JP2017175130A5 - トランジスタ及び表示装置 - Google Patents
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Claims (13)
- 絶縁膜と、ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート電極と、酸化物半導体膜と、を有するトランジスタであって、
前記ソース電極は、前記酸化物半導体膜と接する領域を有し、
前記ドレイン電極は、前記酸化物半導体膜と接する領域を有し、
前記ゲート電極は、前記絶縁膜を介して前記酸化物半導体膜と重なる領域を有し、
前記トランジスタは、
前記トランジスタのソース電圧を0V、ドレイン電圧を20Vとしたときのドレイン電流−ゲート電圧特性における、ゲート電圧が−10Vより大きく10V以下の範囲において、
電界効果移動度の最大値が、40cm 2 /Vs以上150cm 2 /Vs未満であり、
しきい値電圧が、−1V以上1V以下であり、
S値が、0.3V/decade未満であり、
オフ電流が、1×10 −12 A/cm 2 未満である、
トランジスタ。 - 第1のゲート電極と、前記第1のゲート電極上の第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、前記酸化物半導体膜上の第2の絶縁膜と、前記第2の絶縁膜上の第2のゲート電極と、前記第2のゲート電極上の第3の絶縁膜と、を有するトランジスタであって、
前記酸化物半導体膜は、前記ゲート電極と重なるチャネル領域と、前記第3の絶縁膜と接するソース領域と、前記第3の絶縁膜と接するドレイン領域と、を有し、
前記第1のゲート電極と前記第2のゲート電極とは、電気的に接続され、
前記トランジスタは、
前記トランジスタのソース電圧を0V、ドレイン電圧を20Vとしたときのドレイン電流−ゲート電圧特性における、ゲート電圧が−10Vより大きく10V以下の範囲において、
電界効果移動度の最大値が、40cm 2 /Vs以上150cm 2 /Vs未満であり、
しきい値電圧が、−1V以上1V以下であり、
S値が、0.3V/decade未満であり、
オフ電流が、1×10 −12 A/cm 2 未満である、
トランジスタ。 - 請求項1または請求項2において、
前記トランジスタの電界効果移動度の前記最大値をμFE(max)として表し、前記トランジスタのゲート電圧が2Vの電界効果移動度の値をμFE(Vg=2V)として表した場合、μFE(max)/μFE(Vg=2V)が1以上1.5未満である、
トランジスタ。 - 請求項1または請求項2において、
前記トランジスタの電界効果移動度の前記最大値をμFE(max)として表し、前記トランジスタのゲート電圧が2Vの電界効果移動度の値をμFE(Vg=2V)として表した場合、μFE(max)/μFE(Vg=2V)が1.5以上3未満である、
トランジスタ。 - 絶縁膜と、ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート電極と、酸化物半導体膜と、を有するトランジスタであって、
前記ソース電極は、前記酸化物半導体膜と接する領域を有し、
前記ドレイン電極は、前記酸化物半導体膜と接する領域を有し、
前記ゲート電極は、前記絶縁膜を介して前記酸化物半導体膜と重なる領域を有し、
前記トランジスタは、
前記トランジスタのソース電圧を0V、ドレイン電圧を20Vとしたときのドレイン電流−ゲート電圧特性における、ゲート電圧が−10Vより大きく10V以下の範囲において、
電界効果移動度の最大値が、10cm 2 /Vs以上100cm 2 /Vs未満であり、
しきい値電圧が、−1V以上1V以下であり、
S値が、0.3V/decade未満であり、
オフ電流が、1×10 −12 A/cm 2 未満である、
トランジスタ。 - 第1のゲート電極と、前記第1のゲート電極上の第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、前記酸化物半導体膜上の第2の絶縁膜と、前記第2の絶縁膜上の第2のゲート電極と、前記第2のゲート電極上の第3の絶縁膜と、を有するトランジスタであって、
前記酸化物半導体膜は、前記ゲート電極と重なるチャネル領域と、前記第3の絶縁膜と接するソース領域と、前記第3の絶縁膜と接するドレイン領域と、を有し、
前記第1のゲート電極と前記第2のゲート電極とは、電気的に接続され、
前記トランジスタは、
前記トランジスタのソース電圧を0V、ドレイン電圧を20Vとしたときのドレイン電流−ゲート電圧特性における、ゲート電圧が−10Vより大きく10V以下の範囲において、
電界効果移動度の最大値が、10cm 2 /Vs以上100cm 2 /Vs未満であり、
しきい値電圧が、−1V以上1V以下であり、
S値が、0.3V/decade未満であり、
オフ電流が、1×10 −12 A/cm 2 未満である、
トランジスタ。 - 請求項5または請求項6において、
前記トランジスタの電界効果移動度の前記最大値をμFE(max)として表し、前記トランジスタのゲート電圧が2Vの電界効果移動度の値をμFE(Vg=2V)として表した場合、μFE(max)/μFE(Vg=2V)が3以上10未満である、
トランジスタ。 - 請求項1乃至7のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜は、
第1の領域と、第2の領域と、が混在した複合酸化物半導体を有し、
前記第1の領域は、インジウム、亜鉛、及び酸素の中から選ばれるいずれか一つまたは複数を主成分とする複数の第1のクラスタを有し、
前記第2の領域は、インジウム、元素M(MはAl、Ga、Y、またはSn)、亜鉛、及び酸素の中から選ばれるいずれか一つまたは複数を主成分とする複数の第2のクラスタを有し、
前記第1の領域は、前記複数の第1のクラスタが互いに繋がる部分を有し、
前記第2の領域は、前記複数の第2のクラスタが互いに繋がる部分を有する、
トランジスタ。 - 請求項8において、
前記インジウム、前記元素M、及び前記亜鉛の原子数比は、
In:M:Zn=4:2:3近傍であり、
前記Inが4の場合、前記元素Mが1.5以上2.5以下であり、且つ前記Znが2以上4以下である、
トランジスタ。 - 請求項8において、
前記インジウム、前記元素M、及び前記亜鉛の原子数比は、
In:M:Zn=5:1:6近傍であり、
前記Inが5の場合、前記元素Mが0.5以上1.5以下であり、且つ前記Znが5以上7以下である、
トランジスタ。 - 請求項1乃至10のいずれか一項に記載のトランジスタを有する表示装置であって、
表示部を有し、
前記表示部の画素トランジスタとして前記トランジスタを有する、表示装置。 - 請求項1乃至10のいずれか一項に記載のトランジスタを有する表示装置であって、
表示部と、前記表示部の駆動回路部と、を有し、
前記駆動回路部が前記トランジスタを有する、表示装置。 - 請求項1乃至10のいずれか一項に記載のトランジスタを有する表示装置であって、
表示部と、ゲートドライバを有し、
前記ゲートドライバが前記トランジスタを有する、表示装置。
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WO2017168283A1 (ja) | 2016-04-01 | 2017-10-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 複合酸化物半導体、当該複合酸化物半導体を用いた半導体装置、当該半導体装置を有する表示装置 |
CN107221537B (zh) * | 2017-06-30 | 2019-12-17 | 上海天马微电子有限公司 | 一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板制作方法 |
JP7190443B2 (ja) * | 2017-11-24 | 2022-12-15 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体材料 |
US10147614B1 (en) * | 2018-01-08 | 2018-12-04 | United Microelectronics Corp. | Oxide semiconductor transistor and method of manufacturing the same |
US10756613B2 (en) * | 2018-02-01 | 2020-08-25 | Marvell Asia Pte, Ltd. | Controlling current flow between nodes with adjustable back-gate voltage |
CN110890386B (zh) * | 2018-09-11 | 2023-08-25 | 夏普株式会社 | 薄膜晶体管基板、液晶显示装置及有机电致发光显示装置 |
US11139290B2 (en) * | 2018-09-28 | 2021-10-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | High voltage cascode HEMT device |
US10741702B2 (en) * | 2018-10-08 | 2020-08-11 | Qualcomm Incorporated | Thin-film variable metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitor for passive-on-glass (POG) tunable capacitor |
WO2020096076A1 (ko) * | 2018-11-06 | 2020-05-14 | 엘지전자 주식회사 | 디지털 사이니지 시스템 및 그의 동작 방법 |
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CN109556748A (zh) * | 2018-12-26 | 2019-04-02 | 西安邮电大学 | 一种基于mosfet界面陷阱效应的温度测量方法 |
CN109696251A (zh) * | 2018-12-26 | 2019-04-30 | 西安邮电大学 | 基于mosfet器件界面陷阱复合效应的温度测量方法 |
TWI690060B (zh) | 2019-04-25 | 2020-04-01 | 元太科技工業股份有限公司 | 記憶體結構及其製造方法 |
US20220252635A1 (en) * | 2021-02-05 | 2022-08-11 | Kionix, Inc. | Mechanically-sensitive semiconducting triode capacitor |
US20220310823A1 (en) * | 2021-03-24 | 2022-09-29 | Win Semiconductors Corp. | High electron mobility transistor and method for forming the same |
TWI813217B (zh) * | 2021-12-09 | 2023-08-21 | 友達光電股份有限公司 | 半導體裝置及其製造方法 |
Family Cites Families (61)
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---|---|---|---|---|
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US20070268293A1 (en) | 2006-05-19 | 2007-11-22 | Erick Miller | Musculo-skeletal shape skinning |
US8008627B2 (en) * | 2007-09-21 | 2011-08-30 | Fujifilm Corporation | Radiation imaging element |
US9666719B2 (en) | 2008-07-31 | 2017-05-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
TWI502739B (zh) * | 2008-11-13 | 2015-10-01 | Semiconductor Energy Lab | 半導體裝置及其製造方法 |
TWI508304B (zh) * | 2008-11-28 | 2015-11-11 | Semiconductor Energy Lab | 半導體裝置和其製造方法 |
US8436350B2 (en) * | 2009-01-30 | 2013-05-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device using an oxide semiconductor with a plurality of metal clusters |
JP5604081B2 (ja) * | 2009-11-11 | 2014-10-08 | 出光興産株式会社 | 酸化物半導体を用いた、高移動度の電界効果型トランジスタ |
KR102153034B1 (ko) | 2009-12-04 | 2020-09-07 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
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TWI562285B (en) * | 2010-08-06 | 2016-12-11 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US8871565B2 (en) | 2010-09-13 | 2014-10-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
WO2012091126A1 (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-05 | 株式会社神戸製鋼所 | 薄膜トランジスタの半導体層用酸化物およびスパッタリングターゲット、並びに薄膜トランジスタ |
US8987728B2 (en) * | 2011-03-25 | 2015-03-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device |
US8476927B2 (en) * | 2011-04-29 | 2013-07-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Programmable logic device |
US8946066B2 (en) | 2011-05-11 | 2015-02-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing semiconductor device |
JP5319816B2 (ja) | 2011-05-21 | 2013-10-16 | 双葉電子工業株式会社 | 薄膜半導体装置と薄膜半導体装置を用いた表示装置 |
US8952377B2 (en) | 2011-07-08 | 2015-02-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
CN102969361B (zh) * | 2011-09-01 | 2015-09-23 | 中国科学院微电子研究所 | 光照稳定性非晶态金属氧化物tft器件以及显示器件 |
CN104221154B (zh) | 2012-03-23 | 2018-11-13 | 国立研究开发法人科学技术振兴机构 | 薄膜晶体管及薄膜晶体管的制造方法 |
US9007090B2 (en) | 2012-05-01 | 2015-04-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of driving semiconductor device |
JP2013239531A (ja) | 2012-05-14 | 2013-11-28 | Fujifilm Corp | 薄膜トランジスタ及びその製造方法、表示装置、イメージセンサー、x線センサー並びにx線デジタル撮影装置 |
KR102071545B1 (ko) | 2012-05-31 | 2020-01-30 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
KR102099445B1 (ko) | 2012-06-29 | 2020-04-09 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 반도체 장치의 제작 방법 |
TWI746200B (zh) * | 2012-09-24 | 2021-11-11 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置 |
TWI681233B (zh) | 2012-10-12 | 2020-01-01 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 液晶顯示裝置、觸控面板及液晶顯示裝置的製造方法 |
JP6300489B2 (ja) * | 2012-10-24 | 2018-03-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
WO2014065343A1 (en) * | 2012-10-24 | 2014-05-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
TWI649794B (zh) | 2012-11-08 | 2019-02-01 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 金屬氧化物膜及形成金屬氧化物膜的方法 |
KR102144992B1 (ko) | 2012-11-30 | 2020-08-18 | 삼성전자주식회사 | 반도체 물질과 이를 포함하는 트랜지스터 및 트랜지스터를 포함하는 전자소자 |
EP2738815B1 (en) | 2012-11-30 | 2016-02-10 | Samsung Electronics Co., Ltd | Semiconductor materials, transistors including the same, and electronic devices including transistors |
JPWO2014125820A1 (ja) * | 2013-02-13 | 2017-02-02 | 出光興産株式会社 | 薄膜トランジスタ |
US9231111B2 (en) * | 2013-02-13 | 2016-01-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP6193786B2 (ja) * | 2013-03-14 | 2017-09-06 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置及びその作製方法 |
KR102210298B1 (ko) | 2013-05-09 | 2021-01-29 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 그 제작 방법 |
JP2014229666A (ja) * | 2013-05-20 | 2014-12-08 | 出光興産株式会社 | 薄膜トランジスタ |
US9356156B2 (en) | 2013-05-24 | 2016-05-31 | Cbrite Inc. | Stable high mobility MOTFT and fabrication at low temperature |
KR102522133B1 (ko) * | 2013-06-27 | 2023-04-17 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
JP2015032655A (ja) * | 2013-08-01 | 2015-02-16 | 出光興産株式会社 | 薄膜トランジスタ |
JP2015109315A (ja) * | 2013-12-03 | 2015-06-11 | 出光興産株式会社 | 薄膜トランジスタ、その製造方法、酸化物半導体層、表示装置及び半導体装置 |
TWI642186B (zh) * | 2013-12-18 | 2018-11-21 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置 |
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US9929279B2 (en) | 2014-02-05 | 2018-03-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
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US20150255029A1 (en) * | 2014-03-07 | 2015-09-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device, display module including the display device, and electronic device including the display device or the display module |
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US20150263140A1 (en) | 2014-03-14 | 2015-09-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
US20150318171A1 (en) * | 2014-05-02 | 2015-11-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing oxide |
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