JP2017071724A - 防曇剤 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】式(1)で表される界面活性剤と式(1)中の活性水素と反応可能な官能基を有するシランカップリング剤との反応生成物である界面活性シランカップリング剤の加水分解物。前記界面活性シランカップリング剤加水分解物で金属酸化物を修飾した修飾金属酸化物ゾル。R1−X−(CH2CH2O)n・・・・・(1)(R1はC1〜20のアルキル基;Xは−O−、−COO−又は−CONH−;nは1〜30の整数;YはH又は−CH2COOH)
【選択図】なし
Description
また、防曇剤の特許としては、リン酸エステル型乳化剤を使用する防曇剤(特許文献2)、ポリアクリル酸類を使用する防曇剤(特許文献3)等が、出願されている。
すなわち、本発明は、以下の技術的手段から構成される。
R1−X−(CH2CH2O)n−Y (1)
{式中R1は炭素数1〜20のアルキル基(該アルキル基はベンゼン環及び二重結合を含んでいてもよい。)、Xは−O−、−COO−あるいは−CONH−であり、nは1〜30の自然数であり、Yは水素原子、−CH2COOHを表す。}
式(1)中の活性水素と反応可能な官能基を有するシランカップリング剤との反応生成物である界面活性シランカップリング剤の加水分解物であることを特徴とする界面活性シランカップリング剤加水分解物。
〔2〕 金属酸化物ゾルを前記界面活性シランカップリング剤加水分解物で修飾したことを特徴とする修飾金属酸化物ゾル。
〔3〕 前記修飾金属酸化物ゾルが、さらに、下記式(2)で表されるケイ素系化合物を少なくとも1種含有することを特徴とする修飾金属酸化物ゾル。
X−(R3)m−Si(CH3)n(−Y)3−n (2)
{式中Xは、ビニル基、チオール基、アミノ基、塩素原子、アクリル基、メタクリル基、スチリル基、フェニル基、グリシドキシ基、3,4−エポキシシクロヘキシル基及びブロック化イソシアネート基からなる群から選ばれる官能基であり、R3は炭素数1〜5のアルキレン基であり、mは0又は1であり、Yは同一或いは異なってもよい炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸基、nは0又は1を表す。}
〔4〕 前記修飾金属酸化物ゾルの原料である金属酸化物ゾルがオルガノシリカゾルであることを特徴とする前記〔2〕又は前記〔3〕に記載の修飾金属酸化物ゾル。
〔5〕 前記〔1〕に記載の界面活性シランカップリング剤加水分解物及び/又は前記〔2〕〜〔4〕に記載の修飾金属酸化物ゾルの1種以上を含有することを特徴とする防曇剤。
〔6〕 前記〔1〕に記載の界面活性シランカップリング剤加水分解物及び/又は前記〔2〕〜〔4〕に記載の修飾金属酸化物ゾルの1種以上を含有することを特徴とする防曇剤。
〔7〕前記〔6〕に記載の防曇性コーティング組成物をコーティング後硬化させて得られることを特徴とする構造体。
本発明の界面活性シランカップリング剤加水分解物類を含有した防曇剤は、水蒸気に暴露しても全く曇らない防曇剤である。
また本発明の界面活性シランカップリング剤加水分解物類を含有した防曇剤は、ガラスやプラスチックなどに対して防曇効果が大きいため、ガラス、メガネレンズ、光学レンズ、ミラー等の曇り防止剤(防曇剤)の効果が大きく、コーティング可能で安価に製造出来るため、防曇剤のみならず、親水化剤、帯電防止剤、親水性コーティング組成物、抗菌剤、イオン(プロトン)伝導材として好適である。
一般式(1)で表される化合物は、界面活性剤であり、界面活性剤として市販されているものを使用することができる。
nは1〜30の自然数であり、原料入手の点及び液体として取り扱い易い1〜9が好ましい。
Yは水素原子あるいは−CH2COOHである。
前記式(1)で表される化合物からなる界面活性剤で市販されているものは、通常エチレンオキサイドの付加数は一定でなく、その結果として単一なものでなく、エチレンオキサイドの付加数が異なった混合物として存在する。
前記式(1)で表される化合物の混合物であるの場合には、液体で取り扱いが容易な前記一般式(1)中のnが平均で9以下であることが好ましい。
CH3O(CH2CH2O)2H
CH3O(CH2CH2O)3H
CH3O(CH2CH2O)4H
CH3O(CH2CH2O)5H
CH3O(CH2CH2O)6H
C12H25O(CH2CH2O)3CH2COOH
C12H25O(CH2CH2O)4CH2COOH
C12H25O(CH2CH2O)5CH2COOH
C13H27O(CH2CH2O)3CH2COOH
C12H25O(CH2CH2O)7H
C12H25O(CH2CH2O)8H
C12H25O(CH2CH2O)9H
C12H25O(CH2CH2O)10H
C12H25O(CH2CH2O)11H
C17H35COO(CH2CH2O)9H
C17H33COO(CH2CH2O)5H
C17H33COO(CH2CH2O)9H
C17H33COO(CH2CH2O)14H
C17H35CONHCH2CH2OH
CH3−O−(CH2CH2O)2CH2CH(OH)CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
CH3−O−(CH2CH2O)2CH2CH(OH)CH2OCH2CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2
CH3−O−(CH2CH2O)3CH2CH(OH)CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
CH3−O−(CH2CH2O)3CH2CH(OH)CH2OCH2CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2
C12H25−O−(CH2CH2O)6CH2CH(OH)CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
C12H25−O−(CH2CH2O)6CH2COOCH2CH(OH)CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
C12H25−O−(CH2CH2O)7CH2CH(OH)CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
C12H25−O−(CH2CH2O)7CH2COOCH2CH(OH)CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
C12H25−O−(CH2CH2O)8CH2COOCH2CH(OH)CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
C12H25−O−(CH2CH2O)9CH2COOCH2CH(OH)CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
CH3−O−(CH2CH2O)2CH2CH2OCONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3
CH3−O−(CH2CH2O)3CH2CH2OCONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3
C10H21−O−(CH2CH2O)6CH2CH2OCONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3
C10H21−O−(CH2CH2O)7CH2CH2OCONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3
C10H21−O−(CH2CH2O)8CH2CH2OCONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3
C10H21−O−(CH2CH2O)9CH2CH2OCONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3
C12H25−O−(CH2CH2O)6CH2CH2OCONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3
C12H25−O−(CH2CH2O)7CH2CH2OCONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3
C12H25−O−(CH2CH2O)8CH2CH2OCONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3
C12H25−O−(CH2CH2O)9CH2CH2OCONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3
C12H25−O−(CH2CH2O)8CH2CONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3
C12H25−O−(CH2CH2O)9CH2CONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3
CH3−O−(CH2CH2O)3COCH2CH(COOH)CH2CH2CH2Si(OCH3)3
CH3−O−(CH2CH2O)3COCH(CH2COOH)CH2CH2CH2Si(OCH3)3
C12H25−O−(CH2CH2O)7COCH2CH(COOH)CH2CH2CH2Si(OCH3)3
C12H25−O−(CH2CH2O)8COCH(CH2COOH)CH2CH2CH2Si(OCH3)3
C17H35−COO−(CH2CH2O)9COCH2CH(COOH)CH2CH2CH2Si(OCH3)3
C17H33−COO−(CH2CH2O)5COCH(CH2COOH)CH2CH2CH2Si(OCH3)3
すなわち、前記式(1)で表される化合物とシランカップリング剤を混合して、室温あるいは加熱下反応させることにより得られる。
必要により触媒を用いてもよい。
用いる触媒としては、前記式(1)で表される化合物末端が水酸基でシランカップリング剤がエポキシ基を有している場合、酸触媒(例えば、p-トルエンスルホン酸や硫酸等)が挙げられる。
また、界面活性剤末端が水酸基でシランカップリング剤がイソシアネート基を有している場合、スズ系触媒(例えば、ジブチルスズジアセテートやジブチルスズジラウリエート等)やジルコニア系触媒(例えば、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート等)等が挙げられる。
これらのうち、無溶媒で行うのが好ましい。
すなわち、界面活性シランカップリング剤を水溶性溶剤{例えば、アルコール系溶剤(メチルアルコール、エチルアルコール及びイソプロピルアルコール等)、エーテル系溶剤(テトラハイドロフランやジオキサン等)及びケトン系溶剤(アセトンやメチルエチルケトン等)等}に溶解させ水を加えて加水分解させることにより、界面活性シランカップリング剤の加水分解物を得ることが出来る。
溶媒に対する、界面活性シランカップリング剤の濃度は、0.001〜20重量%であり、特に0.01〜10重量%が好ましい。
用いる水の量は界面活性シランカップリング剤の加水分解基に対して等モル以上であれば特に問題ない。
界面活性シランカップリング剤の加水分解物で修飾された修飾金属酸化物ゾルは、界面活性シランカップリング剤の加水分解時あるいは加水分解後に金属酸化物ゾルを添加することにより得ることが出来る。
金属酸化物ゾルに対する界面活性シランカップリング剤の量はゾル1gに対して0.01mmol以上であり、好ましくは0.05〜10.0mmolである。
0.01未満であると界面活性シランカップリング剤の濃度が低すぎ、防曇性が低下し、10.0を超えると金属酸化物上のシラノールが不足して界面活性シランカップリング剤どうしが自己縮合する恐れがあり、また成膜性が低下して好ましくない。
これらのうち、シリカゾルが好ましく、オルガノシリカゾルが特に好ましい。
具体的には日産化学社製のオルガノシリカゾル(メタノールシリカゾル、IPA−ST、IPA−ST、IPA−ST−UP、IPA−ST−ZL、EG−ST、NPC−ST−30、DMAC−ST、MEK−ST、MIBK−ST、PMA−ST及びPGM−ST)や扶桑化学社製の高純度オルガノシリカゾル(PL−1−IPA、PL−2L−PGME及びPL−2L−MEK)等が挙げられる。
これらは単独のみならず、複数で用いても良い。
X−(R3)m−Si(CH3)n(-Y)3−n (2)
{式中Xは、炭素数1〜20の直鎖又は分岐アルキル基、ビニル基、チオール基、アミノ基、塩素原子、アクリル基、メタクリル基、アルキルエステル基、スチリル基、フェニル基、イミダゾリル基、グリシドキシ基、3,4-エポキシシクロヘキシル基及びブロック化イソシアネート基からなる群から選ばれる官能基であり、R3は炭素数1〜5のアルキレン基であり、mは0又は1であり、Yは同一或いは異なってもよい炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸基、nは0又は1を表す。}
上記ケイ素系化合物は通常、金属酸化物ゾルの水酸基(例えば、シラノール)と縮合反応する。
すなわち、界面活性シランカップリング剤加水分解物類の溶液に式(2)で表されるケイ素系化合物を添加し、金属酸化物ゾルの水酸基(例えば、シラノール)と縮合反応させることにより得ることが出来る。
CH3Si(OCH3)3
CH3Si(OC2H5)3
C8H17Si(OCH3)3
C8H17Si(OC2H5)3
C18H37Si(OCH3)3
C18H37Si(O2H5)3
CH2=CHSi(OCH3)3
CH2=CHSi(OC2H5)3
H2NCH2CH2CH2Si(OCH3)3
H2NCH2CH2CH2Si(OC2H5)3
ClCH2CH2CH2Si(OCH3)3
SHCH2CH2CH2Si(OCH3)3
SHCH2CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2
CH2=CHCOOCH2CH2CH2Si(OCH3)3
CH2=C(CH3)COOCH2CH2CH2Si(OCH3)3
C6H5Si(OCH3)3
C6H5Si(OC2H5)3
(CH3)3COCOCH2CH2SCH2CH2CH2Si(OCH3)3
(CH3)3COCOCH2CH2SCH2CH2CH2(CH3)Si(OCH3)2
上記範囲であると、ケイ素系化合物が有する特性(例えば、分散性、基板に対する密着性及び硬化特性等)がより発揮でき、また、前記式(2)で表されるケイ素系化合物どうしの自己縮合が起こらず、成膜性も良好となる。
反応温度も限定されないが、室温から沸点が好ましい。
反応時間も限定されないが、2〜48時間が好ましく、8〜24時間が特に好ましい。
金属アルコキサイドや金属キレートは下記式(3)及び(4)で表される。
M(OR4)4 (3)
M(OR4)2R5 2 (4)
〔式中、Mはケイ素、チタンあるいはジルコニウムであり、R4はアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜8の低級アルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜4の低級アルキル基である。〕
上記R4としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
R5はβ-ジケトン基であり、具体的には、β-アセチルアセトナート基等が挙げられる。
すなわち、界面活性シランカップリング剤加水分解物類に、金属アルコキサイドや金属キレート及び/又はそのオリゴマーを添加し、金属酸化物ゾルの水酸基(例えば、シラノール)と縮合反応させることにより得ることが出来る。
上記範囲であると、金属アルコキサイドや金属キレート及び/又はそのオリゴマーが有する特性(例えば、分散性、硬化特性等)がより発揮でき、また成膜性及び耐久性も良好となる。
反応温度も限定されないが、室温から沸点が好ましい。
反応時間も限定されないが、2〜48時間が好ましく、8〜24時間が特に好ましい。
金属塩としては、水酸化物(水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等)、酢酸塩(酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム及び酢酸銀等)、硝酸塩(硝酸カルシウム、硝酸バリウム等)及び金属酸化物(酸化銀等)が挙げられる。
塩基としては、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド等が挙げられる。
金属塩あるいは塩基の添加量は、界面活性シランカップリング剤加水分解物類に対して通常0.01〜500重量%であり、好ましくは、0.05〜200重量%であり、より好ましくは、0.1〜100重量%である。る。
上記化合物の一例としては、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリエステル系ジオール、ポリカーボネート系ジオール、ポリカプロラクトン系ジオール、ビスフェノールA‐エピクロロヒドリン樹脂、エポキシノボラック樹脂、脂環式エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、多官能性エポキシ樹脂、ポリエチレンイミン、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)、1,12−ドデカン二酸、ε−カプロラクタム、メチルエチルケトオキシム及び3,5−ジメチルピラゾール基でブロックされたイソフォロンジイソシアネート、4,4‘−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート及びトルエンジイソシアネート等が挙げられる。
溶剤としては、本発明のシランカップリング剤加水分解物及び修飾金属酸化物ゾルと反応せず、これらを溶解及び/又は分散させるものであれば制限がなく、例えば、エーテル系溶剤(テトラハイドロフラン、ジオキサン等)、アルコール系溶剤(メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、iso−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール等)、ケトン系溶剤(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等)及び非プロトン性溶媒(N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等)及び水等が挙げられる。
コーティング液としては、ハードコート剤、反射防止コート剤、赤外線吸収コート剤、ガスバリアコート剤、帯電防止コート剤及び紫外線吸収コート剤などが挙げられる。
フタージェント100、フタージェント100C、フタージェント110、フタージェント150、フタージェント150CH、フタージェントA-K、フタージェント501、フタージェント250、フタージェント251、フタージェント222F、フタージェント208G、フタージェント300、フタージェント310及びフタージェント400SW等が挙げられる。
又は熱処理により脱水縮合を進行させて硬化させ、コーティング膜の機械物性及び化学物性を向上させても良い。
或いは、上記二つの方法を行っても良い。
また前記式(2)で表されるケイ素系化合物が、ラジカル重合、カチオン重合及びエン・チオール反応等の脱水縮合以外の重合性を有している場合、光又は熱で重合させてから脱水縮合させてもよい。又、重合を脱水縮合と同時におこなってもよい。光としては紫外線、可視光等が挙げられる。
前記式(2)で表されるケイ素系化合物が重合性を有している場合、光又は熱でラジカルを発生する開始剤も使用可能である。
(1)三洋化成工業株式会社製界面活性剤(ビューライトLCA−H、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸、酸価:107)7.57gと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン3.4gをアルゴン雰囲気下、100℃で2日間反応させることにより、ビューライトLCA−Hと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランがエステル結合を介して結合した界面活性シランカップリング剤10.3gを得た。1H−NMR測定から原料である3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのエポキシ環上のプロトン(2.62、2.80、3.16ppm)の吸収が消失を確認した。
(2)(1)で得た界面活性シランカップリング剤1.0gをエタノール48.0gに溶解させ、水1.0gを加えて一晩加熱還流させることにより、界面活性シランカップリング剤が加水分解した化合物を含むエタノール溶液50.0gを得た。
(3)(2)で得たエタノール溶液4.0gをエタノール46.0gに溶解させることにより本発明の防曇剤を含むエタノール溶液50.0gを得た。
(1)三洋化成工業株式会社製界面活性剤(エマルミンL−90−S、ドデシルアルコールのエチレンオキサイド付加物、水酸基価:98.3)10.0gと3−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン4.33g(17.5mmol)をアルゴン雰囲気下、100℃で2日間反応させることにより3−イソシアナートプロピルトリエトキシシランとエマルミンL−90−Sがウレタン結合を介して結合した化合物13.8gを得た。 1H−NMR測定から原料である3−(トリエトキシシリル)プロピルイソシアネートのイソシアネート基が結合した炭素のプロトン(3.27〜3.32ppm)の吸収が消失して、新たに目的物のカーバメート基が結合した炭素のプロトン(3.15〜3.17ppm)の吸収を確認した。
(2)(1)で得た界面活性シランカップリング剤1.0gをエタノール48.0gに溶解させ、水1.0gを加えて一晩加熱還流させることにより、界面活性シランカップリング剤が加水分解した化合物を含むエタノール溶液50.0gを得た。
(3)(2)で得たエタノール溶液4.0gをエタノール46.0gに溶解させることにより本発明の防曇剤を含むエタノール溶液50.0gを得た。
(1)三洋化成工業株式会社製界面活性剤(エマルミンL−90−S、ドデシルアルコールのエチレンオキサイド付加物、水酸基価:98.3)20.2gと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン8.4gを、触媒としてp−トルエンスルホン酸0.1gを用い、アルゴン雰囲気下、100℃で2日間反応させることにより、エマルミンL−90−Sとグリシドキシプロピルトリメトキシシランがエーテル結合を介して結合した界面活性シランカップリング剤28.1gを得た。1H−NMR測定から原料である3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのエポキシ環上のプロトン(2.62、2.80、3.16ppm)の吸収が消失を確認した。
(2)(1)で得た界面活性シランカップリング剤1.0gをエタノール48.0gに溶解させ、水1.0gを加えて一晩加熱還流させることにより、界面活性シランカップリング剤が加水分解した化合物を含むエタノール溶液50.0gを得た。
(3)(2)で得たエタノール溶液4.0gをエタノール46.0gに溶解させることにより本発明の防曇剤を含むエタノール溶液50.0gを得た。
(1)トリエチレングリコールモノメチルエーテル(東京化成工業株式会社製)16.4g(100.0mmol)と3−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン24.7g(100.0mmol)をアルゴン雰囲気下、100℃で2日間反応させることにより3−イソシアナートプロピルトリエトキシシランとトリエチレングリコールモノメチルエーテルがウレタン結合を介して結合した界面活性シランカップリング剤40.5gを得た。1H−NMR測定から原料である3−(トリエトキシシリル)プロピルイソシアネートのイソシアネート基が結合した炭素のプロトン(3.27〜3.32ppm)の吸収が消失して、新たに目的物のカーバメート基が結合した炭素のプロトン(3.13〜3.18ppm)の吸収を確認した。
(2)(1)で得た界面活性シランカップリング剤1.0gをエタノール48.0gに溶解させ、水1.0gを加えて一晩加熱還流させることにより、界面活性シランカップリング剤が加水分解した化合物を含むエタノール溶液50.0gを得た。
(3)(2)で得たエタノール溶液2.0gをエタノール48.0gに溶解させることにより本発明の防曇剤を含むエタノール溶液50.0gを得た。
(1)実施例3の(1)で得た界面活性シランカップリング剤4.0gをエタノール33.5gに溶解させた後、オルガノシリカゾル(日産化学製、30%イソプロパノール溶液、IPA−ST)6.0g、水6.5gを加え24時間加熱還流することにより、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを介してドデシルアルコールのエチレンオキサイド付加物基で修飾されたシリカゾル(ドデシルアルコールのエチレンオキサイド付加物がシリカゾル1gあたり約2.78mmol結合)を含むエタノール溶液50.0gを得た。
(2)(1)で得たエタノール溶液2.5gをエタノール47.5gに溶解させ一晩加熱還流することにより、本発明の防曇剤を含むエタノール溶液50.0gを得た。
(1)3,5−ジメチルピラゾール4.81g(50.0mmol)と3−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン12.35g(50.0mmol)を室温で3日間撹拌することにより3−イソシアナートプロピルトリエトキシシランのイソシアナート基を3,5−ジメチルピラゾールでブロックしたブロックドイソシアナート化合物16.8gを得た。1H−NMR測定から原料である3−(トリエトキシシリル)プロピルイソシアネートのイソシアネート基が結合した炭素のプロトン(3.27〜3.32ppm)の吸収が消失して、新たに目的物のウレア基が結合した炭素のプロトン(3.32〜3.39ppm)の吸収を確認した。
(2)実施例5の(1)で得た3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを介してドデシルアルコールのエチレンオキサイド付加物基で修飾されたオルガノシリカゾルを含むエタノール溶液10.0gをエタノール39.8gに溶解させた後、(1)で得た3−イソシアナートプロピルトリエトキシシランのイソシアナート基を3,5−ジメチルピラゾールでブロックしたブロックドイソシアナート化合物0.2gを加えることにより、本発明の防曇剤であるドデシルアルコールのエチレンオキサイド付加物基とブロックイソシアナート基で修飾されたシリカゾル(ドデシルアルコールのエチレンオキサイド付加物基とブロックイソシアナート基がシリカゾル1gあたりそれぞれ約2.78mmolと1.6mmol結合)を含むエタノール溶液50.0gを得た。
実施例1〜6で得た防曇剤で以下の様に所定の基板の表面を改質し、70℃の温水浴上部に基板を置いて防曇性能(水蒸気による曇りの有無)を評価した。結果を表1に示した。
(実施例1〜5:スライドガラス、実施例6:ポリカーボネート)
(2)ポリカーボネート板{76mm、26mm、1.0mm;エタノールで洗浄したもの}を処理液(表面防曇剤)に浸漬し、ポリカーボネート板を取り出した後、液切りをし、130℃、1間加熱処理した表面防曇ポリカーボネート板を得た。
(3)接触角測定装置{協和界面化学株式会社、DROP MASTER 500、液適量2μL、測定間隔1000ms、測定回数30回}で、表面防曇スライドガラスあるいは表面防曇ポリカーボネート板の表面の任意の5箇所について、接触角(度)を測定し、平均値を算出した。
Claims (7)
- 下記式(1)で表される界面活性剤と
R1−X−(CH2CH2O)n−Y (1)
{式中R1は炭素数1〜20のアルキル基(該アルキル基はベンゼン環及び二重結合を含んでいてもよい。)、Xは−O−、−COO−あるいは−CONH−であり、nは1〜30の自然数であり、Yは水素原子、−CH2COOHを表す。}
式(1)中の活性水素と反応可能な官能基を有するシランカップリング剤との反応生成物である界面活性シランカップリング剤の加水分解物であることを特徴とする界面活性シランカップリング剤加水分解物。 - 金属酸化物ゾルを前記界面活性シランカップリング剤加水分解物で修飾したことを特徴とする修飾金属酸化物ゾル。
- 前記修飾金属酸化物ゾルが、さらに、下記式(2)で表されるケイ素系化合物を少なくとも1種含有することを特徴とする修飾金属酸化物ゾル。
X−(R3)m−Si(CH3)n(−Y)3−n (2)
{式中Xは、ビニル基、チオール基、アミノ基、塩素原子、アクリル基、メタクリル基、スチリル基、フェニル基、グリシドキシ基、3,4−エポキシシクロヘキシル基及びブロック化イソシアネート基からなる群から選ばれる官能基であり、R3は炭素数1〜5のアルキレン基であり、mは0又は1であり、Yは同一或いは異なってもよい炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸基、nは0又は1を表す。} - 前記修飾金属酸化物ゾルの原料である金属酸化物ゾルがオルガノシリカゾルであることを特徴とする請求項2〜3に記載の修飾金属酸化物ゾル。
- 請求項1に記載の界面活性シランカップリング剤加水分解物及び/又は請求項2〜4に記載の修飾金属酸化物ゾルの1種以上を含有することを特徴とする防曇剤。
- 請求項1に記載の界面活性シランカップリング剤加水分解物及び/又は請求項2〜4に記載の修飾金属酸化物ゾルの1種以上を含有することを特徴とする防曇性コーティング組成物。
- 請求項6に記載の防曇性コーティング組成物をコーティング後硬化させて得られることを特徴とする構造体。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021046355A (ja) * | 2019-09-17 | 2021-03-25 | 株式会社Kri | 抗菌親水化剤 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3692006A4 (en) * | 2017-10-04 | 2021-10-06 | MCS Industries, Inc. | ANTI-FOG COATING AND APPLICATION PROCESS |
KR102288310B1 (ko) * | 2020-12-14 | 2021-08-11 | 쏠레케미칼 주식회사 | 불소 고분자 수지용 세라믹 수지 결합재의 제조방법 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08231944A (ja) * | 1994-12-08 | 1996-09-10 | Toru Yamamoto | 防曇性コーティング組成物およびそれを用いた被覆基材 |
JP2003073652A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-12 | Central Glass Co Ltd | 防曇性組成物、防曇性被膜およびその形成方法 |
JP2003231827A (ja) * | 2002-02-12 | 2003-08-19 | Canon Inc | 防曇性コーティング材料、防曇性コーティング膜および防曇性光学部材 |
JP2005126647A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-05-19 | Sekisui Film Kk | 防曇剤および農業用フィルム |
JP2006076829A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 防曇物品及びその製造方法 |
JP2006527293A (ja) * | 2003-06-12 | 2006-11-30 | ライプニッツ−インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク | 耐摩耗性光学層及び成形体 |
WO2009144999A1 (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | ハリマ化成株式会社 | 親水性被覆剤、親水性被膜、及び親水性基材 |
JP2011006563A (ja) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Nakato Kenkyusho:Kk | 防曇性コーティング組成物 |
JP2012007037A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 防曇剤組成物 |
JP2014012841A (ja) * | 2004-08-10 | 2014-01-23 | Dsm Ip Assets Bv | コーティング組成物、コーティング、およびそのコーティング組成物によりコーティングされた物体 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5334503A (en) | 1976-09-10 | 1978-03-31 | Toshiba Corp | Record player |
JPS63227646A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス繊維サイジング組成物 |
US5753373A (en) * | 1995-12-21 | 1998-05-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties |
DE19924172A1 (de) * | 1999-05-25 | 2000-11-30 | Basf Coatings Ag | Beschichtungsstoff mit einer Mischung aus Kieselsäuren und Harnstoff und/oder Harnstoffderivaten |
JP4623607B2 (ja) * | 1999-10-29 | 2011-02-02 | 三菱レイヨン株式会社 | 塗膜用樹脂組成物及び塗膜付き樹脂成形品 |
DE10200929A1 (de) * | 2002-01-12 | 2003-07-31 | Basf Coatings Ag | Polysiloxan-Sole, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
JP4370111B2 (ja) * | 2003-03-06 | 2009-11-25 | 日華化学株式会社 | 親水化処理剤組成物及び親水性保護膜形成方法 |
CN100339445C (zh) * | 2003-04-07 | 2007-09-26 | 章浩龙 | 一种纳米二氧化硅乳液及其制造方法和用途 |
JP2006016578A (ja) | 2004-07-05 | 2006-01-19 | Toho Chem Ind Co Ltd | 防曇塗料組成物 |
FR2886309B1 (fr) | 2005-05-31 | 2007-08-17 | Airbus France Sas | Sol pour le revetement par voie sol-gel d'une surface et procede de revetement par voie sol-gel le mettant en oeuvre |
WO2009044912A1 (ja) * | 2007-10-05 | 2009-04-09 | Harima Chemicals, Inc. | 親水性被覆剤、親水性被膜、及び親水性基材 |
JP2011153164A (ja) | 2010-01-25 | 2011-08-11 | Central Glass Co Ltd | 耐熱性防曇膜及びその形成方法並びに耐熱性防曇膜形成用塗布剤 |
KR20130100271A (ko) * | 2010-08-27 | 2013-09-10 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 표면 개질된 무수 안티몬산 아연 콜로이드 입자의 소수성 유기용매 분산액,이를 이용한 코팅 조성물 및 피복부재 |
CN103013197B (zh) * | 2012-12-19 | 2014-09-17 | 江苏博斯腾纳米涂层有限公司 | 一种纳米防雾剂的制备方法 |
WO2016032795A1 (en) * | 2014-08-29 | 2016-03-03 | 3M Innovative Properties Company | Inductively curable composition |
CN104725640A (zh) * | 2015-03-27 | 2015-06-24 | 吉林大学 | 亲水改性硅溶胶及其在制备亲水防雾耐磨涂料中的应用 |
-
2015
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2020
- 2020-08-03 US US16/983,371 patent/US20200362213A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08231944A (ja) * | 1994-12-08 | 1996-09-10 | Toru Yamamoto | 防曇性コーティング組成物およびそれを用いた被覆基材 |
JP2003073652A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-12 | Central Glass Co Ltd | 防曇性組成物、防曇性被膜およびその形成方法 |
JP2003231827A (ja) * | 2002-02-12 | 2003-08-19 | Canon Inc | 防曇性コーティング材料、防曇性コーティング膜および防曇性光学部材 |
JP2006527293A (ja) * | 2003-06-12 | 2006-11-30 | ライプニッツ−インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク | 耐摩耗性光学層及び成形体 |
JP2005126647A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-05-19 | Sekisui Film Kk | 防曇剤および農業用フィルム |
JP2014012841A (ja) * | 2004-08-10 | 2014-01-23 | Dsm Ip Assets Bv | コーティング組成物、コーティング、およびそのコーティング組成物によりコーティングされた物体 |
JP2006076829A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 防曇物品及びその製造方法 |
WO2009144999A1 (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | ハリマ化成株式会社 | 親水性被覆剤、親水性被膜、及び親水性基材 |
JP2011006563A (ja) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Nakato Kenkyusho:Kk | 防曇性コーティング組成物 |
JP2012007037A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 防曇剤組成物 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021046355A (ja) * | 2019-09-17 | 2021-03-25 | 株式会社Kri | 抗菌親水化剤 |
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