JP2017152231A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 複数の画素によって構成された表示領域と、該表示領域の外側に設けられた端子領域と、を備えた表示装置であって、
   前記端子領域に形成された端子配線と、
   前記画素に形成された画素配線と、
   前記表示領域を覆う封止膜と、
   前記端子領域において、前記端子配線の上層に形成されるとともに、前記表示領域において前記画素配線の上層に形成される絶縁膜と、
   前記端子領域において、前記絶縁膜の上層に形成され、前記封止膜及び前記絶縁膜とはとは異なる材料からなる防止膜と、
   を有し、
   前記端子配線は、前記端子領域の電気的接続領域において露出し、
   前記絶縁膜及び前記防止膜の側面部は前記端子領域において露出している、
   ことを特徴とする表示装置。
2. 前記画素において、さらに、前記絶縁膜の上層に形成された陽極電極を有し、
   前記絶縁膜は、前記陽極電極と前記画素配線の間に静電容量を形成することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
3. 前記絶縁膜は、前記防止膜に対するエッチングの選択比が高い材料で形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置。
4. 前記絶縁膜は、窒化ケイ素によって形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の表示装置。
5. 前記防止膜は、酸化ケイ素又は酸化アルミニウムによって形成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の表示装置。
6. 前記表示装置は、さらに、
   前記画素において、前記陽極電極の上層に形成される自発光素子膜と、
   前記自発光素子膜の上層に形成され、前記陽極電極との間に電圧を印加することで前記自発光素子膜を発光させる陰極電極と、
   を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の表示装置。
7. 複数の画素によって構成された表示領域と、該表示領域の外側に設けられた端子領域と、を備えた表示装置の製造方法であって、
   前記端子領域に端子配線を形成する工程と、
   前記画素に画素配線を形成する工程と、
   前記端子領域の電気的接続領域を除く領域に、前記画素配線の上層に絶縁膜、及び、該絶縁膜の上層に防止膜を形成する工程と、
   前記表示領域及び前記端子領域の全面を覆うように封止膜を形成する工程と、
   前記端子領域に形成された前記封止膜をエッチングし、前記電気的接続領域において、前記端子配線を露出させる工程と、
   を含み、
   前記封止膜は、前記防止膜に対するエッチングの選択比が高い材料で形成されることを特徴とする表示装置の製造方法。
8. 前記絶縁膜は、前記防止膜に対するエッチングの選択比が高い材料で形成されることを特徴とする請求項７に記載の表示装置の製造方法。
9. 前記防止膜は、前記絶縁膜にプラズマ処理を行い、前記絶縁膜の表面を酸化させることによって形成されることを特徴とする請求項７に記載の表示装置の製造方法。
10. 前記絶縁膜及び前記防止膜を形成する工程は、
    前記端子領域を覆うように、前記絶縁膜を形成する工程と、
    前記電気的接続領域に形成された前記絶縁膜をエッチングし、前記端子配線を露出させる工程と、
    前記電気的接続領域を除く領域において、前記絶縁膜の上層に前記防止膜を形成する工程と、
    を含むことを特徴とする請求項７または８に記載の表示装置の製造方法。
11. 前記表示装置の製造方法は、さらに、前記画素において陽極電極を形成する工程を含み、
    前記絶縁膜を形成する工程において、前記絶縁膜は、前記端子領域を覆うように形成されるとともに、前記表示領域において、前記画素配線の上層に形成されることで前記画素配線と前記陽極電極との間で静電容量を形成することを特徴とする請求項７乃至１０のいずれかに記載の表示装置の製造方法。