料として調製されたシリカなどが挙げられる。特に、シリカの原料としてアルコキシシランを用いる場合、溶媒の除去により巨大な凝集塊が生成してしまう傾向があるが、本発明により巨大な凝集塊の生成を防ぐことができるという理由から、シリカの原料としてアルコキシシランを用いることが好ましい。
本発明における一次凝集体とは、微粒子シリカの粒子が数十〜数百個凝集することで形成された凝集体であり、シリカクラスターとも称される。この一次凝集体を形成させる方法としては、塩化ナトリウムなどの塩を、微粒子シリカ分散水溶液に所定量添加し、所定のpHおよび温度環境下で熟成させる方法が好ましい。
前記一次凝集体が分散したシリカ分散液を、オーブンなどで乾燥させることで粉末状シリカを製造することができる。乾燥条件としては特に限定されず、従来の方法に従って乾燥させればよい。例えば、乾燥温度は80〜120℃、乾燥時間は3〜24時間で行えばよい。
本発明の微粒子シリカの形態制御方法を経て製造されたシリカは分散性に優れることから、補強剤としてゴム組成物などに好適に使用できる。なお、当該ゴム組成物は、カーボンブラック、シランカップリング剤、亜鉛華、ステアリン酸、老化防止剤、硫黄、加硫促進剤などの、タイヤ工業において一般的に用いられている配合剤を含有していてもよく、これらの配合剤の含有量も適宜設定できる。
テトラエトキシシラン:Sigma−Aldrich社製
L−リシン:東京化成(株)製
塩化ナトリウム:和光純薬工業(株)製
ジエチレングリコール:和光純薬工業(株)製特級
濃硫酸:和光純薬工業(株)製
ビーカーにテトラエトキシシラン142.4gおよび純水357.6gを加え、リシン0.1gを添加してpH10に調整した。得られた水溶液を60℃で72時間撹拌し、液相が均一になったことを確認した後、硫酸を添加してpH7.5に調整し、80℃で24時間熟成させた。その後、さらに10%の硫酸を添加し、pHを3に下げて反応を止めた。結果、平均一次粒子径が18nmの微粒子シリカ分散液を得た。平均一次粒子径は光散乱光度計(大塚電子(株)製 ELSZ−2)により確認した。
微粒子シリカ分散液について、全体の濃度が1質量%になるように塩化ナトリウムを添加し、10分間撹拌した後、80℃で24時間熟成させてシリカの一次凝集体を形成させた。得られた一次凝集体の粒度分布をレーザー回折式粒度分布計((株)堀場製作所製 LA−950V2)にて測定し、平均粒度D50、D90およびD10を算出した。表1に平均粒度D50および粒度幅として(式)D90−D10により算出された値を示す。
塩化ナトリウム濃度、熟成条件を表1に示す条件に変更したこと以外は実施例1と同様にシリカの一次凝集体を形成させ、平均粒度D50、D90およびD10を算出した。表1に平均粒度D50および粒度幅として(式)D90−D10により算出された値を示す。
Claims (4)
- 平均一次粒子径が100nm以下のシリカを凝集させて平均粒度D50が1μm以下の一次凝集体を形成させることによるシリカの形態制御方法であって、
前記平均一次粒子径が100nm以下のシリカの原料としてアルコキシシランを用いるものであり、
前記一次凝集体を形成させる方法が、前記平均一次粒子径が100nm以下のシリカに塩を添加して熟成させるものである、方法。 - 塩を添加して熟成させる際の、
塩濃度が0.1〜10質量%であり、
熟成時pHが3〜9であり、
熟成温度が0〜80℃であり、
熟成時間が0.5時間以上である請求項1記載の方法。 - 前記塩濃度が0.1〜3質量%である請求項2記載の方法。
- 前記熟成時間が4時間以上である請求項2または3記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016117877A JP6870219B2 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | シリカの形態制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016117877A JP6870219B2 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | シリカの形態制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017222533A JP2017222533A (ja) | 2017-12-21 |
JP6870219B2 true JP6870219B2 (ja) | 2021-05-12 |
Family
ID=60687565
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016117877A Active JP6870219B2 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | シリカの形態制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6870219B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3195569B2 (ja) * | 1997-08-11 | 2001-08-06 | 守 磯 | 繭型コロイダルシリカの製造方法 |
TW498054B (en) * | 1998-09-10 | 2002-08-11 | Nissan Chemical Ind Ltd | Moniliform silica sol and process for producing the same, and coating composition for ink receiving layer and ink jet recording medium having ink receiving layer |
JP4326096B2 (ja) * | 1999-12-27 | 2009-09-02 | 三菱製紙株式会社 | シリカアルミナ複合ゾルの製造方法 |
WO2015200660A1 (en) * | 2014-06-25 | 2015-12-30 | Cabot Microelectronics Corporation | Colloidal silica chemical-mechanical polishing composition |
-
2016
- 2016-06-14 JP JP2016117877A patent/JP6870219B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017222533A (ja) | 2017-12-21 |
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