JP2008123986A - 有機電界発光表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】有機電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】複数の画素領域が設定される基板、前記複数の画素領域毎にそれぞれ形成された複数の薄膜トランジスタ、前記複数の画素領域毎に一側周縁に沿って配列されたデータライン、前記複数の画素領域毎に他側周縁に沿って配列され、前記データラインと実質的に平行な共通電源ライン、前記複数の薄膜トランジスタのうちの何れか一つの薄膜トランジスタと電気的に連結され、前記複数の画素領域毎にそれぞれ形成された第1画素電極、前記第1画素電極上に形成された有機膜、及び、前記有機膜上に形成された第2画素電極を含み、前記第1画素電極は前記データラインと近い一側周縁が前記データラインと重なる。これにより、薄膜トランジスタの駆動特性低下を防止でき、有機発光素子で発生した光が反射して、薄膜トランジスタのチャンネル領域に流入することを遮断できる。
【選択図】図1

Description

本発明は、有機電界発光表示装置に係り、より詳しくは、薄膜トランジスタの駆動特性を向上させた有機電界発光表示装置に関するものである。
最近、陰極線管の短所を克服して、軽量化及び小型化が可能な平板表示装置が次世代表示装置で脚光を浴びている。このような平板表示装置の代表的な例としてプラズマ表示装置、液晶表示装置、有機電界発光表示装置等がある。
有機電界発光表示装置は、有機化合物を発光させて、画像を表示する自発光型表示装置であって、他の平板表示装置に比べて広い視野角の確保が可能で高解像度の実現が可能である。有機電界発光表示装置は、駆動方法により能動駆動型有機電界発光表示装置と受動駆動型有機電界発光表示装置に区分でき、発光形式により前面発光型、背面発光型及び両面発光型に区分されることもある。
画素とは画面を表示する最小単位をいう。能動駆動型有機電界発光表示装置において、画素は、発光して画像を表示する有機発光素子と有機発光素子を駆動する回路部とを含むことが一般的である。
回路部は、通常2個以上の薄膜トランジスタと一つの蓄電素子を含む。2個の薄膜トランジスタのうちの一方は、複数の画素のうち、発光させようとする画素の有機発光素子を選択する作用をするスイッチング素子の機能をする。そして、他方の薄膜トランジスタは、選択された有機発光素子を発光させるための駆動電源を印加する駆動素子の機能をする。
有機発光素子は、正孔注入電極である陽(+)極と、電子注入電極である陰(−)極及びこの両電極の間に配置された有機膜を含む構造を有する。
従来の有機電界発光表示装置は、有機発光素子で発生した光が薄膜トランジスタのチャンネル領域に流入しやすかった。このように、薄膜トランジスタのチャンネル領域に光が流入すれば、光漏洩電流が増加する問題があった。これは、薄膜トランジスタの駆動特性を低下させる不良の原因になる。
本発明の課題は、薄膜トランジスタのチャンネル領域に光が流入することを遮断して、光漏洩電流の発生を抑制することによって薄膜トランジスタの駆動特性低下を防止した有機電界発光表示装置を提供することにある。
上記課題を解決するために本発明による有機電界発光表示装置は、複数の画素領域が設定される基板、前記複数の画素領域毎にそれぞれ形成された複数の薄膜トランジスタ、前記複数の画素領域毎に一側周縁に沿って配列されたデータライン、前記複数の画素領域毎に他側周縁に沿って配列され、前記データラインと実質的に平行な共通電源ライン、前記複数の薄膜トランジスタのうちの何れか一つの薄膜トランジスタと電気的に連結され、前記複数の画素領域毎にそれぞれ形成された第1画素電極、前記第1画素電極上に形成された有機膜、及び、前記有機膜上に形成された第2画素電極を含み、前記第1画素電極は、前記データラインと近い一側周縁が前記データラインと重なる。
前記データラインと重なった前記第1画素電極の一側周縁は、前記データラインと交差形成できる。
前記第1画素電極は、前記共通電源ラインと近く、前記一側と対向する他側周縁が前記共通電源ラインと重なってもよい。
前記データラインと交差形成された前記第1画素電極の一側周縁は、その終端が隣接した画素領域に対応する前記共通電源ラインと重なってもよい。
前記第1画素電極は、前記複数の薄膜トランジスタと重なってもよい。
前記第1画素電極は、導電性反射物質を含む素材で作られ、前記第2画素電極は導電性透過物質を含む素材で作ってもよい。
これにより、薄膜トランジスタの駆動特性低下を防止できる。
本発明による有機電界発光表示装置は、薄膜トランジスタのチャンネル領域に光が流入することを遮断して、光漏洩電流の発生を抑制することによって薄膜トランジスタの駆動特性低下を防止できる。
つまり、有機発光素子の第1画素電極が薄膜トランジスタを覆いながら、画素領域の境界でデータライン及び共通電源ラインと重なるように形成される。従って、第1画素電極は、有機発光素子で発生した光が反射して、薄膜トランジスタのチャンネル領域に流入することを遮断できる。
以下、添付した図面を参照して、本発明の好ましい実施例について当業者が容易に実施することができるように詳細に説明する。しかしながら、本発明は多様に異なる形態で実現できるので、ここで説明する実施例に限定されるものではない。
添付図面では、PMOS構造の薄膜トランジスタを含む有機電界発光表示装置を示している。しかしながら、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、NMOS構造又はCMOS構造の薄膜トランジスタにも全て適用できる。
また、添付図面では、一つの画素に2個の薄膜トランジスタと1個の蓄電素子を備える2Tr−1Cap構造の能動駆動型有機電界発光表示装置を示しているが、本発明はこれに限定されるものではない。従って、有機電界発光表示装置は、一つの画素に3個以上の薄膜トランジスタと2個以上の蓄電素子を具備できて、別途の配線が更に形成されて多様な構造を有するように形成してもよい。
本発明を明確に説明するために説明と関係のない部分は省略し、明細書全体を通じて同一又は類似した構成要素については同一図面符号で示すものとする。
また、図面で多くの層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。明細書全体を通じて類似した部分については同一図面符号で示すものとする。層、膜、領域、板などの部分が他の部分“上に”又は“上部に”あるとする時、これは他の部分の“直上に”ある場合だけでなく、その中間にまた他の部分がある場合も含む。反対に、ある部分が他の部分の“真上に”あるとする時には中間に他の部分がないことを意味する。
また、説明の前に、各種実施例において、同一な構成を有する構成要素については同一な符号を使って、代表的に第1実施例で説明して、その他の第2実施例では第1実施例と異なる構成についてだけ説明する。
図1は、本発明の第1実施例による複数の画素を有する有機電界発光表示装置901で、一つの画素を概略的に示す。図2は図1のII−II線に沿って示した断面を示す。
図1に示すように、有機電界発光表示装置901は、一つの画素内に第1薄膜トランジスタ10、第2薄膜トランジスタ20、蓄電素子80、そして有機発光素子70を含む。そして、有機電界発光表示装置901は、一方向に沿って配置されるゲートライン151と、ゲートライン151と絶縁交差するデータライン171及び共通電源ライン172を更に含む。ここで、ゲートライン151、データライン171及び共通電源ライン172によって区切られる領域は実質的に一つの画素領域を定義する。しかしながら、ゲートライン151、データライン171及び共通電源ライン172によって区切られる領域が必ずしも画素領域を定義するものではなく、有機電界発光表示装置901の駆動方式、つまり、前面発光型であるか、そうではなくて背面発光型であるかによって差異を生じることがある。また、第1薄膜トランジスタ10、第2薄膜トランジスタ20及び蓄電素子80を含む回路部の配置構造によっても変わることがある。本発明による実施例では第1画素電極710が配置された領域を実質的な画素領域と定義する。
データライン171は、一つの画素領域で一側周縁に沿って配列される。共通電源ライン172は、一つの画素領域で他側周縁に沿って配列され、データライン171と実質的に平行に配列される。つまり、データライン171と共通電源ライン172は、一つの画素領域で互いに対向する両側周縁に配列される。
有機発光素子70は、正孔注入電極である陽(+)極、電子注入電極である陰(−)極、陽極と陰極の間に配置された有機膜を含む構造を有する。正孔と電子がそれぞれ陽極及び陰極から有機膜内部に注入される。注入された正孔と電子が結合したエキシトンが励起状態から基底状態に落ちる時、発光する。
蓄電素子80は、絶縁膜140(図2に図示)を間において配置された第1維持電極158と第2維持電極178を含む。
同一画素内にある第1薄膜トランジスタ10及び第2薄膜トランジスタ20は、それぞれの要素に第1または第2の接頭語を付して、第1及び第2ゲート電極152、155、第1及び第2ソース電極173、176、第1及び第2ドレーン電極174、177並びに第1及び第2半導体層131、132を有するものとする。
第1薄膜トランジスタ10は、発光させようとする画素を選択するスイッチング素子として使用される。第1薄膜トランジスタ10の第1ゲート電極152は、ゲートライン151と電気的に連結され、第1ソース電極173は、データライン171と連結され、第1薄膜トランジスタ10の第1ドレーン電極174は、蓄電素子80の第1維持電極158と連結される。
第2薄膜トランジスタ20は、選択された有機発光素子70の有機膜720(図2に図示)を発光させるための駆動電源を第1画素電極710に印加する。ここで、第1画素電極710は、有機発光素子70の陽極になる。しかしながら、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、有機電界発光表示装置901の駆動方法により第1画素電極710が有機発光素子70の陰極になってもよい。第2薄膜トランジスタ20の第2ゲート電極155は、蓄電素子80の第1維持電極158と連結され、第2ソース電極176は、共通電源ライン172と連結される。そして、第2薄膜トランジスタ20の第2ドレーン電極177は、平坦化膜180(図2に図示)を間において平坦化ドレーンコンタクトホール181を通じて、有機発光素子70の第1画素電極710と連結される。
このような構造によって、第1薄膜トランジスタ10は、ゲートライン151に印加されるゲート電圧によって、駆動されてデータライン171に印加されるデータ電圧を第2薄膜トランジスタ20に伝達する役割を果たす。共通電源ライン172から第2薄膜トランジスタ20に印加される共通電圧と第1薄膜トランジスタ10から伝達されたデータ電圧の差に相当する電圧が蓄電素子80に貯蔵され、蓄電素子80に貯蔵された電圧に対応する電流が第2薄膜トランジスタ20を通じて有機発光素子70に流れて、有機発光素子70が発光するようになる。
また、図1に示さないが、有機電界発光表示装置901は開口部を有してそれぞれの画素を定義する画素定義膜190(図2に図示)を更に含む。
第1画素電極710は、データライン171と近い一側周縁がデータライン171と重なる。そしてデータライン171と重なった第1画素電極710の一側周縁は、データライン171と交差して、一側周縁の端部が隣接した画素領域に対応する共通電源ライン172と重なる。
また、第1画素電極710は、共通電源ライン172と近い他側周縁が共通電源ライン172と重なる。ここで、第1画素電極710の一側周縁と他側周縁は互いに対向する。
また、第1画素電極710は、第1薄膜トランジスタ10及び第2薄膜トランジスタ20とも重なる。つまり、第1画素電極710は、第1薄膜トランジスタ10と第2薄膜トランジスタ20を覆う。ここで、第1画素電極710は、光を透過しない反射型導電性物質として形成される。
このような構成によって、有機発光素子70で発生した光が反射して、薄膜トランジスタ10、20のチャンネル領域に流入することを遮断できる。つまり、有機発光素子70の第1画素電極710が薄膜トランジスタ10、20を覆いながら、画素領域の境界でデータライン171及び共通電源ライン172と重なるように形成される。従って、第1画素電極710は、有機発光素子70で発生した光が薄膜トランジスタ10、20のチャンネル領域に流入することを遮断する。
図2を参照して本発明の第1実施例による有機電界発光表示装置901の構造について更に具体的に説明する。図2は、第2薄膜トランジスタ20、有機発光素子70及び蓄電素子80を中心に示している。
以下、第2薄膜トランジスタ20を中心に薄膜トランジスタの構造について説明する。第1薄膜トランジスタ10は、その構造が第2薄膜トランジスタ20と同一なのでその詳細な説明は省略する。
図2に示すように、基板110は、ガラス、石英、セラミック、プラスチックなどから成る絶縁性基板又はステンレス鋼などから成る金属性基板として形成される。
そして、基板110の上にバッファー層120が形成される。バッファー層120は、不純元素の浸透を防止し、表面を平坦化する役割を果たすものであり、このような役割を遂行できる多様な物質で形成できる。しかしながら、バッファー層120は必ずしも必要なものではなく、基板110の種類及び工程条件により省略されてもよい。
バッファー層120の上には半導体層132が形成される。半導体層132は、多結晶珪素(多結晶シリコン)として形成される。ここで半導体層132は、まず、非晶質珪素を蒸着または塗布により成膜してパターニングした後、これを結晶化する方法で形成する。また、半導体層132は、不純物がドーピングされないチャンネル領域135と、チャンネル領域135の両側でpドーピングされて形成されたソース領域136及びドレーン領域137を含む。この時、ドーピングされるイオン物質は、硼素(B)のようなP型不純物であり、主にBが使用される。ここで、このような不純物は、薄膜トランジスタの種類によって変わる。
半導体層132の上には珪素酸化物(シリコン酸化物)又は珪素窒化物(シリコン窒化物)として形成されたゲート絶縁膜140が形成される。ゲート絶縁膜140の上に第2ゲート電極155を含むゲート配線が形成される。そして、図2に示さないが、ゲート配線は、ゲートライン151(図1に図示)、第1維持電極158(図1に図示)及びその他に配線を更に含む。第2ゲート電極155は、半導体層132の少なくとも一部、特にチャンネル領域135と重なるように形成される。
図2には示さないが、ゲート配線は多重層に形成できる。例えば、アルミニウム又はアルミニウム合金を下部層で使ってモリブデン−タングステン又はモリブデン−タングステン窒化物を上部層で使うことができる。これは、下部層で配線抵抗による信号抵抗を防止するために比抵抗が小さいアルミニウム又はアルミニウム合金を使って、上部層で化学薬品による耐食性が弱く、簡単に酸化されて断線が発生するアルミニウム又はアルミニウム合金の短所を補完するために化学薬品に対する耐食性が強いモリブデン−タングステン又はモリブデン−タングステン窒化物を使うものである。最近では、モリブデン、アルミニウム、チタン、タングステンなどが配線材料として脚光を浴びている。
ゲート絶縁膜140の上には第2ゲート電極155を覆う層間絶縁膜160が形成される。ゲート絶縁膜140と層間絶縁膜160は、第2半導体層132のソース領域136及びドレーン領域137を露出させるコンタクトホール166、167を有している。ここで、ソース領域136を露出させるコンタクトホールをソースコンタクトホール166とし、ドレーン領域137を露出させるコンタクトホールをドレーンコンタクトホール167という。
層間絶縁膜160の上には第2ソース電極176及び第2ドレーン電極177を含むデータ配線が形成される。そして、図2に示さないが、データ配線は、データライン171(図1に図示)、共通電源ライン172(図1に図示)、第2維持電極178(図1に図示)及びその他に配線を更に含む。ここで、第2ソース電極176及び第2ドレーン電極177は、それぞれコンタクトホール166、167を通じて、半導体層132のソース領域136及びドレーン領域137と連結される。
また、データ配線は、ゲート配線と同様に、互いに異なる異種の材質で作られた多重層で形成して、各材質が有する短所を補完できる。
また、ゲート配線及びデータ配線の構造は、本実施例に必ずしも限定されるものではない。従って、薄膜トランジスタ10、20及びその他回路配線の構造によりゲート配線及びデータ配線の構造は多様に変形できる。つまり、ゲートライン、データライン、共通電源ライン及びその他の構成が本実施例と異なる層に形成されてもよい。
このように形成された半導体層132、第2ゲート電極155、第2ソース電極176及び第2ドレーン電極177を含んで第2薄膜トランジスタ20が作られる。
層間絶縁膜160の上にはデータ配線である第2ソース電極及び第2ドレーン電極176、177を覆う平坦化膜180が形成される。平坦化膜180は、その上に形成される有機発光素子70の発光効率を上げるために段差をなくして平坦化させる役割を果たす。また、平坦化膜180は、第2ドレーン電極177の一部を露出させるコンタクトホール181を有する。以下で第2ドレーン電極177の一部を露出させるコンタクトホール181は、平坦化ドレーンコンタクトホールという。
このような平坦化膜180は、平坦化特性に優れた物質で作られる。平坦化膜180は平坦化膜180の上に形成される有機膜720が均一な厚さを有するように形成できるようにする。従って、均一な輝度を有するように有機膜720を形成できて、発光効率を上げることができる。また、平坦化膜180の上に形成される各種導電層の断線及び短絡のような不良の発生を予防できる。
平坦化膜180の上には、有機発光素子70の第1画素電極710が形成される。第1画素電極710は、平坦化膜180の平坦化ドレーンコンタクトホール181を通じて第2ドレーン電極177と連結される。そして、複数の開口部を有してそれぞれの画素を定義する画素定義膜190が平坦化膜180及び第1画素電極710の上に形成される。この時、画素定義膜190の開口部は、第1画素電極710を示す。
そして、画素定義膜190の開口部内で第1画素電極710の上には有機膜720が形成され、画素定義膜190及び有機膜720の上には第2画素電極730が形成される。ここで、第2画素電極730は、有機発光素子70の陰極になる。つまり、有機発光素子70は、第1画素電極710、有機膜720及び第2画素電極730を含む。
第1画素電極710は、反射型導電性物質として形成され、第2画素電極730は、透過型導電性物質を含んで形成される。透過型導電性物質としてはITO(酸化インジウム錫)、IZO(酸化インジウム亜鉛)、ZnO(酸化亜鉛)又はIn(酸化インジウム)等の物質を使用できる。
有機膜720は、低分子有機物又は高分子有機物から成る。このような有機膜720は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、及び、電子注入層を含む多重膜として形成される。つまり、正孔注入層は、陽極である第1画素電極710の上に配置され、その上に正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層が順次に積層される。
また、図2には示さないが、第2画素電極730の上に封止部材を更に形成できる。
図3を参照して本発明の第2実施例による有機電界発光表示装置902を説明する。
図3に示すように、第1画素電極710は、データライン171と近い一側周縁がデータライン171と重なる。そして、データライン171と重なった第1画素電極710の一側周縁は、データライン171と交差したり、図2に示さないが一側周縁の端部がデータラインと重なってもよい。つまり、第1画素電極710の一側周縁が隣接した画素領域に対応する共通電源ライン172と重なることはない。
また、第1画素電極710は、共通電源ライン172と近い他側周縁が共通電源ライン172と重なる。ここで、第1画素電極710の一側周縁と他側周縁は互いに対向する。
このような構成によっても、有機発光素子70で発生した光が反射して、薄膜トランジスタ10、20のチャンネル領域に流入することを遮断できる。つまり、有機発光素子70の第1画素電極710が薄膜トランジスタ10、20を覆いながら、画素領域の境界でデータライン171及び共通電源ライン172と重なるように形成される。従って、第1画素電極710は、有機発光素子70で発生した光が薄膜トランジスタ10、20のチャンネル領域に流入することを遮断できる。
本発明は、前述したように説明したが、特許請求の範囲の概念と範囲を外れない限り、多様な修正及び変形が可能であるものを当業者は簡単に理解できる。
本発明の第1実施例による有機電界発光表示装置の配置図である。 図1のII−II線に沿って示した断面図である。 本発明の第2実施例による有機電界発光表示装置の配置図である。
符号の説明
10 第1薄膜トランジスタ
20 第2薄膜トランジスタ
70 有機発光素子
80 蓄電素子
131、132 第1及び第2半導体層
140 絶縁膜
151 ゲートライン
152、155 第1及び第2ゲート電極
158 第1維持電極
171 データライン
172 共通電源ライン
173、176 第1及び第2ソース電極
174、177 第1及び第2ドレーン電極
178 第2維持電極
180 平坦化膜
181 平坦化ドレーンコンタクトホール
190 画素定義膜
710 第1画素電極
720 有機膜
901 有機電界発光表示装置

Claims (6)

  1. 複数の画素領域が設定される基板、
    前記複数の画素領域毎にそれぞれ形成された複数の薄膜トランジスタ、
    前記複数の画素領域毎に一側周縁に沿って配列されたデータライン、
    前記複数の画素領域毎に他側周縁に沿って配列され、前記データラインと実質的に平行な共通電源ライン、
    前記複数の薄膜トランジスタのうちの何れか一つの薄膜トランジスタと電気的に連結され、前記複数の画素領域毎にそれぞれ形成された第1画素電極、
    前記第1画素電極上に形成された有機膜、及び、
    前記有機膜上に形成された第2画素電極、を含み、
    前記第1画素電極は、前記データラインと近い一側周縁が前記データラインと重なった、有機電界発光表示装置。
  2. 前記データラインと重なった前記第1画素電極の一側周縁は、前記データラインと交差形成された、請求項1に記載の有機電界発光表示装置。
  3. 前記第1画素電極は、前記共通電源ラインと近く、前記一側と対向する他側周縁が前記共通電源ラインと重なった、請求項2に記載の有機電界発光表示装置。
  4. 前記データラインと交差形成された前記第1画素電極の一側周縁は、その終端が隣接した画素領域に対応する前記共通電源ラインと重なった、請求項3に記載の有機電界発光表示装置。
  5. 前記第1画素電極は、前記複数の薄膜トランジスタと重なった、請求項3に記載の有機電界発光表示装置。
  6. 前記第1画素電極は、導電性反射物質を含む素材で作られ、
    前記第2画素電極は、導電性透過物質を含む素材で作られた、請求項1に記載の有機電界発光表示装置。
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