JP2017114700A - 酸化チタン及びその製造方法 - Google Patents
酸化チタン及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017114700A JP2017114700A JP2015249054A JP2015249054A JP2017114700A JP 2017114700 A JP2017114700 A JP 2017114700A JP 2015249054 A JP2015249054 A JP 2015249054A JP 2015249054 A JP2015249054 A JP 2015249054A JP 2017114700 A JP2017114700 A JP 2017114700A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium oxide
- titanium
- aqueous solution
- water
- titanium tetrachloride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 159
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 133
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 29
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 95
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims abstract description 62
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 43
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 41
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 27
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 15
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 14
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 10
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 7
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 7
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 7
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 5
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 claims description 4
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 238000000909 electrodialysis Methods 0.000 claims description 3
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 52
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 abstract description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 20
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 13
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 229960004106 citric acid Drugs 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 3
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 3
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 3
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- 239000003341 Bronsted base Substances 0.000 description 1
- YASYEJJMZJALEJ-UHFFFAOYSA-N Citric acid monohydrate Chemical compound O.OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O YASYEJJMZJALEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N Titanium ion Chemical compound [Ti+4] LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002303 citric acid monohydrate Drugs 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 or the like Chemical compound 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 238000003918 potentiometric titration Methods 0.000 description 1
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
- C01G23/047—Titanium dioxide
- C01G23/053—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts
- C01G23/0536—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts by hydrolysing chloride-containing salts
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/02—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
- H01B3/10—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances metallic oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0256—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
- H01L31/0264—Inorganic materials
- H01L31/028—Inorganic materials including, apart from doping material or other impurities, only elements of Group IV of the Periodic Table
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/36—Selection of substances as active materials, active masses, active liquids
- H01M4/48—Selection of substances as active materials, active masses, active liquids of inorganic oxides or hydroxides
- H01M4/485—Selection of substances as active materials, active masses, active liquids of inorganic oxides or hydroxides of mixed oxides or hydroxides for inserting or intercalating light metals, e.g. LiTi2O4 or LiTi2OxFy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/11—Powder tap density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/40—Electric properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
- C01P2006/82—Compositional purity water content
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/547—Monocrystalline silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Geology (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
Abstract
Description
さらに、分散性が良好であっても、例えば嵩密度が低い場合、わずかな気流で粒子が飛散してしまうため、スラリー化の際にハンドリング性の問題が生じ、生産性の低下、そのための設備によるコスト増が懸念される。
すなわち、粒子表面の水分吸着量を向上させ、かつ、嵩密度を適切な範囲とすることで、粒子のサイズが小さくても水等の極性溶媒に対して高い分散性を有し、かつハンドリング性が良好な酸化チタン粒子が得られる。そのために、液相法による超微粒子酸化チタンの製法を種々検討した結果、温水中に四塩化チタン水溶液の添加する際に従来よりかなり遅い添加速度で行うことで、従来よりも格段に高い水分吸着量を示し、分散に適切な嵩密度を有する酸化チタン粒子を得ることができた。
[1] 液相法で四塩化チタンを加水分解して酸化チタンを製造する方法において、四塩化チタン水溶液を、該四塩化チタン水溶液よりも高い温度の温水に加える工程を有し、前記工程において、前記温水の温度は30〜95℃であり、前記温水中のチタンの原子濃度上昇率が0.25〜5.0mmol/L/minになるように前記四塩化チタン水溶液が加えられ、前記工程の後の前記温水中のチタンの原子濃度は280mmol/L以下であることを特徴とする酸化チタンの製造方法。
[2]前記四塩化チタンの加水分解は、カルボキシル基を有する水溶性の有機酸及び/または無機酸の存在下で行われることを特徴とする[1]に記載の酸化チタンの製造方法。
[3]前記有機酸及び/または無機酸は多価の酸であることを特徴とする請求項2に記載の酸化チタンの製造方法。
[4]前記四塩化チタン水溶液を前記温水に加える前に予め、前記四塩化チタン水溶液に前記有機酸及び/または無機酸を加えておくことを特徴とする[2]または[3]に記載の酸化チタンの製造方法。
[5]限外ろ過膜、逆浸透膜、イオン交換樹脂及び電気透析膜の群から選択された少なくとも一つを使用して、前記四塩化チタン水溶液を加える工程で生成した酸化チタンと塩酸とを分離する脱塩素工程を有することを特徴とする [1]〜[4]のいずれかに記載の酸化チタンの製造方法。
[6]相対湿度(RH)90%、25℃における酸化チタン1mg当たりの吸水量〔(mg・H2O)/(mg・TiO2)〕をBET比表面積〔m2/(mg・TiO2)〕で除して算出される、単位面積当たりの水分吸着量が0.7mg・H2O/m2以上であって、かつ、嵩密度が0.2〜0.8g/mlであることを特徴とする酸化チタン。
[7]アナターゼ型結晶の割合が85質量%以上であることを特徴とする[6]に記載の酸化チタン。
[8]前記BET比表面積の範囲が0.2〜0.5m2/mgであることを特徴とする [6]または[7]に記載の酸化チタン
[9]前記吸水量が0.2{(mg・H2O)/(mg・TiO2)}以上であることを特徴とする[6]〜[8]のいずれかに記載の酸化チタン。
[10]上記[6]〜[9]のいずれかに記載の酸化チタンを含む組成物。
[11]上記[6]〜[9]のいずれかに記載の酸化チタンを含む誘電体材料。
[12]上記[6]〜[9]のいずれかに記載の酸化チタンを含む太陽電池用材料。
[13]上記[6]〜[9]のいずれかに記載の酸化チタンを含むリチウムイオン電池用電極材料。
以下の説明において例示される内容は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、本発明の効果を奏する範囲で適宜変更して実施することが可能である。なお、本実施形態において、酸化チタンとは酸化チタン(IV)(TiO2)のことを指す。
本実施形態にかかる酸化チタンは、相対湿度(RH)90%、25℃で測定した酸化チタン1mg当たりの吸水量〔(mg・H2O)/(mg・TiO2)〕(以下、単に「吸水量」とする場合もある)をBET比表面積〔m2/(mg・TiO2)〕で除して算出される、単位面積当たりの水分吸着量(すなわち、吸水量〔(mg・H2O)/(mg・TiO2)〕/BET比表面積〔m2/(mg・TiO2)〕)が0.7(mg・H2O)/m2以上である。
ここで、吸水量〔(mg・H2O)/(mg・TiO2)〕は、乾燥状態の酸化チタンの質量に対する吸着した水分の質量の割合である。具体的には、吸水量〔(mg・H2O)/(mg・TiO2)〕は、(乾燥させた酸化チタンに吸着した水分の質量)/(乾燥状態の酸化チタンの質量)で表される。さらに、(乾燥させた酸化チタンに吸着した水分の質量)=(25℃、相対湿度90%(RH)の恒温恒湿槽にて5時間以上放置することにより、水蒸気の吸着平衡に達した酸化チタンの質量)−(乾燥状態の酸化チタンの質量)である。
一方、単位面積当たりの水分吸着量が多すぎると、粉末を溶媒中に分散させた際にクリーム状になり、作業性が低下するおそれがある。そのため、単位面積当たりの水分吸着量は1.5(mg・H2O)/m2以下であることが好ましい。
粒径〔nm〕=6/{酸化チタンの密度:〔g/cm3〕×BET比表面積〔m2/mg〕}
なお、酸化チタンの密度はアナターゼ型結晶であれば4.00g/cm3となる。
本実施形態の酸化チタンの製造方法は、液相法で四塩化チタンを加水分解して酸化チタンを製造する方法において、四塩化チタン水溶液を、該四塩化チタン水溶液よりも高い温度の温水に加える工程を有し、前記工程において、前記温水の温度は30〜95℃であり、前記温水中のチタンの原子濃度上昇率が0.25〜5.0mmol/L/minになるように前記四塩化チタン水溶液が加えられ、前記工程の後の前記温水中のチタンの原子濃度は280mmol/L以下である。
この工程において、四塩化チタンが加水分解し、過飽和状態(粒子生成に必要なチタンの濃度を超えている状態で粒子の核が未形成の状態)に達した後、粒子生成すると考えられる。
具体的には、四塩化チタン水溶液の温度は、好ましくは35℃未満、より好ましくは30℃以下、さらに好ましくは25℃以下とすることが好ましいが、濃度等の条件によって、加水分解の進行を防ぐことができればこれに限定されない。
ここで温水中のチタンの原子濃度とは、温水中のチタン化合物に含まれるチタン原子のモル数から算出されるモル濃度である。温水中のチタンの原子濃度上昇率を制御することで、希釈熱を拡散させるための十分な時間を与え、均一に核生成させるためである。四塩化チタン水溶液の添加速度が速すぎると、チタンの過飽和度が過度に上昇し、核形成時の粒子濃度が高くなるため緻密な凝集を形成すると考えられる。そのため、酸化チタン粒子の水分吸着量が低下すると考えられる。一方、四塩化チタン水溶液の添加速度が遅すぎると、生産性が低下する。
四塩化チタン水溶液の添加速度は一定であることが好ましいが、必ずしも一定である必要はなく、場合によってはパルスで添加しても良い。この場合、時間平均のチタンの原子濃度上昇率を0.25mmol/L/min以上、5.00mmol/L/min以下に調整する。
酸化チタンを以下の実施例1〜7、及び比較例1〜6のとおり準備した。各条件については表1の製造条件の欄に示した。
イオン交換水850mLを櫛形撹拌機付き反応槽に投入した。櫛形撹拌機を約300rpmで回転させ、外部ヒーターにより、35℃に加熱し、温水とした。温水の温度を一定に保ちながら、室温(20℃)の四塩化チタン水溶液(チタン濃度18質量%)を滴下した。ここで、四塩化チタン水溶液中のチタン濃度〔質量%〕は、四塩化チタン(TiCl4)の質量を含有するチタン(Ti)成分の質量に換算して算出された濃度である。加えた四塩化チタン水溶液が20gになった時点で滴下を止め、直ちに混合した液を冷却した。滴下は一定の速さで44分かけて行われた。滴下終了後の温水中のチタンの原子濃度(すなわち、加えられた四塩化チタンと、四塩化チタン水溶液の滴下に測定した温水の体積に基づいて算出されるチタンの原子濃度)は、88mMであった。したがって、滴下中の温水中の時間平均のチタンの原子濃度上昇率は2.0mmol/L/minとなる。なお、滴下前後での温水の体積変化は約10mLと小さいため、実際のチタンの原子濃度上昇率は、滴下開始直後(最大値)と滴下終了直前(最小値)との間で上記時間平均の値とほぼ変わらず、後述する比較例4(滴下する四塩化チタン水溶液の総量が多い場合)においても±0.lmmol/L/minである。冷却後、アンモニア水にて中和し、限外ろ過膜にて濾過回収を行い、イオン交換水にて洗浄を行った後、80℃オーブンにて乾燥させて酸化チタン粉末を得た。
以下、実施例2〜7についても、実施例1とほぼ同様の方法で酸化チタンを作製しているが、生成条件を変えている。ここでは、実施例2〜7について、実施例1に対して異なる条件についてのみ説明する。
イオン交換水850mLを櫛形撹拌機付き反応槽に投入した。櫛形撹拌機を約300rpmで回転させ、外部ヒーターにより、75℃に加熱し、温水とした。
一方で、四塩化チタン水溶液(チタン濃度18質量%)に予め、添加剤としてクエン酸一水和物を、チタン1mol量に対してクエン酸が1mol%になるように添加した。
この四塩化チタン水溶液を滴下する工程は、実施例1と同様で、加えられた四塩化チタン水溶液は20g(すなわち、滴下後のチタンの原子濃度は88mM)で、滴下は一定の速さで44分かけて行われ、滴下後、直ちに混合した液を冷却した。したがって、滴下中の温水中の時間平均のチタンの原子濃度上昇率は2.0mmol/L/minとなる。
実施例9では、実施例8のクエン酸をリンゴ酸に変更したこと以外は実施例8と同じ条件で酸化チタンを作製した。
実施例10では、実施例8のクエン酸を硫酸に変更したこと以外は実施例8と同じ条件で酸化チタンを作製した。
比較例1〜4についても、実施例1に対して異なる条件についてのみ説明する。
比較例1では、イオン交換水の温度を98℃とした。比較例2では時間平均のチタンの原子濃度上昇率を8.8mmol/L/min(滴下時間10分)、比較例3では時間平均の同上昇率を0.2mmol/L/minとした(滴下時間440分)。比較例4では、加えた四塩化チタン水溶液は70gで、滴下終了後のチタンの原子濃度を300mmol/Lである(滴下時間150分)。
比較例5では、市販の酸化チタン(昭和電工株式会社製 スーパータイタニア(登録商標)F−6)を準備した。
比較例6は上記の特許文献3の実施例1に倣って以下のように作製した酸化チタンである。
イオン交換水690mLを櫛形撹拌機付き反応槽に入れ、95℃に予熱した。撹拌は約300rpmで、加熱して温度を95℃に保ちながら、ここに室温(20℃)の四塩化チタン水溶液50g(Ti濃度18質量%)を30秒間かけて滴下し、反応槽内で撹拌混合した。時間平均のチタンの原子濃度上昇率は530mmol/L/min、滴下終了後のチタンの原子濃度を265mmol/Lである。水に対して四塩化チタンを滴下した直後に均一に混合されるため、滴下時間が混合時間と近似できる。投入後も混合液は95℃を4分間維持した。その反応槽を氷浴中1分未満で50℃まで冷却した(60℃まで40秒を要した。)。反応で生じた塩酸を電気透析装置にて除去し、酸化チタンゾルを得て、100℃の乾燥機で乾燥させた後に、乳鉢にて解砕し酸化チタン粉末とした。
上記方法により作製、準備した試料に各種評価を行った。評価結果を表1に示した。評価内容及び方法について以下に述べる。
酸化チタンを乾燥させた粉末のX線回折測定を行い、アナターゼ型結晶に対応するピーク高さ(Haと略す。)、ブルッカイト型結晶に対応するピーク高さ(Hbと略す。)、及びルチル型結晶に対応するピーク高さ(Hrと略す。)から、各結晶含有率を下記式により算出した。
アナターゼ含有率(%)={Ha/(Ha+Hb+Hr)}×100
ブルッカイト含有率(%)={Hb/(Ha+Hb+Hr)}×100
ルチル含有率(%)={Hr/(Ha+Hb+Hr)}×100
粉末X線回折測定は、測定装置としてPANalytical社製「X’pertPRO」を用い、銅ターゲットを用い、Cu−Kα1線を用いて、管電圧45kV、管電流40mA、測定範囲2θ=10〜80deg、サンプリング幅0.0167deg、走査速度0.0192deg/sの条件でX線回折測定を行った。
実施例及び比較例において、塩素(Cl)、硫黄(S)、珪素(Si)の含量の測定は下記の方法により行った。
塩素(Cl)は、酸化チタンにフッ酸水溶液を添加しマイクロウェーブで加熱溶解させた液を、硝酸銀による電位差滴定法で測定した。
硫黄(S)は、高周波誘導炉燃焼・赤外線吸収法で測定した。
珪素(Si)は、蛍光X線分析法(XRF)で測定した。
BET1点法による比表面積S(m2/g)を、島津製作所製比表面積測定装置(機種:フローソーブII、2300)で測定した。
ガラスシャーレに酸化チタン10gを乗せ、減圧下、120℃で2時間、恒温槽にて乾燥させ、そのときの酸化チタンの質量M1を測定した。その後、25℃、相対湿度90%(RH)の恒温恒湿槽にて5時間以上放置することにより、水蒸気の吸着平衡に達した酸化チタンの質量M2を測定した。これら測定値の差分M2−M1から、吸着した水分の質量M3を求めた。次いで、酸化チタン1mg当たりの吸水量〔(mg・H2O)/(mg・TiO2)〕は下記式によって求めた。
酸化チタン1mg当たりの吸水量〔(mg・H2O)/(mg・TiO2)〕={(乾燥させた酸化チタンに吸着した水分の質量M3)/(乾燥させた酸化チタンの質量M1)}
また、上記の通り、吸水量〔(mg・H2O)/(mg・TiO2)〕/BET比表面積〔m2/(mg・TiO2)〕)から単位面積当たりの水分吸着量〔(mg・H2O)/m2〕を求めた。
酸化チタン粉体を充填した容器を機械的にタップした後の嵩密度を測定した。具体的には、酸化チタン粉体を補助用筒付きの100ml定容容器に充填し、その容器をタップストローク20mm、180回の条件で3分間タッピング後、その粉体重量を測定することで嵩密度が求められる。
水470mlをマグネティックスターラーにて、撹拌しながら、分散剤(ポイズ532A(商品名、花王株式会社製))5gを加えた。さらに準備された酸化チタン25gを添加し、10分間撹拌混合し、スラリーを作製した。そのスラリーをガラス製のメスシリンダーに入れ、静置し、スラリーの沈降性の有無を評価した。静置時間1時間後、5時間後に、メスシリンダーの底部を観察した。
1時間後に、沈降物が観察された場合は×、5時間後に沈降物が観察された場合は△、5時間経過しても沈降物が観察されない場合は○とした。
各試料についての評価結果を表1に示した。
実施例1〜10は、比表面積の値からいずれも粒子のサイズは十分に小さい。また、実施例1〜10の酸化チタンは、高いアナターゼ率で、単位面積当たりの水分吸着量も良好な値(0.7mg/m2以上)を示している。また、嵩密度は好適な範囲(0.2〜0.8g/ml)にあり、分散性も良好である。
Claims (13)
- 液相法で四塩化チタンを加水分解して酸化チタンを製造する方法において、四塩化チタン水溶液を、該四塩化チタン水溶液よりも高い温度の温水に加える工程を有し、
前記工程において、前記温水の温度は30〜95℃であり、前記温水中のチタンの原子濃度上昇率が0.25〜5.0mmol/L/minになるように前記四塩化チタン水溶液が加えられ、
前記工程の後の前記温水中のチタンの原子濃度は280mmol/L以下である
ことを特徴とする酸化チタンの製造方法。 - 前記四塩化チタンの加水分解は、カルボキシル基を有する水溶性の有機酸及び/または無機酸の存在下で行われることを特徴とする請求項1に記載の酸化チタンの製造方法。
- 前記有機酸及び/または無機酸は多価の酸であることを特徴とする請求項2に記載の酸化チタンの製造方法。
- 前記四塩化チタン水溶液を前記温水に加える前に予め、前記四塩化チタン水溶液に前記有機酸及び/または無機酸を加えておくことを特徴とする請求項2または3に記載の酸化チタンの製造方法。
- 限外ろ過膜、逆浸透膜、イオン交換樹脂及び電気透析膜の群から選択された少なくとも一つを使用して、前記四塩化チタン水溶液を加える工程で生成した酸化チタンと塩酸とを分離する脱塩素工程を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の酸化チタンの製造方法。
- 相対湿度(RH)90%、25℃における酸化チタン1mg当たりの吸水量〔(mg・H2O)/(mg・TiO2)〕をBET比表面積〔m2/(mg・TiO2)〕で除して算出される、単位面積当たりの水分吸着量が0.7mg・H2O/m2以上であって、かつ、嵩密度が0.2〜0.8g/mlであることを特徴とする酸化チタン。
- アナターゼ型結晶の割合が85質量%以上であることを特徴とする請求項6に記載の酸化チタン。
- 前記BET比表面積の範囲が0.2〜0.5m2/mgであることを特徴とする請求項6または7に記載の酸化チタン。
- 前記吸水量が0.2{(mg・H2O)/(mg・TiO2)}以上であることを特徴とする請求項6〜8のいずれか一項に記載の酸化チタン。
- 請求項6〜9のいずれか一項に記載の酸化チタンを含む組成物。
- 請求項6〜9のいずれか一項に記載の酸化チタンを含む誘電体材料。
- 請求項6〜9のいずれか一項に記載の酸化チタンを含む太陽電池用材料。
- 請求項6〜9のいずれか一項に記載の酸化チタンを含むリチウムイオン電池用電極材料。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015249054A JP6645821B2 (ja) | 2015-12-21 | 2015-12-21 | 酸化チタン及びその製造方法 |
SI201630467T SI3393976T1 (sl) | 2015-12-21 | 2016-12-16 | Postopek proizvodnje titanovega oksida |
US15/769,807 US11124427B2 (en) | 2015-12-21 | 2016-12-16 | Method of producing titanium oxide |
EP16834260.8A EP3393976B1 (en) | 2015-12-21 | 2016-12-16 | Method of producing titanium oxide |
KR1020187014974A KR102046273B1 (ko) | 2015-12-21 | 2016-12-16 | 산화티타늄의 제조 방법 |
CN201680070236.XA CN108367938B (zh) | 2015-12-21 | 2016-12-16 | 氧化钛及其制备方法 |
PCT/JP2016/088602 WO2017111150A1 (en) | 2015-12-21 | 2016-12-16 | Titanium oxide and method of producing the same |
TW105142078A TWI616403B (zh) | 2015-12-21 | 2016-12-19 | 氧化鈦及其製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015249054A JP6645821B2 (ja) | 2015-12-21 | 2015-12-21 | 酸化チタン及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017114700A true JP2017114700A (ja) | 2017-06-29 |
JP6645821B2 JP6645821B2 (ja) | 2020-02-14 |
Family
ID=57984994
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015249054A Active JP6645821B2 (ja) | 2015-12-21 | 2015-12-21 | 酸化チタン及びその製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11124427B2 (ja) |
EP (1) | EP3393976B1 (ja) |
JP (1) | JP6645821B2 (ja) |
KR (1) | KR102046273B1 (ja) |
CN (1) | CN108367938B (ja) |
SI (1) | SI3393976T1 (ja) |
TW (1) | TWI616403B (ja) |
WO (1) | WO2017111150A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020170918A1 (ja) | 2019-02-19 | 2020-08-27 | 昭和電工株式会社 | 酸化チタンの製造方法 |
WO2020170917A1 (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-27 | 昭和電工株式会社 | 酸化チタン |
WO2021095719A1 (ja) | 2019-11-11 | 2021-05-20 | 昭和電工株式会社 | 複合材料、その製造方法及びリチウムイオン二次電池用負極材など |
JPWO2021117568A1 (ja) * | 2019-12-12 | 2021-06-17 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2693177C1 (ru) * | 2018-04-02 | 2019-07-01 | Елена Николаевна Лапшина | Способ получения диоксида титана спецмарок и особой чистоты с регулируемой удельной поверхностью |
CN113882019A (zh) * | 2021-09-13 | 2022-01-04 | 华东理工大学 | 二氧化钛晶型调控的方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1176046A (en) * | 1966-12-19 | 1970-01-01 | Grace W R & Co | Preparation of Microspheroidal Titanium Dioxide. |
JPH02196029A (ja) * | 1989-01-25 | 1990-08-02 | Sanyo Shikiso Kk | 多孔質性酸化チタン微粒子及びその製造法 |
JP5021106B2 (ja) * | 2010-08-02 | 2012-09-05 | 昭和電工株式会社 | 酸化チタンゾル、その製造方法、超微粒子状酸化チタン、その製造方法及び用途 |
WO2015033421A1 (ja) * | 2013-09-05 | 2015-03-12 | 昭和電工株式会社 | 超微粒子二酸化チタンおよびその製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5021106A (ja) | 1973-06-28 | 1975-03-06 | ||
KR100696225B1 (ko) | 1998-05-14 | 2007-03-20 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 산화티탄졸, 박막 및 그들의 제조법 |
JP4895929B2 (ja) | 2002-03-06 | 2012-03-14 | 昭和電工株式会社 | 低ハロゲン低ルチル型超微粒子酸化チタン及びその製造方法 |
CN101700907B (zh) | 2009-11-13 | 2011-12-21 | 攀钢集团研究院有限公司 | 一种制备金红石型钛白粉的水解方法 |
TWI638777B (zh) | 2013-09-05 | 2018-10-21 | 日商昭和電工股份有限公司 | Ultrafine titanium dioxide and manufacturing method thereof |
-
2015
- 2015-12-21 JP JP2015249054A patent/JP6645821B2/ja active Active
-
2016
- 2016-12-16 US US15/769,807 patent/US11124427B2/en active Active
- 2016-12-16 WO PCT/JP2016/088602 patent/WO2017111150A1/en active Application Filing
- 2016-12-16 CN CN201680070236.XA patent/CN108367938B/zh active Active
- 2016-12-16 KR KR1020187014974A patent/KR102046273B1/ko active IP Right Grant
- 2016-12-16 EP EP16834260.8A patent/EP3393976B1/en active Active
- 2016-12-16 SI SI201630467T patent/SI3393976T1/sl unknown
- 2016-12-19 TW TW105142078A patent/TWI616403B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1176046A (en) * | 1966-12-19 | 1970-01-01 | Grace W R & Co | Preparation of Microspheroidal Titanium Dioxide. |
JPH02196029A (ja) * | 1989-01-25 | 1990-08-02 | Sanyo Shikiso Kk | 多孔質性酸化チタン微粒子及びその製造法 |
JP5021106B2 (ja) * | 2010-08-02 | 2012-09-05 | 昭和電工株式会社 | 酸化チタンゾル、その製造方法、超微粒子状酸化チタン、その製造方法及び用途 |
WO2015033421A1 (ja) * | 2013-09-05 | 2015-03-12 | 昭和電工株式会社 | 超微粒子二酸化チタンおよびその製造方法 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020170918A1 (ja) | 2019-02-19 | 2020-08-27 | 昭和電工株式会社 | 酸化チタンの製造方法 |
WO2020170917A1 (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-27 | 昭和電工株式会社 | 酸化チタン |
KR20210096194A (ko) | 2019-02-19 | 2021-08-04 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 산화티타늄의 제조 방법 |
JPWO2020170918A1 (ja) * | 2019-02-19 | 2021-09-13 | 昭和電工株式会社 | 酸化チタンの製造方法 |
KR102483558B1 (ko) | 2019-02-19 | 2023-01-02 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 산화티타늄의 제조 방법 |
WO2021095719A1 (ja) | 2019-11-11 | 2021-05-20 | 昭和電工株式会社 | 複合材料、その製造方法及びリチウムイオン二次電池用負極材など |
JPWO2021117568A1 (ja) * | 2019-12-12 | 2021-06-17 | ||
WO2021117568A1 (ja) * | 2019-12-12 | 2021-06-17 | 昭和電工株式会社 | 高耐熱性アナターゼ型酸化チタン及びその製造方法 |
KR20210145844A (ko) * | 2019-12-12 | 2021-12-02 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 고내열성 아나타아제형 산화티타늄 및 그 제조 방법 |
KR102419925B1 (ko) * | 2019-12-12 | 2022-07-11 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 고내열성 아나타아제형 산화티타늄 및 그 제조 방법 |
JP7106770B2 (ja) | 2019-12-12 | 2022-07-26 | 昭和電工株式会社 | 高耐熱性アナターゼ型酸化チタン及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20180077220A (ko) | 2018-07-06 |
KR102046273B1 (ko) | 2019-11-18 |
CN108367938A (zh) | 2018-08-03 |
TWI616403B (zh) | 2018-03-01 |
TW201730112A (zh) | 2017-09-01 |
SI3393976T1 (sl) | 2019-11-29 |
US20180237311A1 (en) | 2018-08-23 |
EP3393976B1 (en) | 2019-10-02 |
JP6645821B2 (ja) | 2020-02-14 |
US11124427B2 (en) | 2021-09-21 |
WO2017111150A1 (en) | 2017-06-29 |
CN108367938B (zh) | 2021-02-12 |
EP3393976A1 (en) | 2018-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6645821B2 (ja) | 酸化チタン及びその製造方法 | |
TWI503281B (zh) | Titanium oxide sol, method for producing the same, ultrafine particulate titanium oxide, method and use thereof | |
JP6607407B2 (ja) | 微粒子酸化チタン及びその製造方法 | |
JP6149039B2 (ja) | 超微粒子二酸化チタンおよびその製造方法 | |
JP2010105892A (ja) | ジルコニア微粒子及びその製造方法 | |
JP2007070212A (ja) | Zr−O系粒子を分散質とするゾル及びその製造方法 | |
JP2009013029A (ja) | 酸化ジルコニウム水和物粒子及びその製造方法 | |
TW201425215A (zh) | 電極用碳材的改質方法及其製成的電極用碳材 | |
JP2004315356A (ja) | 針状酸化チタン微粒子、その製造方法及びその用途 | |
JP5889261B2 (ja) | 酸化ジルコニウム−酸化チタン複合ゾル及びその製造方法 | |
WO2019189307A1 (ja) | 酸化チタン粒子及びその製造方法 | |
TWI638777B (zh) | Ultrafine titanium dioxide and manufacturing method thereof | |
CN106430303B (zh) | 一种混合结构的分级二氧化钛及其制备方法 | |
WO2020170918A1 (ja) | 酸化チタンの製造方法 | |
US20240270596A1 (en) | Titanium oxide particles and method for producing same | |
Ghanem et al. | Synthesis and characterizations of titanium tungstophosphate nanoparticles for heavy metal ions removal | |
JP2007223881A (ja) | 結晶質ハフニアゾルおよびその製造方法 | |
CN107697936B (zh) | 一种提高γ相纳米氧化铝结晶质量的合成方法 | |
JP2009209031A (ja) | 酸化ジルコニウム水和物粒子及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180910 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20181102 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190730 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190927 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191224 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200109 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6645821 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |