JP2017147092A - 表示装置および表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、表示装置10の外観図である。図1は、表示装置10を前側、すなわち画像を表示する面の側から見た図である。表示装置10は、静止画および動画を表示する装置である。表示装置10は、電子機器に組み込まれる。電子機器は、たとえばスマートフォン、携帯電話機、タブレット端末、パソコン、テレビ等である。以下の説明では、各図中に矢印で示す左、右、上および下のそれぞれを使用する。本実施の形態の表示装置10は、有機EL表示パネルである。
本実施の形態は、ゲート部32とソースドレイン部33との間に、第3高融点金属層35を有する表示装置10に関する。
本実施の形態は、駆動回路20にPMOS(P-channel Metal Oxide Semiconductor)型のトランジスタを使用した表示装置10に関する。なお、実施の形態1と共通する部分については説明を省略する。
本実施の形態は、駆動回路20にPMOS型のトランジスタを使用し、第3高融点金属層35を有する表示装置10に関する。なお、実施の形態2と共通する部分については説明を省略する。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものでは無いと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した意味では無く、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
11 第1基板
12 第2基板
13 ドライバIC
14 FPC
15 画像表示部
16 TFT基板
17 開口部
171 発光部
18 アノード電極
19 カソード電極
20 駆動回路
21 走査ドライバ
22 デマルチプレクサ
23 エミッション制御ドライバ
24 保護回路
25 封止材
26 トランジスタ
27 空間
28 1/4波長位相差板
29 偏光板
31 半導体部
311 P型高濃度不純物層
312 P型低濃度不純物層
313 アンドープ層
314 N型高濃度不純物層
315 N型低濃度不純物層
32 ゲート部
32F ゲート部(第2電源領域Eから表示領域Fに向けて延びる部分)
321 ゲート電極
33 ソースドレイン部
33F ソースドレイン部(第2電源領域Eから表示領域Fに向けて延びる部分)
331 ソースドレイン電極部
3311 ソース電極
3312 ドレイン電極
332 第2配線部
3321 第2ソース配線
3322 第2ドレイン配線
34 低融点配線層
341 第1配線部
3411 VSS配線
3412 VDD配線
3413 クロック配線
342 カソード配線部
343 第3配線部
35 第3高融点金属層
352 第3電極部
36 第1コンタクトホール
37 第2コンタクトホール
38 接続部
41 下地絶縁層
42 ゲート絶縁層
43 層間絶縁層
431 第1層間絶縁層
432 第2層間絶縁層
44 無機絶縁膜
45 平坦化層
46 分離層
47 発光層
48 キャップ層
51 調整部
52 明るさ調整部
53 色調調整部
54 ガンマ調整部
55 DC/DCコンバータ
56 受信部
57 高電圧ロジック部
58 アナログ制御部
59 アナログ出力部
810 比較例の表示装置
811 比較例の第1基板
812 比較例の第2基板
825 比較例の封止材
96 スイッチTFT
97 有機発光素子
98 駆動TFT
99 保持容量
B 余裕領域
C 封止領域
D 第1電源領域
E 第2電源領域
F 表示領域
G 印刷領域
H アラインメント余裕
J 拡散余裕
L レーザ照射領域
Claims (11)
- 第1基板と、
第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板とを封止する封止材と、
電流に基づき発光する有機発光素子と前記有機発光素子に供給される電流を制御する画素回路とを備える複数の画素を有する画像表示部と、
前記複数の画素回路を駆動するトランジスタを有する駆動回路と、
前記トランジスタに電圧を供給する第1配線部と、
前記トランジスタに含まれる電極部と前記第1配線部とを接続する第2配線部とを有し、
前記駆動回路は、前記画像表示部の外部に配置され、
前記第1配線部は、前記画像表示部と前記駆動回路との間に配置され、
前記画像表示部と前記第1配線部とは、前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、
前記電極部と前記第2配線部とを構成する第2金属の融点は、前記第1配線部を構成する第1金属の融点よりも高く、
前記第1基板と前記駆動回路と前記封止材と前記第2基板とが積層された表示装置。 - 前記第1配線部のシート抵抗は、前記第2配線部のシート抵抗よりも低い請求項1に記載の表示装置。
- 前記トランジスタに含まれる電極部は、ゲート電極、ドレイン電極およびソース電極を含み、
前記ゲート電極、前記ドレイン電極および前記ソース電極を構成する前記第2金属の融点は、前記第1金属の融点よりも高い
請求項1または請求項2に記載の表示装置。 - 前記ゲート電極、ドレイン電極およびソース電極は、同一の金属で構成される
請求項3に記載の表示装置。 - 前記トランジスタに含まれる電極部と前記第2配線部とは同一の金属で構成され、
前記第2配線部は、前記電極部のソース電極と接続する第2ソース配線を有し、
前記第1配線部は、前記第2ソース配線と接続する第1ソース配線を有し、
前記第2ソース配線は、前記第1配線部の方向に向けて伸び、前記第2ソース配線の前記第1配線部の側の端が、前記第1ソース配線に接続する
請求項3に記載の表示装置。 - 前記トランジスタに含まれる電極部と前記第2配線部とは同一の金属で構成され、
前記第2配線部は、前記電極部のドレイン電極と接続する第2ドレイン配線を有し、
前記第1配線部は、前記第2ドレイン配線と接続する第1ドレイン配線を有し、
前記第2ドレイン配線は、前記第1配線部の方向に向けて伸び、前記第2ドレイン配線の前記第1配線部側の端が、前記第1ドレイン配線に接続する
請求項3に記載の表示装置。 - 前記封止材は、加熱により溶解し冷却により硬化する部材であって、前記駆動回路と前記封止材が硬化した部分とが重なる
請求項1から請求項6のいずれか1つに記載の表示装置。 - さらに、前記封止材と前記駆動回路との間に無機絶縁膜を有し、
前記封止材は、加熱により溶解し冷却により硬化する部材であって、前記無機絶縁膜と前記封止材が硬化した部分とが重なる
請求項1から請求項7のいずれか一つに記載の表示装置。 - 前記第1配線部の材料は、前記有機発光素子のアノード電極の材料と同一である請求項1から請求項8のいずれか一つに記載の表示装置。
- 前記駆動回路と前記封止材との間に、前記トランジスタの半導体部分を覆う、前記第1金属の融点よりも高い材料により構成された金属層を備える請求項1から請求項9のいずれか一つに記載の表示装置。
- 電流により発光する有機発光素子と前記有機発光素子に供給される電流を制御する画素回路とを備える複数の画素を有する画像表示部と、前記画像表示部の外側に配置される、前記複数の画素回路を駆動するトランジスタおよび前記トランジスタに含まれる電極部に接続された第2配線部を有する駆動回路と、前記駆動回路と前記画像表示部との間に配置される、前記トランジスタに前記第2配線部を介して電圧を供給する第1配線部とを、前記第1基板に形成し、
前記画素回路、前記有機発光素子、前記第1配線部および前記第2配線部を囲む場所に封止材を配置し、
前記封止材の上側に、前記駆動回路と前記第1配線部と前記第2配線部と前記画像表示部とを覆う第2基板を配置し、
前記封止材を溶解して前記第1基板と前記第2基板との間の空間を封止し、
前記封止材は、少なくとも前記駆動回路の上側に配置され、
前記電極部と前記第2配線部とを構成する第2金属の材料は、前記第1配線部を構成する第1金属の融点よりも高い材料で構成されている
表示装置の製造方法。
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