JP2017108019A - 配線基板、半導体パッケージ、半導体装置、配線基板の製造方法及び半導体パッケージの製造方法 - Google Patents
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- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/16227—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bond pad of the item
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- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/16237—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bonding area disposed in a recess of the surface of the item
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Abstract
【解決手段】配線基板20は、熱硬化性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなる絶縁層30と、絶縁層30の上面30Aに形成された凹部30Yと、絶縁層30から露出された上面33Aを有し、凹部30Yに形成された配線層33とを有する。配線基板20は、絶縁層30を厚さ方向に貫通し、絶縁層30から露出された上端面31Aを有するビア配線31と、ビア配線31の上端面31A及び配線層33の上面33Aに接するように、絶縁層30の上面30Aに形成された配線層40とを有する。配線基板20は、感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなり、配線層40の一部を被覆し、配線層33と配線層40とによって形成される段差を被覆し、絶縁層30の上面30Aに形成された絶縁層41を有する。絶縁層30の上面30Aと配線層33の上面33Aとビア配線31の上端面31Aとは研磨面である。
【選択図】図1
Description
以下、図1〜図14に従って第1実施形態について説明する。
図1に示した半導体パッケージ10は、例えば、パッケージオンパッケージ(POP)構造の半導体装置における下側の半導体パッケージである。この半導体パッケージ10は、配線基板20と、配線基板20に実装された半導体チップ50と、半導体チップ50の一部を被覆する封止樹脂60と、封止樹脂60及び配線基板20の一部の絶縁層を貫通する貫通孔60Xとを有している。
まず、配線構造21の構造について説明する。
配線構造23は、配線構造21の最上層に形成された絶縁層30の上面30Aに積層された配線構造である。配線構造23は、配線構造21よりも配線密度の高い配線層が形成された高密度配線層である。
ここで、絶縁層41,43の材料としては、例えば、フェノール系樹脂やポリイミド系樹脂等の感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂を用いることができる。これら絶縁層41,43は、例えば、シリカやアルミナ等のフィラーを含有していてもよい。また、配線層40,42,44の材料としては、例えば、銅や銅合金を用いることができる。
配線層42は、絶縁層41の上面に形成されている。配線層42は、配線層40と電気的に接続されている。この配線層42は、貫通孔41X内に充填されたビア配線と、絶縁層41の上面に形成された配線パターンとを有している。
次いで、図5(d)に示す工程では、シード層107上に、所定の箇所に開口パターン108Xを有するレジスト層108を形成する。開口パターン108Xは、配線層40(図1参照)の形成領域に対応する部分のシード層107を露出するように形成される。このため、開口パターン108Xの一部は、配線層33の上面33Aの一部と平面視で重なるように形成される。レジスト層108の材料としては、例えば、次工程のめっき処理に対して耐めっき性がある材料を用いることができる。レジスト層108の材料としては、例えば、レジスト層103(図3(b)参照)と同様の材料を用いることができる。また、レジスト層108は、レジスト層103と同様の方法により形成することができる。本工程において、シード層107の上面が平滑面になっているため、そのシード層107上に形成されるレジスト層108にパターニング欠陥が生じることを抑制できる。すなわち、レジスト層108に開口パターン108Xを高精度に形成することができる。
次いで、金属層109をエッチングマスクとして、不要なシード層107をエッチングにより除去する。例えば、シード層107がTi層/Cu層からなる場合には、まず、硫酸過水系のエッチング液を用いたウェットエッチングによりCu層を除去する。その後、例えば、CF4等のエッチングガスを用いたドライエッチングや、KOH系のエッチング液を用いたウェットエッチングにより、Ti層を除去する。本工程により、図6(b)に示すように、ビア配線31の上端面31Aと配線層33の上面33Aの一部とに接触されたシード層107と、そのシード層107上に形成された金属層109とからなる配線層40が絶縁層30の上面30Aに形成される。このように、配線層40は、セミアディティブ法によって形成される。また、配線層40とビア配線31と配線層33とは別工程で形成されるため、配線層40とビア配線31と配線層33とは一体的に形成されていない。なお、これ以降の図6(c)〜図9(c)では、シード層107と金属層109の図示を省略し、配線層40として図示する。
図7(b)に示す工程では、まず、回路形成面に形成された接続端子51と、その接続端子51の下面に形成された接合部材52とを有する半導体チップ50を準備する。続いて、接続端子P2上に、半導体チップ50の接続端子51をフリップチップ接合する。例えば、接合部材52がはんだ層である場合には、接続端子P2と接続端子51とを位置合わせした後に、リフロー処理を行って接合部材52(はんだ層)を溶融させ、接続端子51を接続端子P2に電気的に接続する。
次に、図9(b)に示す工程では、配線層32の下面の一部を露出させるための開口部22Xを有するソルダレジスト層22を、絶縁層30の下面に積層する。このソルダレジスト層22は、例えば、感光性のソルダレジストフィルムをラミネートし、又は液状のソルダレジストを塗布し、当該レジストを所要の形状にパターニングすることにより形成することができる。これにより、ソルダレジスト層22の開口部22Xから配線層32の下面の一部が外部接続用パッドP1として露出される。なお、必要に応じて、外部接続用パッドP1上に表面処理層を形成するようにしてもよい。
以上説明した本実施形態によれば、以下の効果を奏することができる。
(1)熱硬化性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなる絶縁層30の上面30Aに凹部30Yを形成し、その凹部30YにPOP用の接続パッドとなる配線層33(パッド34)を形成した。このため、配線層33を有する半導体パッケージ10に別の半導体パッケージを接合する際に配線層33にかかる荷重を、機械的強度の高い熱硬化性樹脂からなる絶縁層30で受けることができる。これにより、配線層33に外力が加わった際に絶縁層30にクラック等の樹脂破壊が発生することを好適に抑制することができる。
あるいは、図14(a)及び図14(b)に示すように、配線層40(回路パターン440B)の下面を、配線層33の回路パターン36の上面の一部と接するように形成することもできる。例えば図14(a)に示すように、回路パターン36を横断するように回路パターン40Bを形成し、その横断する部分で回路パターン40Bの下面と回路パターン36の上面とを接続してもよい。なお、この場合には、図2に示したパッド35を省略することもできる。
以下、図15〜図18に従って第2実施形態を説明する。先の図1〜図14に示した部材と同一の部材にはそれぞれ同一の符号を付して示し、それら各要素についての詳細な説明は省略する。
半導体装置11は、半導体パッケージ10Aと、その半導体パッケージ10Aに接合された半導体パッケージ70と、半導体パッケージ10A,70間に形成された封止樹脂95と、外部接続端子96とを有している。
半導体パッケージ10Aと半導体パッケージ70との間の空間には、封止樹脂95が充填されている。この封止樹脂95によって、半導体パッケージ70が半導体パッケージ10Aに対して固定されるとともに、配線基板20に実装された半導体チップ50が封止される。すなわち、封止樹脂95は、半導体パッケージ10Aと半導体パッケージ70とを接着する接着剤として機能するとともに、半導体チップ50を保護する保護層として機能する。さらに、封止樹脂95を設けたことにより、半導体装置11全体の機械的強度を高めることができる。
次に、図18に従って、半導体装置11の製造方法について説明する。
その後、半導体パッケージ10Aの外部接続用パッドP1上に外部接続端子96(図16参照)を形成する。以上の製造工程により、図16に示した半導体装置11を製造することができる。
(7)感光性樹脂を主成分とする絶縁層41よりも機械特性の高い封止樹脂60の上面に接続パッドP3を形成し、別の半導体パッケージ70を接続パッドP3と貫通電極61を介してPOP用の配線層33(パッド34)に電気的に接続するようにした。このため、半導体パッケージ10Aの接続パッドP3に別の半導体パッケージ70を接合する際にPOP用の配線層33(パッド34)にかかる荷重を、絶縁層30だけでなく、機械的強度の高い封止樹脂60でも受けることができる。これにより、配線層33(パッド34)にかかる荷重を封止樹脂60にも分散することができ、配線層33(パッド34)に外力が加わった際に絶縁層30にクラック等の樹脂破壊が発生することを更に抑制することができる。
なお、上記実施形態は、これを適宜変更した以下の態様にて実施することもできる。
・図10〜図14に示した変形例の半導体パッケージ10に、貫通孔60X内に充填された貫通電極61と、封止樹脂60の上面に形成された配線層62とを設けるようにしてもよい。
これに限らず、例えば図19に示すように、貫通孔60Xの内面(貫通孔60Xの内側面及び貫通孔60Xの底部に露出する配線層33の上面33A)に沿って形成された貫通電極63を介して、接続パッドP3と配線層33とを電気的に接続するようにしてもよい。このとき、図中右側に示すように、貫通孔60Xの内側面に形成された部分よりも、貫通孔60Xの底部に形成された部分が厚くなるように貫通電極63を形成してもよい。なお、この場合の接続パッドP3(配線層62)は、封止樹脂60の上面に、例えば平面視略環状(リング状)に形成される。
・上記各実施形態では、半導体チップ50の裏面を露出するように封止樹脂60を形成した。これに限らず、半導体チップ50の裏面を被覆するように封止樹脂60を形成してもよい。
・上記第2実施形態では、半導体パッケージ10Aと半導体パッケージ70とを接続する接続端子としてはんだボール90を用いるようにした。これに限らず、例えば、柱状の接続端子である金属ポストや、スプリング性を有した接続端子(スプリング接続端子)等を、半導体パッケージ10と半導体パッケージ70とを接続する接続端子として用いるようにしてもよい。
・上記各実施形態の半導体パッケージ10,10Aの製造方法において、貫通孔60Xは、封止樹脂60を形成した後であればいつ形成してもよい。例えば、半導体チップ50及び封止樹脂60を上面側から薄化した直後に、その薄化後の封止樹脂60と絶縁層43,41とを厚さ方向に貫通する貫通孔60Xを形成するようにしてもよい。
11 半導体装置
20 配線基板
21 配線構造
22 ソルダレジスト層(最外絶縁層)
23 配線構造
30 絶縁層
30X 貫通孔
30Y 凹部
31 ビア配線
32 配線層
33 配線層
40 配線層
41 絶縁層
42 配線層
43 絶縁層(最上層の絶縁層)
44 配線層(最上層の配線層)
50 半導体チップ
60 封止樹脂
60X 貫通孔
61 貫通電極
62 配線層
70 半導体パッケージ
90 はんだボール(接続端子)
P2 接続端子(パッド)
P3 接続パッド
Claims (12)
- 熱硬化性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなる第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の上面に形成された凹部と、
前記第1絶縁層から露出された上面を有し、前記凹部に形成された第1配線層と、
前記第1絶縁層を厚さ方向に貫通し、前記第1絶縁層から露出された上端面を有するビア配線と、
前記ビア配線の上端面及び前記第1配線層の上面に接するように、前記第1絶縁層の上面に形成された第2配線層と、
感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなり、前記第2配線層の一部を被覆するとともに、前記第1絶縁層の上面に形成された第2絶縁層と、を有し、
前記第1絶縁層の上面と前記第1配線層の上面と前記ビア配線の上端面とが研磨面であり、
前記第1配線層と前記第2配線層の接続部は、前記第1配線層の上面と前記第2配線層の上面及び側面とによって形成される段差を有し、
前記第2絶縁層は、前記段差を被覆するように形成されていることを特徴とする配線基板。 - 前記第2配線層と前記第2絶縁層とを含み、感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなる絶縁層と配線層とを複数層有する配線構造と、
前記ビア配線の下端面に接するように、前記第1絶縁層の下面に形成された第3配線層と、
感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなり、前記第3配線層の一部を被覆するように前記第1絶縁層の下面に形成された最外絶縁層と、を有し、
前記配線構造の最上層の配線層は、電子部品と接続されるパッドを有することを特徴とする請求項1に記載の配線基板。 - 熱硬化性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなる第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の上面に形成された凹部と、
前記第1絶縁層から露出された上面を有し、前記凹部に形成された第1配線層と、
前記第1絶縁層を厚さ方向に貫通し、前記第1絶縁層から露出された上端面を有するビア配線と、
感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなる絶縁層と配線層とを複数層有し、前記第1絶縁層の上面に積層された配線構造と、
前記配線構造の最上層の配線層に接続された電子部品と、
前記電子部品を封止する封止樹脂と、を有し、
前記配線構造は、
前記ビア配線の上端面及び前記第1配線層の上面に接するように、前記第1絶縁層の上面に形成された第2配線層と、
感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなり、前記第2配線層の一部を被覆するとともに、前記第1絶縁層の上面に形成された第2絶縁層と、を有し、
前記第1絶縁層の上面と前記第1配線層の上面と前記ビア配線の上端面とが研磨面であり、
前記第1配線層と前記第2配線層の接続部は、前記第1配線層の上面と前記第2配線層の上面及び側面とによって形成される段差を有し、
前記第2絶縁層は、前記段差を被覆するように形成されていることを特徴とする半導体パッケージ。 - 前記封止樹脂と前記配線構造の絶縁層とを厚さ方向に貫通して、前記第1配線層の上面の一部を露出する貫通孔を有することを特徴とする請求項3に記載の半導体パッケージ。
- 前記貫通孔内に形成され、前記第1配線層と接続された貫通電極と、
前記封止樹脂の上面に形成され、前記貫通電極を介して前記第1配線層と接続された接続パッドと、を有することを特徴とする請求項4に記載の半導体パッケージ。 - 前記電子部品は、前記最上層の配線層にフリップチップ実装された半導体チップであり、
前記封止樹脂は、前記半導体チップの回路形成面及び側面を被覆し、前記半導体チップの回路形成面とは反対側の裏面を露出するように形成され、
前記封止樹脂の上面と前記半導体チップの裏面とは面一になるように形成されていることを特徴とする請求項3〜5のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。 - 前記ビア配線の下端面に接するように、前記第1絶縁層の下面に形成された第3配線層と、
感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなり、前記第3配線層の一部を被覆するように前記第1絶縁層の下面に形成された最外絶縁層と、を有し、
前記第1絶縁層の熱膨張係数と前記封止樹脂の熱膨張係数と前記最外絶縁層の熱膨張係数とが等しくなるように調整されていることを特徴とする請求項3〜6のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。 - 請求項4〜7のいずれか一項に記載の半導体パッケージと、
前記半導体パッケージの上に接続端子を介して積層された他の半導体パッケージと、
を有することを特徴とする半導体装置。 - 熱硬化性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなる第1絶縁層と、前記第1絶縁層の上面に形成された凹部と、前記第1絶縁層から露出された上面を有し、前記凹部に形成された第1配線層とを有する構造体を支持基板上に形成する工程と、
前記第1絶縁層を厚さ方向に貫通する貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔を充填するとともに、前記第1絶縁層の上面及び前記第1配線層の上面を被覆する導電層を形成する工程と、
前記第1絶縁層の上面から突出した前記導電層と前記第1絶縁層の上面の一部と前記第1配線層の上面の一部とを研磨することにより、前記第1絶縁層の上面に露出する上端面を有するビア配線を前記貫通孔内に形成する工程と、
前記第1絶縁層の上面に、前記ビア配線の上端面及び前記第1配線層の上面と接する第2配線層を形成する工程と、
前記第1絶縁層の上面に、前記第2配線層の一部を被覆するとともに、前記第1配線層の上面と前記第2配線層の上面及び側面とによって形成される段差を被覆するように、感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなる第2絶縁層を形成する工程と、
を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 熱硬化性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなる第1絶縁層と、前記第1絶縁層の上面に形成された凹部と、前記第1絶縁層から露出された上面を有し、前記凹部に形成された第1配線層とを有する構造体を支持基板上に形成する工程と、
前記第1絶縁層を厚さ方向に貫通する貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔を充填するとともに、前記第1絶縁層の上面及び前記第1配線層の上面を被覆する導電層を形成する工程と、
前記第1絶縁層の上面から突出した前記導電層と前記第1絶縁層の上面の一部と前記第1配線層の上面の一部とを研磨することにより、前記第1絶縁層の上面に露出する上端面を有するビア配線を前記貫通孔内に形成する工程と、
前記第1絶縁層の上面に、感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなる絶縁層と配線層とを複数層有する配線構造を積層する工程と、
前記配線構造の最上層の配線層に電子部品を接続する工程と、
前記配線構造の最上層の絶縁層の上面に、前記電子部品を封止する封止樹脂を形成する工程と、を有し、
前記配線構造を積層する工程は、
前記第1絶縁層の上面に、前記ビア配線の上端面及び前記第1配線層の上面と接する第2配線層を形成する工程と、
前記第1絶縁層の上面に、前記第2配線層の一部を被覆するとともに、前記第1配線層の上面と前記第2配線層の上面及び側面とによって形成される段差を被覆するように、感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなる第2絶縁層を形成する工程と、を有することを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - 前記封止樹脂及び前記電子部品を上面側から薄化する工程と、
薄化後の前記封止樹脂と前記配線構造の絶縁層とを厚さ方向に貫通し、前記第1配線層の上面の一部を露出する貫通孔を形成する工程と、
を有することを特徴とする請求項10に記載の半導体パッケージの製造方法。 - 前記支持基板を除去する工程と、
前記第1絶縁層の下面に、前記ビア配線の下端面と接する第3配線層を形成する工程と、
前記第1絶縁層の下面に、感光性樹脂を主成分とする絶縁性樹脂からなり、前記第3配線層の一部を被覆する最外絶縁層を形成する工程と、
を有することを特徴とする請求項10又は11に記載の半導体パッケージの製造方法。
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