KR102150646B1 - 우수한 분산성을 갖는 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법, 상기 알루미노실리케이트 나노입자를 포함한 고무 보강재 및 이를 포함한 타이어용 고무 조성물 - Google Patents

우수한 분산성을 갖는 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법, 상기 알루미노실리케이트 나노입자를 포함한 고무 보강재 및 이를 포함한 타이어용 고무 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 우수한 분산성을 갖는 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 실리콘 소스와 알루미늄 소스의 중화 반응에 의해 알루미노실리케이트 염을 얻는 간단한 방법을 통해 비정질의 알루미노실리케이트 나노입자가 제공될 수 있다. 특히, 상기 제조 방법에 따르면 고무 조성물 내에서 우수한 분산성을 나타내면서도 고무 성형 공정에서 향상된 작업성과 생산성의 발현을 가능하게 하는 알루미노실리케이트 나노입자가 제공될 수 있다.

Description

우수한 분산성을 갖는 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법, 상기 알루미노실리케이트 나노입자를 포함한 고무 보강재 및 이를 포함한 타이어용 고무 조성물{METHOD FOR PREPARING ALUMINOSILICATE NANOPARTICLES HAVING EXCELLENT DISPERSION, A REINFORCING MATERIALS FOR RUBBER COMPRISING THE ALUMINOSILICATE NANOPARTICLES, AND RUBBER COMPOSITION FOR TIRES COMPRISING THE REINFORCING MATERIALS}
본 발명은 우수한 분산성을 갖는 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법, 상기 알루미노실리케이트 나노입자를 포함한 고무 보강재 및 이를 포함한 타이어용 고무 조성물에 관한 것이다.
지구 온난화와 환경 문제에 대한 우려가 확산되면서 에너지 효율을 높여 탄소 배출량을 감축시키는 환경 친화적 개념이 다방면에서 강조되고 있다. 이러한 환경 친화적 개념은 타이어 산업 분야에서 고효율의 친환경 타이어의 개발과 폐타이어의 재활용 방법 모색 등으로 가시화되고 있다.
친환경 타이어(혹은 그린 타이어)는 고무의 구름 저항(rolling resistance)을 낮추어 고효율과 고연비 특성을 부여하여, 결과적으로 탄소 배출량의 감축을 가능하게 하는 타이어를 말한다. 이러한 친환경 타이어를 제조하기 위하여 개질된 고무 재료 및 고무 보강용 백색 첨가제(예를 들어 침강 실리카(precipitated silica)) 등이 주로 사용되고 있다.
일반적으로 실리카 소재는 고무 조성물 내에서 분산성이 낮아, 내마모성이 손실되는 등의 문제가 있다. 이를 보완하기 위해 특정 조건의 고분산성 침강 실리카를 실란 커플링제(silane coupling agent)와 함께 활용하여 양호한 내마모성을 가지는 친환경 타이어용 소재를 만들 수 있음이 알려져 있다.
한편 고분산성 침강 실리카처럼 서로 상반되는 특성(구름 저항력과 내마모성 등의 기계적 강도)들을 양호하게 가질 수 있는 첨가제에 대한 관심 또한 높다. 고무 보강용 백색 첨가제로 알루미나, 점토, 카올린 등을 적용하는 경우에도 구름 저항을 낮추어 친환경 타이어용 소재로 활용될 수 있음이 알려져 있다. 그러나, 이러한 고무 보강용 백색 첨가제는 강한 응집체 형성 등으로 분산성이 감소하며, 이에 따른 기계적 강도 저하 등의 문제점이 나타날 수 있다.
Kay Saalwachter, Microstructure and molecular dynamics of elastomers as studied by advanced low-resolution nuclear magnetic resonance methods, Rubber Chemistry and Technology, Vol. 85, No. 3, pp. 350-386 (2012).
본 발명은 타이어용 고무 조성물에서 우수한 분산성을 나타내는 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명에 따르면,
알루미늄 나이트레이트, 알루미늄 포타슘 설페이트 또는 이들의 혼합물을 포함한 산성의 알루미늄 소스와 알칼리성의 실리콘 소스를 반응물로, 상기 실리콘 소스 중의 실리콘 원자(Si)와 상기 알루미늄 소스의 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)가 2.0 내지 6.0이 되도록 중화 반응시켜 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액을 얻는 단계,
상기 알루미노실리케이트 염을 세척하여 알루미노실리케이트 나노입자를 얻는 단계, 및
상기 알루미노실리케이트 나노입자를 건조하는 단계
를 포함하는 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법이 제공된다.
이하, 발명의 구현 예에 따른 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법, 상기 알루미노실리케이트 나노입자를 포함한 고무 보강재 및 상기 고무 보강재를 포함한 타이어용 고무 조성물에 대하여 설명한다.
본 명세서 명시적인 언급이 없는 한, 전문용어는 단지 특정 구현예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다.
본 명세서에서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다.
본 명세서에서 사용되는 '포함'의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 또는 성분의 부가를 제외시키는 것은 아니다.
발명의 일 구현 예에 따르면,
알루미늄 나이트레이트, 알루미늄 포타슘 설페이트 또는 이들의 혼합물을 포함한 산성의 알루미늄 소스와 알칼리성의 실리콘 소스를 반응물로, 상기 실리콘 소스 중의 실리콘 원자(Si)와 상기 알루미늄 소스의 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)가 2.0 내지 6.0이 되도록 중화 반응시켜 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액을 얻는 단계,
상기 알루미노실리케이트 염을 세척하여 알루미노실리케이트 나노입자를 얻는 단계, 및
상기 알루미노실리케이트 나노입자를 건조하는 단계
를 포함하는 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법이 제공된다.
본 발명자들의 계속적인 연구 결과, 알칼리성의 실리콘 소스와 산성의 알루미늄 소스의 중화 반응에 의해 알루미노실리케이트 염을 얻는 간단한 방법을 통해 비정질의 알루미노실리케이트 나노입자를 합성할 수 있음이 확인되었다.
특히, 상기 제조 방법에서, 상기 알루미늄 소스로 알루미늄 나이트레이트, 알루미늄 포타슘 설페이트 또는 이들의 혼합물을 사용할 경우, 다른 종류의 알루미늄 소스를 사용한 경우에 비하여, 알루미노실리케이트 나노입자의 회수 과정에서 입자의 뭉침이 최소화될 수 있음이 확인되었다.
나아가, 상기 실리콘 소스 중의 실리콘 원자(Si)와 상기 알루미늄 소스의 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)가 2.0 내지 6.0이 되도록 중화 반응시킴으로써, 고무 조성물 내에서 우수한 분산성과 향상된 고무 보강 효과를 나타낼 수 있는 알루미노실리케이트 나노입자가 제공될 수 있다.
상기 제조 방법에 의해 제공되는 알루미노실리케이트 나노입자는 타이어용 고무 조성물에 첨가되는 고무 보강재로서 바람직하게 적용될 수 있다.
발명의 구현 예에 따르면, 알루미늄 나이트레이트, 알루미늄 포타슘 설페이트 또는 이들의 혼합물을 포함한 산성의 알루미늄 소스와 알칼리성의 실리콘 소스를 반응물로 한 중화 반응에 의해 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액을 얻는 단계가 수행된다.
상기 제조 방법에서, 상기 실리콘 소스는 수용성 실리콘 염을 포함한 pH 7 초과의 알칼리성 용액이다.
상기 수용성 실리콘 염으로는 수용액에서 pH 7 초과의 알칼리성을 나타낼 수 있는 실리콘 화합물이 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 바람직하게는, 상기 수용성 실리콘 염은 소듐 실리케이트(Na2SiO3) 및 포타슘 실리케이트(K2SiO3)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물일 수 있다.
상기 제조 방법에서, 알루미늄 소스로는 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3), 알루미늄 포타슘 설페이트(AlK(SO4)2) 또는 이들의 혼합물을 포함한 수용액이 사용된다.
상기 알루미늄 소스는 pH 7 미만의 수소이온 농도를 갖는 용액으로서, 상기 수소이온 농도는 알루미늄 염의 함량에 따라 조절될 수 있다.
특히, 발명의 구현 예에 따르면, 상기 수용성 알루미늄 염으로 알루미늄 나이트레이트, 알루미늄 포타슘 설페이트 또는 이들의 혼합물을 사용하는 것이 알루미노실리케이트 염의 회수 과정에서 염 입자의 응집을 최소화할 수 있다는 점에서 유리하다. 이에 대해서는 후술할 실시예와 비교예를 통해 효과상 차이를 확인할 수 있다.
상기 중화 반응은 상기 알칼리성의 실리콘 소스와 산성의 알루미늄 소스를 혼합하는 방법으로 수행되며, 이를 통해 고형분으로 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액이 얻어진다.
특히, 상기 중화 반응은 70 ℃ 초과 95 ℃ 이하의 온도 하에서 수행되는 것이 바람직하다.
구체적으로, 상기 중화 반응은 70 ℃ 초과, 혹은 75 ℃ 이상, 혹은 80 ℃ 이상; 그리고 95 ℃ 이하, 혹은 90 ℃ 이하, 혹은 85 ℃ 이하의 온도 하에서 수행될 수 있다. 보다 바람직하게는, 상기 중화 반응은 75 ℃ 내지 90 ℃의 온도 하에서 수행될 수 있다.
상기 중화 반응의 수행 온도가 너무 낮을 경우 실리콘 소스 및 알루미늄 소스를 포함한 무기 성분들이 중화 반응 도중에 응집되어 반응이 균일하게 진행되기 어렵다. 그에 따라, 상기 중화 반응 후 최종적으로 얻어지는 알루미노실리케이트 나노입자의 입도 제어가 어려워지고, 상기 나노입자들이 단단히 응집되어 거대한 이차 입자를 형성하며, 결과적으로 목표로 하는 고무 보강 효과를 갖는 나노입자를 얻을 수 없다. 그러므로, 상기 중화 반응은 70 ℃ 초과의 온도 하에서 수행되는 것이 바람직하다.
다만, 상기 중화 반응의 수행 온도가 너무 높을 경우 용매의 끓음 현상으로 인해 반응 효율이 저하될 우려가 이다. 그러므로, 상기 중화 반응은 95 ℃ 이하의 온도 하에서 수행되는 것이 바람직하다.
발명의 구현 예에 따르면, 상기 중화 반응에서 상기 실리콘 소스 중의 실리콘 원자(Si)와 상기 알루미늄 소스의 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)는 2.0 내지 6.0으로 사용되는 것이 바람직하다.
구체적으로, 상기 몰 비(Si/Al)는 2.0 이상, 혹은 2.5 이상, 혹은 3.0 이상, 혹은 3.5 이상, 혹은 4.0 이상이고; 6.0 이하, 혹은 5.5 이하, 혹은 5.0 이하, 혹은 4.5 이하일 수 있다.
즉, 상기 실리콘 소스와 알루미늄 소스가 2.0 내지 6.0의 상기 몰 비(Si/Al)로 사용됨으로써, 고무 조성물 내에서 우수한 분산성과 향상된 고무 보강 효과를 나타낼 수 있는 알루미노실리케이트 나노입자가 제공될 수 있다.
타이어용 고무 보강재로 바람직한 범위의 비표면적 특성과 내마모성을 갖는 알루미노실리케이트 입자가 제조될 수 있도록 하기 위하여, 상기 중화 반응에서 상기 실리콘 소스 중의 실리콘 원자(Si)와 상기 알루미늄 소스의 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)는 2.0 이상인 것이 바람직하다.
다만, 상기 중화 반응에 사용되는 무기 소스에 실리콘 원자(Si)가 너무 높은 몰 비로 포함될 경우 최종 생성물인 알루미노실리케이트 나노입자의 수율이 감소하여 실리콘 소스의 비용 상승의 원인이 된다. 그러므로, 상기 중화 반응에서 상기 실리콘 소스 중의 실리콘 원자(Si)와 상기 알루미늄 소스의 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)는 6.0 이하인 것이 바람직하다.
그리고, 발명의 구현 예에 따르면, 상기 중화 반응의 생성물인 반응 용액은 pH 4 이상, 혹은 pH 6 이상, 혹은 pH 4 내지 pH 10, 혹은 pH 6 내지 pH 10, 혹은 pH 6 내지 pH 8의 수소이온 농도를 갖는 것이 바람직하다.
상기 반응 용액의 수소이온농도가 pH 4 미만, 바람직하게는 pH 6 미만일 경우, 알루미노실리케이트 나노입자의 입도 제어가 어려워지고 상기 나노입자의 크기가 전반적으로 커져, 목표로 하는 고무 보강 효과가 달성되지 못할 수 있다.
나아가, 상기 반응 용액의 pH는 최종적으로 얻어지는 알루미노실리케이트 나노입자가 나타내는 pH에 영향을 미친다. 그리고, 상기 알루미노실리케이트 나노입자가 나타내는 pH는 상기 나노입자를 고무 조성물에 배합하는 과정에서 스코치 타임(scorch time)에 영향을 미친다.
상기 스코치 타임은 고무 성형 과정에서 고무 조성물의 열경화가 시작되는데 걸리는 시간을 의미한다. 일반적으로, 고무 조성물의 열경화가 시작된 이후에는 몰드에서 고무 조성물의 흐름이 멎고 프레스와 같은 성형이 어려워지기 때문에, 작업성과 생산성의 확보를 위해서는 적절한 스코치 타임이 요구된다.
그런데, 상기 알루미노실리케이트 나노입자가 나타내는 pH가 너무 낮거나 너무 높을 경우 고무 성형 과정에서 적절한 스코치 타임의 확보를 어렵게 하여, 별도의 열경화 지연제 첨가나 스코치 방지를 위한 추가적인 조치가 요구되는 등 고무 성형의 작업성과 생산성이 저하될 수 있다.
예를 들어, 상기 알루미노실리케이트 나노입자가 나타내는 pH가 너무 낮을 경우 고무 배합시 스코치 타임이 급격히 느려지고, pH가 너무 높을 경우 스코치 타임이 급격히 빨라질 수 있다.
구체적으로, 상기 나노입자의 pH는 고무 배합 과정에서 함께 혼합되는 성분들의 반응성에 큰 영향을 미치는데, 특히 아민 계열의 기능기가 반응하는 속도를 촉진 또는 완화한다. 즉, 상기 나노입자의 pH가 낮을 경우 아민 그룹의 반응성을 떨어뜨리고, 상기 나노입자의 pH가 높을 경우 아민 그룹의 반응성을 촉진한다. 고무 배합 공정상 반응성이 너무 촉진될 경우 제품 성형에 문제가 생기고, 반응성이 너무 떨어질 경우 생산성이 저하될 수 있다.
따라서, 상기 알루미노실리케이트 나노입자를 고무 보강재로 적용한 고무 성형 공정에서 적절한 스코치 타임이 확보될 수 있도록 하기 위하여, 상기 중화 반응은 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액이 pH 4 내지 pH 10의 수소이온 농도를 갖도록 수행되는 것이 바람직하다.
이어서, 상기 알루미노실리케이트 염을 세척하여 알루미노실리케이트 나노입자를 얻는 단계가 수행된다.
상기 세척 단계에서는, 상기 중화 반응을 통해 얻은 반응 용액에서 고형분인 알루미노실리케이트 염을 회수하고, 이를 증류수, 탈이온수와 같은 물에 분산시킨 후 수 회 세척하여 알루미노실리케이트 나노입자를 얻는다.
세척된 알루미노실리케이트 나노입자는 pH 6 내지 pH 10의 수소이온 농도를 나타낼 수 있다.
그리고, 세척된 상기 알루미노실리케이트 나노입자를 건조하는 단계가 수행된다. 상기 건조는 20 내지 150 ℃의 온도 하에서 1 내지 48 시간 동안 수행될 수 있다.
필요에 따라, 얻어진 알루미노실리케이트 나노입자를 분쇄, 분급하는 단계 등 통상적인 단계가 더욱 수행될 수 있다.
한편, 상술한 제조 방법에 의해 얻어진 상기 알루미노실리케이트 나노입자는 하기 화학식 1의 조성을 가지는 비정질 입자로서, pH 6 내지 pH 10의 수소이온 농도를 나타낸다:
[화학식 1]
[(MxAlyO2y)·(SiO2)z]·m(H2O)
상기 화학식 1에서,
상기 M은 Li, Na, K, Rb, Cs, Be, Fr, Ca, Zn, 및 Mg로 이루어진 군에서 선택된 원소 또는 이들의 이온이고;
x ≥ 0, y > 0, 및 m ≥ 0 이고;
3.0 ≤ z/y ≤ 20.0 이고,
x/y < 1.2 이다.
상기 알루미노실리케이트 나노입자는 금속 원소(M) 또는 이들의 이온으로 알칼리 금속 또는 이들의 이온을 포함하고, 특히 3.0 ≤ z/y ≤ 20.0 및 x/y < 1.2 인 조성을 충족한다.
구체적으로, 상기 화학식 1에서 z/y 는 3.0 이상, 혹은 3.3 이상, 혹은 3.5 이상이고; 20.0 이하, 혹은 15.0 이하, 혹은 10.0 이하, 혹은 5.0 이하인 것이 본 발명에 따른 제반 특성의 발현에 유리할 수 있다.
또한, 구체적으로, 상기 화학식 1에서 x/y 은 1.2 이하, 혹은 1.0 이하 것이 본 발명에 따른 제반 특성의 발현에 유리할 수 있다.
상기 제조 방법에 의해 얻어진 알루미노실리케이트 나노입자는 비정질(amorphous)이다.
특히, 상기 알루미노실리케이트 나노입자는, X-선 회절(XRD)에 의해 수득된 데이터 그래프에서 2θ의 20° 내지 37° 범위에서의 최대 피크의 반가폭(full width at half maximum, FWHM)이 3°내지 8.5°인 것을 충족하여, 보강재로써 우수한 물성을 나타낼 수 있다.
바람직하게는, 상기 최대 피크의 반가폭(FWHM)은 3°이상, 혹은 3.5°이상, 혹은 4.0°이상, 혹은 4.5°이상, 혹은 5.0°이상, 5.5°이상, 6.0°이상이다. 또한, 바람직하게는, 상기 최대 피크의 반가폭(FWHM)은 8.5°이하, 혹은 8.0°이하, 혹은 7.5°이하, 혹은 7.0°이하이다.
상기 최대 피크의 반가폭(FWHM)은 상기 알루미노실리케이트 나노입자의 X-선 회절에서 얻은 2θ의 20° 내지 37° 범위에서의 최대 피크 세기의 1/2 위치에서의 피크 폭을 수치화한 것이다.
상기 최대 피크의 반가폭(FWHM)의 단위는 2θ의 단위인 도(°)로 나타낼 수 있으며, 결정성이 높은 화합물일수록 반가폭의 수치가 작을 수 있다.
또한, 상기 알루미노실리케이트 나노입자는 X-선 회절(XRD)에 의해 수득된 데이터 그래프에서 24° 내지 31°의 2θ 범위에서 최대 피크 강도(maximum peak intensity, Imax)를 나타낼 수 있다.
바람직하게는, 상기 최대 피크 강도(Imax)는 2θ의 24°이상, 혹은 26°이상, 혹은 27°이상, 혹은 28°이상이다. 또한, 바람직하게는, 상기 최대 피크 강도(Imax)는 2θ의 31°이하, 혹은 30.5°이하, 혹은 30°이하이다.
참고로, amorphous silica는 20° 내지 25°의 2θ 범위에서 Imax를 보이며, amorphous alumina는 30° 내지 40°의 2θ 범위에서 Imax를 보이는 것이 일반적이다.
그리고, 상기 방법으로 제조된 상기 알루미노실리케이트 나노입자는 pH 6 내지 pH 10의 수소이온 농도를 나타낼 수 있다. 바람직하게는, 상기 알루미노실리케이트 나노입자는 pH 6 이상, 혹은 pH 6.5 이상, 혹은 pH 7.0 이상, 혹은 pH 7.5 이상; 그리고 pH 10.0 이하, 혹은 pH 9.0 이하의 수소이온 농도를 나타낼 수 있다.
비제한적인 예로, 상기 알루미노실리케이트 나노입자가 띄는 pH는, 상기 알루미노실리케이트 나노입자를 증류수, 탈이온수와 같은 물에 분산시킨 후, 해당 분산 용액이 나타내는 수소이온 농도를 측정함으로써 확인될 수 있다.
발명의 구현 예에 따르면, 상기 알루미노실리케이트 나노입자는 10 내지 50 nm의 평균 일차 입경을 가진다.
구체적으로, 상기 알루미노실리케이트 나노입자는 10 nm 이상, 혹은 15 nm 이상, 혹은 20 nm 이상이고; 50 nm 이하, 혹은 45 nm 이하, 혹은 40 nm 이하, 혹은 35 nm 이하의 평균 일차 입경을 가질 수 있다.
일반적으로 고무 보강재는 입경이 작을수록 우수한 보강 효과를 나타낼 수 있지만, 입경이 작을수록 고무 조성물 내에서 입자들간의 응집 현상이 쉽게 나타나 분산성이 떨어지게 된다. 이러한 응집 현상이 심해지면 고무 보강재와 고무 성분들 사이의 상 분리가 발생할 수 있고, 결과적으로 타이어의 가공성이 저하되며 목표로 하는 보강 효과도 얻기 어려워질 수 있다.
발명의 구현 예에 따르면, 상기 알루미노실리케이트 나노입자는 질소 흡착/탈착 분석에 의한 145 내지 350 m2/g의 브루너-에메트-텔러 비표면적(SBET)과 120 내지 300 m2/g의 외부 비표면적(external specific surface area, SEXT)을 가진다.
구체적으로, 상기 SBET는 145 m2/g 이상, 혹은 150 m2/g 이상, 혹은 155 m2/g 이상, 혹은 165 m2/g 이상이고; 350 m2/g 이하, 혹은 300 m2/g 이하, 혹은 250 m2/g 이하이다.
구체적으로, 상기 SEXT는 120 m2/g 이상, 혹은 125 m2/g 이상, 혹은 130 m2/g 이상이고; 300 m2/g 이하, 혹은 250 m2/g 이하이다.
부가하여, 상기 알루미노실리케이트 나노입자가 갖는 상기 SBET와 SEXT의 비(SEXT/SBET)는 0.6 내지 1.0 인 것이 본 발명에 따른 제반 특성의 발현에 보다 유리할 수 있다. 구체적으로, 상기 SEXT/SBET는 0.60 이상, 혹은 0.65 이상, 혹은 0.70 이상, 혹은 0.75 이상, 혹은 0.80 이상, 혹은 0.90 이상이고; 1.0 이하, 혹은 0.99 이하, 혹은 0.95 이하이다.
한편, 고무 보강재로 적용되는 무기 소재에서 미세기공(micropore)의 함유량은 최소화되는 것이 바람직하다. 상기 미세기공은 결함(defect)으로 작용하여 고무 보강재로서의 물성을 저하시킬 수 있기 때문이다.
본 발명의 구현 예에 따르면, 상기 알루미노실리케이트 나노입자는, 상기 SBET로부터 t-플롯법에 의해 계산된 2 nm 미만의 기공 크기를 갖는 미세기공의 체적(Vmicro)이 0.05 cm3/g 미만으로 작아, 고무 보강재로서 우수한 기계적 물성의 발현을 가능하게 한다. 구체적으로, 상기 Vmicro는 0.05 cm3/g 미만, 혹은 0.025 cm3/g 이하, 혹은 0.02 cm3/g 이하, 혹은 0.015 cm3/g 이하, 혹은 0.01 cm3/g 이하, 혹은 0.007 cm3/g 이하이다.
한편, 상기 알루미노실리케이트 나노입자의 이차 입자(secondary particle), 즉 응집체는 입도 분석기(PSA)를 이용하여 증류수 하에서 측정된 1 내지 25 ㎛의 체적 평균 입경(Dmean), 1 내지 20 ㎛의 기하 표준 편차(geometric standard deviation), 및 1 내지 50 ㎛의 90% 누적 입경(D90)을 나타내는 입자 크기 분포를 가질 수 있다.
구체적으로, 상기 알루미노실리케이트 나노입자의 이차 입자는 증류수 하에서 측정된 1 ㎛ 이상, 혹은 2.5 ㎛ 이상, 혹은 5 ㎛ 이상, 혹은 7.5 ㎛ 이상, 혹은 10.0 ㎛ 이상, 혹은 15.0 ㎛ 이상; 그리고 25.0 ㎛ 이하, 혹은 22.5 ㎛ 이하, 혹은 20.5 ㎛ 이하의 체적 평균 입경(Dmean)을 가질 수 있다.
그리고, 상기 알루미노 실리케이트 나노입자의 이차 입자는 증류수 하에서 측정된 1.0 ㎛ 이상, 혹은 2.5 ㎛ 이상, 혹은 5.0 ㎛ 이상, 혹은 7.5 ㎛ 이상; 그리고 20 ㎛ 이하, 혹은 15.0 ㎛ 이하, 혹은 10.0 ㎛ 이하, 혹은 9.0 ㎛ 이하의 기하 표준 편차(geometric standard deviation)를 가질 수 있다.
그리고, 상기 알루미노 실리케이트 나노입자의 이차 입자는 증류수 하에서 측정된 1 ㎛ 이상, 혹은 5 ㎛ 이상, 혹은 10 ㎛ 이상, 혹은 15 ㎛ 이상, 혹은 20 ㎛ 이상, 혹은 25 ㎛ 이상; 그리고 50 ㎛ 이하, 혹은 40 ㎛ 이하, 혹은 30 ㎛ 이하의 90% 누적 입경(D90)을 가질 수 있다.
한편, 발명의 또 다른 일 구현 예에 따르면, 상술한 알루미노실리케이트 나노입자를 고무 보강재로써 포함한 타이어용 고무 조성물이 제공된다.
상술한 방법에 의해 제조되어 상기 특성들을 충족하는 알루미노실리케이트 나노입자는, 고무 조성물 내에서의 우수한 분산성에 따른 향상된 보강 효과를 나타낼 수 있으면서도 향상된 작업성과 생산성의 발현을 가능하게 한다.
그리고, 상기 알루미노실리케이트 나노입자는 입자 내부의 미세기공의 형성이 억제됨에 따라, 상술한 물성들을 만족하지 못하는 고무 보강재들에 비하여 우수한 기계적 물성 (예를 들어, 우수한 내구성, 내마모성, 압축 강도 등)을 나타낼 수 있다.
상기 타이어용 고무 조성물에는 통상적인 디엔 엘라스토머가 특별한 제한 없이 포함될 수 있다.
예컨대, 상기 디엔 엘라스토머는 천연 고무, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, 부타디엔/스티렌 코폴리머, 부타디엔/이소프렌 코폴리머, 부타디엔/아크릴로니트릴 코폴리머, 이소프렌/스티렌 코폴리머, 및 부타디엔/스티렌/이소프렌 코폴리머로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물일 수 있다.
그리고, 상기 타이어용 고무 조성물에는 상기 알루미노실리케이트 나노입자와 디엔 엘라스토머 사이의 화학적 및/또는 물리적 결합을 제공하는 커플링제가 포함될 수 있다. 상기 커플링제로는 폴리실록산계 화합물과 같은 통상적인 성분들이 특별한 제한 없이 포함될 수 있다.
이 밖에도, 상기 타이어용 고무 조성물에는 타이어 분야에서 통상적으로 사용되는 가소제, 안료, 항산화제, 오존 열화 방지제, 가황 촉진제 등이 첨가될 수 있다.
본 발명에 따르면, 실리콘 소스와 알루미늄 소스의 중화 반응에 의해 알루미노실리케이트 염을 얻는 간단한 방법을 통해 비정질의 알루미노실리케이트 나노입자가 제공될 수 있다. 특히, 상기 제조 방법에 따르면 고무 조성물 내에서 우수한 분산성을 나타내면서도 고무 성형 공정에서 향상된 작업성과 생산성의 발현을 가능하게 하는 알루미노실리케이트 나노입자가 제공될 수 있다.
도 1은 실시예 1에 따른 알루미노실리케이트 나노입자에 대한 scanning electron microscopy(SEM) 이미지이다.
도 2는 실시예 2에 따른 알루미노실리케이트 나노입자에 대한 SEM 이미지이다.
도 3은 실시예 3에 따른 알루미노실리케이트 나노입자에 대한 SEM 이미지이다.
도 4는 실시예 4에 따른 알루미노실리케이트 나노입자에 대한 SEM 이미지이다.
도 5는 실시예 5에 따른 알루미노실리케이트 나노입자에 대한 SEM 이미지이다.
도 6은 실시예 6에 따른 알루미노실리케이트 나노입자에 대한 SEM 이미지이다.
도 7은 비교예 1에 따른 알루미노실리케이트 나노입자에 대한 SEM 이미지이다.
도 8은 비교예 2에 따른 알루미노실리케이트 나노입자에 대한 SEM 이미지이다.
도 9는 비교예 3에 따른 알루미노실리케이트 나노입자에 대한 SEM 이미지이다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예들을 제시한다. 그러나 하기의 실시예들은 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명을 이들만으로 한정하는 것은 아니다.
실시예 1
80 ℃ 하에서 0.005 M 소듐 실리케이트(Na2SiO3) 수용액과 0.005 M 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3) 수용액을 실리콘 원자(Si)와 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)가 2.0이 되도록 혼합한 후, 오버헤드 교반기(overhead stirrer)를 이용하여 500 rpm에서 10 분간 믹싱하여 중화 반응을 수행하였다. 상기 중화 반응에 의해 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액을 얻었다.
상기 알루미노실리케이트 염을 상온의 증류수에 넣고 12 시간 동안 교반하고 원심분리하는 방법으로 세척하였다.
세척된 알루미노실리케이트 염을 70 ℃의 오븐에서 24 시간 동안 건조하여 최종적으로 알루미노실리케이트 나노입자(pH 5.6)를 얻었다.
실시예 2
80 ℃ 하에서 0.005 M 소듐 실리케이트(Na2SiO3) 수용액과 0.005 M 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3) 수용액을 실리콘 원자(Si)와 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)가 4.0이 되도록 혼합한 후, 오버헤드 교반기(overhead stirrer)를 이용하여 500 rpm에서 10 분간 믹싱하여 중화 반응을 수행하였다. 상기 중화 반응에 의해 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액을 얻었다.
상기 알루미노실리케이트 염을 상온의 증류수에 넣고 12 시간 동안 교반하고 원심분리하는 방법으로 세척하였다.
세척된 알루미노실리케이트 염을 70 ℃의 오븐에서 24 시간 동안 건조하여 최종적으로 알루미노실리케이트 나노입자(pH 7.5)를 얻었다.
실시예 3
80 ℃ 하에서 0.005 M 소듐 실리케이트(Na2SiO3) 수용액과 0.005 M 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3) 수용액을 실리콘 원자(Si)와 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)가 6.0이 되도록 혼합한 후, 오버헤드 교반기(overhead stirrer)를 이용하여 500 rpm에서 10 분간 믹싱하여 중화 반응을 수행하였다. 상기 중화 반응에 의해 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액을 얻었다.
상기 알루미노실리케이트 염을 상온의 증류수에 넣고 12 시간 동안 교반하고 원심분리하는 방법으로 세척하였다.
세척된 알루미노실리케이트 염을 70 ℃의 오븐에서 24 시간 동안 건조하여 최종적으로 알루미노실리케이트 나노입자(pH 10.0)를 얻었다.
실시예 4
75 ℃ 하에서 0.005 M 소듐 실리케이트(Na2SiO3) 수용액과 0.005 M 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3) 수용액을 실리콘 원자(Si)와 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)가 4.3이 되도록 혼합한 후, 오버헤드 교반기(overhead stirrer)를 이용하여 500 rpm에서 10 분간 믹싱하여 중화 반응을 수행하였다. 상기 중화 반응에 의해 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액을 얻었다.
상기 알루미노실리케이트 염을 상온의 증류수에 넣고 12 시간 동안 교반하고 원심분리하는 방법으로 세척하였다.
세척된 알루미노실리케이트 염을 70 ℃의 오븐에서 24 시간 동안 건조하여 최종적으로 알루미노실리케이트 나노입자(pH 8.0)를 얻었다.
실시예 5
85 ℃ 하에서 0.005 M 소듐 실리케이트(Na2SiO3) 수용액과 0.005 M 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3) 수용액을 실리콘 원자(Si)와 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)가 4.3이 되도록 혼합한 후, 오버헤드 교반기(overhead stirrer)를 이용하여 500 rpm에서 10 분간 믹싱하여 중화 반응을 수행하였다. 상기 중화 반응에 의해 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액을 얻었다.
상기 알루미노실리케이트 염을 상온의 증류수에 넣고 12 시간 동안 교반하고 원심분리하는 방법으로 세척하였다.
세척된 알루미노실리케이트 염을 70 ℃의 오븐에서 24 시간 동안 건조하여 최종적으로 알루미노실리케이트 나노입자(pH 8.0)를 얻었다.
실시예 6
90 ℃ 하에서 0.005 M 소듐 실리케이트(Na2SiO3) 수용액과 0.005 M 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3) 수용액을 실리콘 원자(Si)와 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)가 4.3이 되도록 혼합한 후, 오버헤드 교반기(overhead stirrer)를 이용하여 500 rpm에서 10 분간 믹싱하여 중화 반응을 수행하였다. 상기 중화 반응에 의해 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액을 얻었다.
상기 알루미노실리케이트 염을 상온의 증류수에 넣고 12 시간 동안 교반하고 원심분리하는 방법으로 세척하였다.
세척된 알루미노실리케이트 염을 70 ℃의 오븐에서 24 시간 동안 건조하여 최종적으로 알루미노실리케이트 나노입자(pH 8.0)를 얻었다.
비교예 1
23 g의 KOH (Daejung chemicals & metals) 및 27 g의 colloidal silica (Ludox HS 30 wt%; Sigma-Aldrich)를 62 ml의 증류수에 넣어 완전히 용해시켰다. 상기 용액에 15 g의 metakaolin (Al2Si2O7, Aldrich)을 첨가한 후, 오버헤드 교반기(overhead stirrer)를 이용하여 800 rpm에서 40 분 동안 믹싱하였다.
이것을 70 ℃의 온도 하에서 4 시간 동안 경화(curing)시켰다.
경화에 의해 형성된 고체 생성물을 90 ℃의 증류수에 넣고 12 시간 동안 교반하고 원심분리하는 방법으로 pH 7 수준이 될 때까지 세척하였다.
세척된 상기 고체 생성물을 증류수에 분산시켜 콜로이달 용액을 형성한 후 1500 rpm 하에서 5 분 동안 원심 분리하여 미반응 소스를 침강시켰다. 이로부터 알루미노실리케이트 입자가 분산된 상층액을 얻고, 침강된 미반응 소스를 폐기하였다.
상기 알루미노실리케이트 입자가 분산된 상층액을 70 ℃의 오븐에서 24 시간 동안 건조하여 최종적으로 알루미노실리케이트 나노입자(pH 9.0)를 얻었다.
상기 비교예 1은 강염기(pH 14)의 수용액 분위기에서 metakaolin을 사용하여 알루미노실리케이트를 합성하는 방법으로, 실시예들에 비하여 합성 공정이 복잡할 뿐 아니라, 강염기 분위기를 조성함에 있어 높은 비용이 요구된다.
비교예 2
0.005 M 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3) 수용액 대신 0.005 M 알루미늄 설페이트(Al2(SO4)3)를 사용하여 상기 중화 반응을 수행한 것을 제외하고, 상기 실시예 2와 동일한 방법으로 알루미노실리케이트 나노입자(pH 7.7)를 얻었다.
다만, 상기 제조 공정 중 세척된 알루미노실리케이트 염을 건조하는 과정에서 입자들이 매우 단단하고 큰 응집체를 형성하였다. 그로 인해, 상기 알루미노실리케이트 나노입자를 얻기 위해, 유발(mortar)을 이용하여 상기 응집체를 분쇄하는 분쇄 공정을 거쳐야만 했다..
비교예 3
70 ℃ 하에서 0.005 M 소듐 실리케이트(Na2SiO3) 수용액과 0.005 M 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3) 수용액을 실리콘 원자(Si)와 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)가 4.3이 되도록 혼합한 후, 오버헤드 교반기(overhead stirrer)를 이용하여 500 rpm에서 10 분간 믹싱하여 중화 반응을 수행하였다. 상기 중화 반응에 의해 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액을 얻었다.
상기 알루미노실리케이트 염을 상온의 증류수에 넣고 12 시간 동안 교반하고 원심분리하는 방법으로 세척하였다.
세척된 알루미노실리케이트 염을 70 ℃의 오븐에서 24 시간 동안 건조하여 최종적으로 알루미노실리케이트 나노입자(pH 8.0)를 얻었다.
시험예 1
상기 실시예 및 비교예에서 반응 용액의 pH 및 나노입자의 pH는 Metler Toledo사의 Sevengo 모델을 이용하여 상온 하에서 측정되었다. 상기 나노입자의 pH는 증류수에 1 중량%의 상기 나노입자를 분산한 용액을 시료로 측정되었다 (상기 증류수의 pH는 약 7.1).
시험예 2
X-ray fluorescence (XRF, Rigaku zsx primus II, wavelength dispersive type)를 이용하여 상기 실시예와 비교예에 따른 입자의 성분 조성을 확인하였다. 상기 XRF 측정은 Rh target을 활용하였으며, 30mm 직경의 홀더에 입자 분말을 장착하여 측정하였다.
조성 (화학식 1) M x/y z/y
실시예 1 Na 0.06 3.319
실시예 2 Na 0.56 4.045
실시예 3 Na 0.88 4.051
실시예 4 Na 0.58 4.079
실시예 5 Na 0.57 4.033
실시예 6 Na 0.55 4.080
비교예 1 K 1.02 1.618
비교예 2 Na 0.40 3.740
비교예 3 Na 0.54 4.114
상기 표 1을 참고하면, 상기 비교예 1의 방법으로 제조된 알루미노실리케이트 나노입자는, 바람직한 범위를 충족하지 못하는 상기 z/y 값을 갖는 것으로 확인되었다.
시험예 3
X-선 회절 분석기(Bruker AXS D4-Endeavor XRD)를 이용하여, 40 kV의 인가전압 및 40 mA의 인가전류 하에서, 상기 실시예 및 비교예의 입자에 대한 X-선 회절 분석을 실시하였다.
측정한 2θ의 범위는 10° 내지 90°이고, 0.05°의 간격으로 스캔하였다. 이때, 슬릿(slit)은 variable divergence slit 6 mm를 이용하였고, PMMA 홀더에 의한 백그라운드 노이즈(background noise)를 없애기 위해 크기가 큰 PMMA 홀더(직경=20 mm)를 이용하였다.
X-선 회절에 의해 수득된 데이터 그래프에서 2θ의 20° 내지 37° 범위에서의 최대 피크인 약 29°피크의 반가폭(full width at half maximum, FWHM)을 계산하였다.
FWHM (°) Imax (°) 결정형
실시예 1 6.2 25.0 Amorphous
실시예 2 6.3 25.8 Amorphous
실시예 3 6.0 24.8 Amorphous
실시예 4 6.2 25.1 Amorphous
실시예 5 6.2 25.0 Amorphous
실시예 6 6.1 25.1 Amorphous
비교예 1 5.8 29.2 Amorphous
비교예 2 6.0 24.8 Amorphous
비교예 3 6.0 25.0 Amorphous
시험예 4
(1) Scanning electron microscopy(SEM)를 이용하여 상기 실시예 및 비교예에 따른 입자의 평균 일차 입경을 측정하였다. 촬영된 SEM 이미지는 도 1 내지 도 9에 나타내었다.
상기 평균 일차 입경의 측정시, 입경은 Feret 직경을 의미한 것이며 여러 방향에서의 입자의 지름을 측정하여 얻은 평균 값으로 계산되었다. 구체적으로는 입자가 100 개 이상 관찰되는 SEM 이미지를 얻은 후, 랜덤한 직선을 도식 후, 해당 직선의 길이 및 직선에 포함된 입자 수, 배율을 통해 입자의 일차 입경을 계산할 수 있으며, 이러한 직선을 20 개 이상으로 하여 평균 일차 입경을 구하였다.
(2) 비표면적 분석기 (BEL Japan Inc., BELSORP-max)를 이용하여 상기 실시예 및 비교예에 따른 입자에 대한 질소 흡착/탈착 브루너-에미트-텔러 비표면적(SBET) 및 2 nm 미만의 미세기공을 제외한 외부 비표면적(SEXT)을 측정하였다. 그리고, 상기 SBET로부터 t-플롯법에 의해 2 nm 미만의 기공 크기를 갖는 미세기공의 체적(Vmicro)을 계산하였다.
상기 특성의 측정에 있어서, 대상 입자를 250 ℃ 하에서 4 시간 동안 가열하여 전처리하였고, 상기 분석기에 장착된 에어 오븐의 온도는 40 ℃로 유지되었다.
SBET
(m2/g)		 SEXT
(m2/g)		 SEXT/SBET Vmicro
(cm3/g)
실시예 1 233.74 210.86 0.920 0.007
실시예 2 204.42 186.30 0.910 0.006
실시예 3 177.31 131.16 0.740 0.019
실시예 4 241.25 190.47 0.790 0.016
실시예 5 154.78 129.61 0.889 0.008
실시예 6 115.47 95.72 0.829 0.012
비교예 1 109.64 95.33 0.869 0.006
비교예 2 302.48 279.92 0.925 0.008
비교예 3 287.39 231.58 0.806 0.014
상기 표 3을 참고하면, 상기 실시예 1 및 2에서는 응집체의 형성 없이 20 nm 수준의 평균 일차 입경과 우수한 비표면적 특성을 갖는 알루미노실리케이트 나노입자를 얻을 수 있음이 확인된다. 그에 비하여, 상기 비교예 2에서는 알루미노실리케이트 염을 회수하는 과정에서 입자들이 매우 단단하고 큰 응집체를 형성하는 것으로 확인된다. 상기 비교예 2에 따를 경우 매우 미세한 입자들이 형성됨에 따라 이들 입자간의 van der waals 힘이 커져 매우 강하게 응집되는 것으로 예측된다.
시험예 5
10 ml의 증류수에 상기 실시예 및 비교예에 따른 0.1 g의 입자를 첨가하여 1 중량%의 입자를 포함한 용액을 준비하였다. 상기 용액을 100W pulsed ultrasonication 장비에서 90% power로 5분 동안 sonication하였다. 이때 sonication에 의한 에너지는 고무 조성물의 배합시 조성물에 가해지는 mechanical force와 유사한 물리적 에너지로 작용하여, 고무 조성물 내 분산되어 존재하는 응집체(aggregates)의 크기 분포를 간접적으로 확인할 수 있다.
얻어진 분산액을 입도 분석기(HORIBA 사, 모델명 LA-960, laser diffraction type)를 이용하여 추가로 2 분 동안 sonication한 후, 상기 입자의 응집체(aggregates)의 크기 분포, 체적 평균 입경(Dmean), 기하 표준 편차(geometric standard deviation; Std.Dev.), 및 체적 분포의 누적 입경(D10, D50, D90)을 측정하였다.
Dmean (㎛) Std.Dev. (㎛) D10 (㎛) D50 (㎛) D90 (㎛)
실시예 1 15.2 8.0 8.2 14.7 25.2
실시예 2 17.1 8.1 9.0 15.3 27.7
실시예 3 20.1 8.3 9.7 15.2 28.4
실시예 4 16.1 8.1 8.3 15.7 26.9
실시예 5 17.5 7.8 8.9 17.1 28.8
실시예 6 19.2 8.5 9.5 18.4 30.2
비교예 1 18.3 15.0 7.9 11.0 45.2
비교예 2 269.2 201.3 18.5 209.6 843.9
비교예 3 88.4 57.3 14.1 80.3 447.6
상기 표 4를 참고하면, 상기 실시예 1 내지 3에 따른 알루미노실리케이트 나노입자의 이차 입자는 고무 보강재로써 적합한 범위의 입자 크기 분포를 나타냄이 확인된다. 그에 비하여, 상기 비교예 2 및 3에 따른 알루미노실리케이트 입자의 이차 입자는 고무 보강재로써 적합하지 않은 범위의 입자 크기 분포를 나타냄이 확인된다.

Claims (10)

  1. 75 ℃ 내지 90 ℃의 온도 하에서, 알루미늄 나이트레이트, 알루미늄 포타슘 설페이트 또는 이들의 혼합물을 포함한 산성의 알루미늄 소스와 알칼리성의 실리콘 소스를 반응물로, 상기 실리콘 소스 중의 실리콘 원자(Si)와 상기 알루미늄 소스의 알루미늄 원자(Al)의 몰 비(Si/Al)가 2.0 내지 6.0이 되도록 중화 반응시켜 알루미노실리케이트 염을 포함한 반응 용액을 얻는 단계,
    상기 알루미노실리케이트 염을 세척하여 알루미노실리케이트 나노입자를 얻는 단계, 및
    상기 알루미노실리케이트 나노입자를 건조하는 단계
    를 포함하고,
    상기 알루미노실리케이트 나노입자의 이차 입자는, 증류수 하에서 측정된 15 내지 25 ㎛의 체적 평균 입경(Dmean), 1 내지 20 ㎛의 기하 표준 편차(geometric standard deviation), 및 1 내지 50 ㎛의 90% 누적 입경(D90)을 나타내는 입자 크기 분포를 갖는,
    알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 실리콘 소스는 수용성 실리콘 염을 포함한 pH 7 초과의 알칼리성 용액인, 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 수용성 실리콘 염은 소듐 실리케이트 및 포타슘 실리케이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물인, 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법.
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 알루미노실리케이트 나노입자는 하기 화학식 1의 조성을 가지는 비정질 입자인, 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법:
    [화학식 1]
    [(MxAlyO2y)·(SiO2)z]·m(H2O)
    상기 화학식 1에서,
    상기 M은 Li, Na, K, Rb, Cs, Be, Fr, Ca, Zn, 및 Mg로 이루어진 군에서 선택된 원소 또는 이들의 이온이고;
    x ≥ 0, y > 0, 및 m ≥ 0 이고;
    3.0 ≤ z/y ≤ 20.0 이고,
    x/y < 1.2 이다.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 알루미노실리케이트 나노입자는 10 내지 50 nm의 평균 일차 입경을 가지는, 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 알루미노실리케이트 나노입자는, X-선 회절(XRD)에 의해 수득된 데이터 그래프에서, 2θ의 20° 내지 37° 범위에서의 최대 피크의 반가폭(full width at half maximum, FWHM)이 3° 내지 8.5° 이고, 24° 내지 31°의 2θ 범위에서 최대 피크 강도(maximum peak intensity, Imax)를 가지는, 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 알루미노실리케이트 나노입자는, 질소 흡착/탈착 분석에 의한 145 내지 350 m2/g의 브루너-에메트-텔러 비표면적(SBET) 및 120 내지 300 m2/g의 외부 비표면적(SEXT)을 가지며, 0.6 ≤ SEXT/SBET ≤ 1.0을 충족하는, 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 알루미노실리케이트 나노입자는, 상기 SBET로부터 t-플롯법에 의해 계산된 2 nm 미만의 기공 크기를 갖는 미세기공의 체적(Vmicro)이 0.05 cm3/g 미만인, 알루미노실리케이트 나노입자의 제조 방법.
  10. 삭제
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