JP2017061498A - 新規なβ‐オキシムエステルフルオレン化合物、それを含む光重合開始剤及びフォトレジスト組成物 - Google Patents
新規なβ‐オキシムエステルフルオレン化合物、それを含む光重合開始剤及びフォトレジスト組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017061498A JP2017061498A JP2016216299A JP2016216299A JP2017061498A JP 2017061498 A JP2017061498 A JP 2017061498A JP 2016216299 A JP2016216299 A JP 2016216299A JP 2016216299 A JP2016216299 A JP 2016216299A JP 2017061498 A JP2017061498 A JP 2017061498A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- photoresist composition
- butyl
- methyl
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
- C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
- C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
- C07C251/66—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with the esterifying carboxyl groups bound to hydrogen atoms, to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/003—Light absorbing elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/02—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
- C07C2603/04—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
- C07C2603/06—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members
- C07C2603/10—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings
- C07C2603/12—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings only one five-membered ring
- C07C2603/18—Fluorenes; Hydrogenated fluorenes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
Abstract
Description
一般に、パターンを形成するために用いられるレジスト組成物としては、バインダー樹脂、エチレン不飽和結合を有する多官能性モノマ及び光重合開始剤を含むフォトレジスト組成物が多く用いられている。
また、本発明が解決しようとする他の課題は、前記フォトレジスト組成物をコーティングして形成された成形物を提供することである。
前記β‐オキシムエステルフルオレン誘導体化合物は、下記化合物から選択することができる。
「アリール基」は、水素及び炭素のみからなる芳香族単環系または多環系炭化水素の環系(ring system)を意味し、このとき環系は部分的にまたは完全飽和され得る。アリール基のうち少なくとも1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基に置換され得る。前記アリール基は、1つの水素を除去することで芳香族炭化水素から誘導された有機ラジカルであって、それぞれの環に適切には4〜7個、望ましくは5〜6個の環原子を含む単一または融合環系を含み、多数のアリールが単一結合で連結されている形態まで含む。前記アリール基は、6〜20個の炭素原子を有することが望ましく、6〜18個の炭素原子を有することがさらに望ましい。
より具体的に、前記R1ないしR10は、それぞれ独立して、水素、臭素、塩素、ヨウ素、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、i‐プロピル基、n‐ブチル基、i‐ブチル基、t‐ブチル基、n‐ペンチル基、i‐ペンチル基、n‐ヘキシル基、i‐ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、テルフェニル基、アントリル基、インデニル基、フェナントリル基、メトキシ基、エトキシ基、n‐プロピルオキシ基、i‐プロピルオキシ基、n‐ブトキシ基、i‐ブトキシ基、t‐ブトキシ基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシn‐プロピル基、ヒドロキシn‐ブチル基、ヒドロキシi‐ブチル基、ヒドロキシn‐ペンチル基、ヒドロキシi‐ペンチル基、ヒドロキシn‐ヘキシル基、ヒドロキシi‐ヘキシル基、ヒドロキシメトキシメチル基、ヒドロキシメトキシエチル基、ヒドロキシメトキシプロピル基、ヒドロキシメトキシブチル基、ヒドロキシエトキシメチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、ヒドロキシエトキシプロピル基、ヒドロキシエトキシブチル基、ヒドロキシエトキシペンチル基またはヒドロキシエトキシヘキシル基である。
また、本発明の一態様によれば、前記化学式1で表されるβ‐オキシムエステルフルオレン誘導体化合物を有効成分として含む光重合開始剤が提供される。
前記シリコーン化合物は、フォトレジスト組成物においてITO電極とフォトレジスト組成物との接着力を向上させ、硬化後の耐熱特性を増大させることができる。前記エポキシ基またはアミン基を有するシリコーン系化合物としては、(3‐グリシドオキシプロピル)トリメトキシシラン、(3‐グリシドオキシプロピル)トリエトキシシラン、(3‐グリシドオキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3‐グリシドオキシプロピル)メチルジエトキシシラン、(3‐グリシドオキシプロピル)ジメチルメトキシシラン、(3‐グリシドオキシプロピル)ジメチルエトキシシラン、3,4‐エポキシブチルトリメトキシシラン、3,4‐エポキシブチルトリエトキシシラン、2‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン及びアミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられ、これらをそれぞれ単独でまたは2種以上混合して使用することができる。前記エポキシ基またはアミン基を有するシリコーン系化合物は、フォトレジスト組成物100重量部に対して0.0001ないし3重量部でさらに含まれ得る。
反応1.9,9‐ジエチル‐9H‐フルオレン(2)の合成
MS(m/e):222
反応2.1‐(9,9‐ジエチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1‐プロパノン(3)の合成
MS(m/e):278
反応3.1‐(9,9‐ジエチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム(4)の合成
MS(m/e):307
反応4.1‐(9,9‐ジエチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐アセテート(5)の合成
MS(m/e):349
[実施例2]1‐(9,9‐ジエチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐プロピルレート(6)の製造
MS(m/e):363
[実施例3]1‐(9,9‐ジエチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐ブチレート(7)の製造
MS(m/e):377
[実施例4]1‐(9,9‐ジエチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐バレレート(8)の製造
MS(m/e):391
[実施例5]1‐(9,9‐ジエチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐ヘキシレート(9)の製造
MS(m/e):405
[実施例6]1‐(9,9‐ジエチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐ヘプチレート(10)の製造
MS(m/e):419
[実施例7]1‐(9,9‐ジブチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐アセテート(14)の製造
反応1.9,9‐ジブチル‐9H‐フルオレン(11)の合成
MS(m/e):278
反応2.1‐(9,9‐ジブチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)プロパン‐1‐オン(12)の合成
MS(m/e):334
反応3.1‐(9,9‐ジブチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム(13)の合成
MS(m/e):363
反応4.1‐(9,9‐ジブチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐アセテート(14)の合成
MS(m/e):405
[実施例8]1‐(9,9‐ジブチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐プロピルレート(15)の製造
MS(m/e):419
[実施例9]1‐(9,9‐ジブチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐ブチレート(16)の製造
MS(m/e):433
[実施例10]1‐(9,9‐ジブチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐バレレート(17)の製造
MS(m/e):447
[実施例11]1‐(9,9‐ジブチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐ヘキシレート(18)の製造
MS(m/e):461
[実施例12]1‐(9,9‐ジブチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐ヘプチレート(19)の製造
MS(m/e):475
[実施例13]1‐(9,9‐ジメチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐アセテート(23)の製造
反応1.9,9‐ジメチル‐9H‐フルオレン(20)の合成
MS(m/e):194
反応2.1‐(9,9‐ジメチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)プロパン‐1‐オン(21)の合成
MS(m/e):250
反応3.1‐(9,9‐ジメチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム(22)の合成
MS(m/e):279
反応4.1‐(9,9‐ジメチル‐9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐アセテート(23)の合成
MS(m/e):321
[実施例14]1‐(9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐アセテート(26)製造
反応1.反応2.1‐(9H‐フルオレン‐2‐イル)プロパン‐1‐オン(24)の合成
MS(m/e):222
反応2.1‐(9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム(25)の合成
MS(m/e):251
反応3.1‐(9H‐フルオレン‐2‐イル)‐1,2‐プロパンジオン‐2‐オキシム‐O‐アセテート(26)の合成
MS(m/e):293
[製造例]バインダー樹脂の製造
a)バインダー樹脂1の製造
500mlの重合容器にPGMEA 200mlとAIBN 1.5gを添加した後、メタアクリル酸、グリシジルメタアクリレート、メチルメタアクリルレート及びジシクロフェンタニルアクリレートをそれぞれ20:20:40:20のモル比でアクリルモノマの固形分を40重量%添加した後、窒素雰囲気下、70℃で5時間撹拌して重合させてアクリル重合体であるバインダー樹脂1を製造した。このように製造された共重合体の平均分子量は25,000、分散度は2.0と確認された。
500mlの重合容器にPGMEA 200mlとAIBN 1.0gを添加した後、メタアクリル酸、スチレン、メチルメタアクリレート及びシクロヘキシルメタアクリレートをそれぞれ40:20:20:20のモル比でアクリルモノマの固形分を40重量%添加した後、窒素雰囲気下、70℃で5時間撹拌して重合させて共重合体を合成した。この反応器にN,N‐ジメチルアニリン0.3gとグリシジルメタアクリレート20モル比を添加した後、100℃で10時間撹拌して側鎖にアクリル不飽和結合を有するアクリル重合体であるバインダー樹脂2を製造した。このように製造された共重合体の平均分子量は20,000、分散度は2.1と確認された。
500mlの重合容器にPGMEA 200mlとAIBN 1.0gを添加した後、グリシジルメタアクリレート、スチレン、メチルメタアクリレート及びシクロヘキシルメタアクリレートをそれぞれ40:20:20:20のモル比でアクリルモノマの固形分を40重量%添加した後、窒素雰囲気下、70℃で5時間撹拌して重合させて共重合体を合成した。この反応器にN,N‐ジメチルアニリン0.3gとアクリル酸20モル比を添加した後、100℃で10時間撹拌して側鎖にアクリル不飽和結合を有するアクリル重合体であるバインダー樹脂3を製造した。このように製造された共重合体の平均分子量は18,000、分散度は1.8と確認された。
紫外線遮断膜と撹拌機を備える反応混合槽に下記表1に記載された成分と含量に従ってバインダー樹脂1ないし3;光反応性化合物;光重合開始剤として化合物5、8、14、17及びFC−430(3M社製のレベリング剤)0.1重量%を順次添加し、常温で撹拌した後、溶媒としてPGMEAを組成物の総重量%が100重量%になるように加えてフォトレジスト組成物を製造した。
紫外線遮断膜と撹拌機を備える反応混合槽にバインダー樹脂1を20重量%、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート10重量%、化合物5を0.5重量%、固形分25重量%でPGMEAに分散したカーボンブラック50重量%及びFC−430(3M社製のレベリング剤)0.1重量%を順次添加し、常温で撹拌した後、溶媒としてPGMEAを組成物の総重量%が100重量%になるように加えてブラックマトリクス用フォトレジスト組成物を製造した。
実施例23でカーボンブラックの代りに固形分25重量%のピグメントレッド177(P.R.177)分散液50重量%を使用したことを除き、同じ方法でレッドフォトレジスト組成物を製造した。
光重合開始剤として化合物5の代りに下記化学式3の光重合開始剤を使用したことを除き、実施例15と同じ方法でフォトレジスト組成物を製造した。
光重合開始剤として化合物5の代りに「3‐(アセトキシイミノ)‐1‐(6‐ニトロ‐9H‐フルオレン‐3‐イル)プロパン‐1‐オン」を光重合開始剤として使用したことを除き、実施例15と同じ方法でフォトレジスト組成物を製造した。
実施例15ないし26、比較例1及び2で製造したフォトレジスト組成物の評価はガラス基板上で施し、フォトレジスト組成物の感度、残膜率、パターン安定性、耐化学性及び軟性などの性能を測定して、その評価結果を下記表2に示した。
ガラス基板上にフォトレジストをスピンコーティングして100℃で1分間ホットプレートで乾燥した後、ステップマスクを用いて露光し、0.04%KOH水溶液で現像した。ステップマスクパターンが初期厚さ対比80%の厚さを維持する露光量を感度として評価した。
フォトレジスト組成物を基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、100℃で1分間プリベーク(prebake)し、365nmで露光させた後、230℃で20分間ポストベーク (postbake)してレジスト膜のポストベーク前後の厚さの比率(%)を測定した。
フォトレジストパターンを形成したシリコンウェハーをホールパターンの垂直方向から切断し、パターンの断面方向で電子顕微鏡で観察した結果を示した。パターンサイド壁が基板に対して55度以上の角度で起立し、膜が減少しなかったものを「良好」とし、膜の減少が認められたものを「膜減」と判定した。
フォトレジスト組成物を基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、プリベーク及びポストベークなどの工程を経て形成されたレジスト膜をストリッパー(stripper)溶液に40℃で10分間浸漬し、レジスト膜の透過率及び厚さの変化有無を観察した。透過率及び厚さの変化が2%以下の場合を「良好」とし、透過率及び厚さの変化が2%を超えれば「不良」と判定した。
フォトレジスト組成物を基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、100℃で1分間プリベークし、フォトレジストの感度で露光させた後、KOH水溶液で現像して20μm×20μmのパターンを形成した。形成されたパターンを230℃で20分間ポストベークして架橋させ、該パターンをナノインデンター(nano indentor)を用いて軟性を測定した。ナノインデンターの測定は5g.fローディングにおける総変異量が500nm以上であれば「良好」、500nm未満であれば「不良」と判定した。
Claims (10)
- 下記化学式1で表されるβ‐オキシムエステルフルオレン誘導体化合物:
R1は水素、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、i‐プロピル基、n‐ブチル基、i‐ブチル基またはt‐ブチル基であり;R2は炭素原子数1〜10のアルキル基であり;ただし、このとき、R2が炭素原子数1〜3のアルキル基である場合はR1が水素であり、R2が炭素原子数4〜10のアルキル基である場合は、R1が水素、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、i‐プロピル基、n‐ブチル基、i‐ブチル基またはt‐ブチル基であり;
R3はメチル基、エチル基、n‐プロピル基、i‐プロピル基、n‐ブチル基、i‐ブチル基、t‐ブチル基、n‐ペンチル基、i‐ペンチル基、n‐ヘキシル基またはi‐ヘキシル基であり;
R4〜R10は水素である。 - 下記化学式1で表されるβ‐オキシムエステルフルオレン誘導体化合物:
R1は水素、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、i‐プロピル基、n‐ブチル基、i‐ブチル基またはt‐ブチル基であり;R2は炭素原子数1〜6のアルキル基であり;ただし、このとき、R2が炭素原子数1〜3のアルキル基である場合はR1が水素であり、R2が炭素原子数4〜6のアルキル基である場合は、R1が水素、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、i‐プロピル基、n‐ブチル基、i‐ブチル基またはt‐ブチル基であり;
R3はメチル基、エチル基、n‐プロピル基、i‐プロピル基、n‐ブチル基、i‐ブチル基、t‐ブチル基、n‐ペンチル基、i‐ペンチル基、n‐ヘキシル基またはi‐ヘキシル基であり;
R4〜R10は水素である。 - 請求項1〜請求項3のうちいずれか一項に記載のβ‐オキシムエステルフルオレン誘導体化合物を有効成分として含む光重合開始剤。
- 請求項1〜請求項3のうちいずれか一項に記載のβ‐オキシムエステルフルオレン誘導体化合物、アクリル重合体又は側鎖にアクリル不飽和結合を有するアクリル重合体、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、及び溶媒を含むフォトレジスト組成物。
- 前記フォトレジスト組成物が、β‐オキシムエステルフルオレン誘導体化合物0.01〜10重量%、アクリル重合体又は側鎖にアクリル不飽和結合を有するアクリル重合体3〜50重量%、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物0.001〜40重量%、及び溶媒10〜95重量%を含むことを特徴とする請求項5に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記フォトレジスト組成物が、カーボンブラックをさらに含むブラックマトリクス用であることを特徴とする請求項5に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記フォトレジスト組成物が、カラー色材分散液をさらに含むカラーマトリクス用であることを特徴とする請求項5に記載のフォトレジスト組成物。
- 請求項5に記載のフォトレジスト組成物をコーティングして形成された成形物。
- 前記成形物が、ブラックマトリクスまたはカラーマトリクスであることを特徴とする請求項9に記載の成形物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2014-0006344 | 2014-01-17 | ||
KR1020140006344A KR101435652B1 (ko) | 2014-01-17 | 2014-01-17 | 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016504270A Division JP6039859B2 (ja) | 2014-01-17 | 2015-01-19 | 新規なβ‐オキシムエステルフルオレン化合物、それを含む光重合開始剤及びフォトレジスト組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017061498A true JP2017061498A (ja) | 2017-03-30 |
JP6196363B2 JP6196363B2 (ja) | 2017-09-13 |
Family
ID=51751592
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016504270A Active JP6039859B2 (ja) | 2014-01-17 | 2015-01-19 | 新規なβ‐オキシムエステルフルオレン化合物、それを含む光重合開始剤及びフォトレジスト組成物 |
JP2016216299A Active JP6196363B2 (ja) | 2014-01-17 | 2016-11-04 | 新規なβ‐オキシムエステルフルオレン化合物、それを含む光重合開始剤及びフォトレジスト組成物 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016504270A Active JP6039859B2 (ja) | 2014-01-17 | 2015-01-19 | 新規なβ‐オキシムエステルフルオレン化合物、それを含む光重合開始剤及びフォトレジスト組成物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9873663B2 (ja) |
EP (1) | EP3095778B1 (ja) |
JP (2) | JP6039859B2 (ja) |
KR (1) | KR101435652B1 (ja) |
CN (1) | CN105916837B (ja) |
WO (1) | WO2015108386A1 (ja) |
Families Citing this family (53)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107111232A (zh) * | 2014-11-12 | 2017-08-29 | 三养社 | 用于液晶显示面板的黑色矩阵光致抗蚀剂组合物 |
WO2016076652A1 (ko) * | 2014-11-12 | 2016-05-19 | 주식회사 삼양사 | 액정디스플레이 패널용 블랙매트릭스 포토레지스트 조성물 |
KR101963931B1 (ko) * | 2014-12-02 | 2019-04-01 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
JP6408715B2 (ja) * | 2015-02-06 | 2018-10-17 | コリア リサーチ インスティテュート オブ ケミカル テクノロジー | 新規のオキシムエステル誘導体化合物およびこれを含む光重合開始剤、ならびにフォトレジスト組成物 |
KR102047079B1 (ko) | 2015-03-11 | 2019-12-02 | 동우 화인켐 주식회사 | 청색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 포함하는 액정표시장치 |
JP6195590B2 (ja) * | 2015-05-25 | 2017-09-13 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、及び表示装置 |
JP6195645B2 (ja) * | 2015-07-21 | 2017-09-13 | 東京応化工業株式会社 | 着色感光性組成物 |
KR101796993B1 (ko) | 2015-08-24 | 2017-11-13 | (주)켐이 | 플루오렌 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
KR101744197B1 (ko) | 2015-07-31 | 2017-06-09 | (주)켐이 | 플루오렌 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
CN108137443B (zh) * | 2015-07-31 | 2021-06-08 | 克美 | 芴衍生物、包含其的光聚合引发剂及光致抗蚀剂组合物 |
US10719016B2 (en) * | 2015-08-21 | 2020-07-21 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, polyimide production method, and semiconductor device |
JP6088105B1 (ja) * | 2015-08-27 | 2017-03-01 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、パターン形成方法、硬化物、及び表示装置 |
KR101788399B1 (ko) * | 2015-09-23 | 2017-10-19 | (주)경인양행 | 내열안정성이 우수한 옥심 에스테르 화합물, 그것을 포함하는 광중합 개시제 및 감광성 수지 조성물 |
CN107272336A (zh) * | 2016-04-06 | 2017-10-20 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种含芴类光引发剂的感光性树脂组合物及其应用 |
KR20170065111A (ko) * | 2015-12-03 | 2017-06-13 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치 |
CN106883114B (zh) * | 2015-12-15 | 2019-11-19 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种芴类多官能度光引发剂及其制备和应用 |
DK3392232T3 (da) | 2015-12-15 | 2021-04-12 | Changzhou Tronly Advanced Electronic Mat Co Ltd | Multifunktionel fluorenfotoinitiator og fremstilling og anvendelse deraf, og fotosensitiv resinsammensætning indeholdende fluorenfotoinitiator og anvendelse deraf |
JP6517767B2 (ja) * | 2015-12-29 | 2019-05-22 | 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター及びこれを具備した画像表示装置 |
KR20170084498A (ko) * | 2016-01-12 | 2017-07-20 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
KR101857083B1 (ko) * | 2015-12-29 | 2018-05-11 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
KR102345021B1 (ko) * | 2016-01-12 | 2021-12-28 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
JP6788971B2 (ja) * | 2016-01-14 | 2020-11-25 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物 |
JP2017149661A (ja) * | 2016-02-23 | 2017-08-31 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する重合開始剤 |
KR102364788B1 (ko) * | 2016-03-24 | 2022-02-18 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 표시장치 |
JP6832071B2 (ja) * | 2016-03-25 | 2021-02-24 | 東京応化工業株式会社 | 着色感光性組成物、それによって得られる着色硬化物、表示素子及び着色硬化物の製造方法 |
KR102347918B1 (ko) | 2016-03-28 | 2022-01-05 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치 |
WO2017169819A1 (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 株式会社Adeka | 黒色感光性樹脂組成物 |
KR101831358B1 (ko) * | 2016-06-02 | 2018-02-22 | (주)켐이 | 광활성 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
JP6986830B2 (ja) * | 2016-06-29 | 2021-12-22 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、パターン、パターン形成方法及び表示素子 |
WO2018049976A1 (zh) * | 2016-09-13 | 2018-03-22 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 芴类光引发剂、其制备方法、具有其的光固化组合物及其在光固化领域的应用 |
CN107814694B (zh) * | 2016-09-13 | 2021-02-12 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 芴类引发剂、其制备方法、具有其的光固化组合物及其在光固化领域的应用 |
KR102011090B1 (ko) * | 2016-09-19 | 2019-08-14 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치 |
CN109790468B (zh) * | 2016-09-28 | 2023-06-13 | 默克专利股份有限公司 | 可聚合的液晶材料及经聚合的液晶膜 |
KR101986408B1 (ko) * | 2016-11-08 | 2019-06-05 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치 |
KR101848567B1 (ko) * | 2016-11-18 | 2018-04-12 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 착색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 차광성 스페이서 |
KR101834209B1 (ko) * | 2016-11-25 | 2018-03-06 | 주식회사 삼양사 | 광중합 개시제 및 이를 포함하는 차광용 감광성 수지 조성물 |
CN106831487B (zh) * | 2017-01-22 | 2018-12-07 | 苏州楚凯药业有限公司 | 有机电子产品中间体芴类衍生物的制备方法 |
KR102510668B1 (ko) * | 2017-02-01 | 2023-03-16 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치 |
US11118065B2 (en) | 2017-02-17 | 2021-09-14 | Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. | Fluorenylaminoketone photoinitiator, preparation method thereof, and UV photocurable composition containing same |
JP6813398B2 (ja) * | 2017-03-10 | 2021-01-13 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、ドライフィルム、及びパターン化された硬化膜を形成する方法 |
US20180259850A1 (en) * | 2017-03-10 | 2018-09-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method for forming patterned cured film, photosensitive composition, dry film, and method for producing plated shaped article |
KR102033415B1 (ko) * | 2017-03-17 | 2019-10-17 | 동우 화인켐 주식회사 | 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치 |
KR20180135370A (ko) * | 2017-06-12 | 2018-12-20 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 착색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 차광성 스페이서 |
CN107459469A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-12-12 | 吴赣药业(苏州)有限公司 | 一种2,7‑二乙酰肟基‑9,9‑二丁基芴的制备方法 |
CN107445860A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-12-08 | 吴赣药业(苏州)有限公司 | 一种2‑乙酰肟基‑9,9‑二乙基芴的制备方法 |
CN110997872B (zh) * | 2017-08-15 | 2024-01-02 | 默克专利股份有限公司 | 可聚合液晶材料及经聚合的液晶膜 |
JP6968633B2 (ja) * | 2017-09-07 | 2021-11-17 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、及びそれに用いられる光重合開始剤 |
KR102118627B1 (ko) * | 2017-11-10 | 2020-06-09 | 주식회사 엘지화학 | 광경화성 및 열경화성을 갖는 공중합체, 이를 이용한 감광성 수지 조성물, 감광성 수지 필름, 및 컬러필터 |
CN108117616B (zh) * | 2017-11-22 | 2019-08-09 | 惠州市华泓新材料股份有限公司 | 二丁基芴基衍生物与其作为光引发剂的应用 |
JP6999039B2 (ja) * | 2017-12-22 | 2022-02-04 | 常州強力先端電子材料有限公司 | フッ素含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、それを含む光硬化組成物およびその適用 |
WO2019207081A1 (en) | 2018-04-27 | 2019-10-31 | Merck Patent Gmbh | Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film |
JP2021167906A (ja) * | 2020-04-10 | 2021-10-21 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜 |
JP2021167905A (ja) * | 2020-04-10 | 2021-10-21 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001233842A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-08-28 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | オキシムエステルの光開始剤 |
JP2006516246A (ja) * | 2002-12-03 | 2006-06-29 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ヘテロ芳香族基を有するオキシムエステル光開始剤 |
WO2007080947A1 (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-19 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | ジケトオキシムエステル化合物及びその用途 |
JP2008037930A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光硬化型インクジェットインキ |
JP2010156879A (ja) * | 2008-12-29 | 2010-07-15 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2011066074A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-31 | Fujifilm Corp | インプリント用硬化性組成物 |
JP2011123358A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Fujifilm Corp | ウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウエハレベルレンズ |
JP2011170334A (ja) * | 2010-01-20 | 2011-09-01 | Fujifilm Corp | ウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及びウエハレベルレンズ |
JP2013209623A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-10-10 | Fujifilm Corp | 着色硬化性組成物およびカラーフィルタ |
WO2013165207A1 (ko) * | 2012-05-03 | 2013-11-07 | 한국화학연구원 | 신규한 옥심에스테르 플로렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07278214A (ja) * | 1994-02-15 | 1995-10-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 |
JP2001302871A (ja) | 2000-04-25 | 2001-10-31 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物とこれを用いて形成したソルダーレジスト皮膜や樹脂絶縁層を有するプリント配線板 |
ATE446322T1 (de) | 2001-06-11 | 2009-11-15 | Basf Se | Oxim ester photoinitiatoren mit kombinierter struktur |
TW200714651A (en) | 2002-10-28 | 2007-04-16 | Mitsubishi Chem Corp | Photopolymerization composition and color filter using the same |
CN1751269A (zh) * | 2003-02-19 | 2006-03-22 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 卤代肟衍生物和其作为潜在的酸的用途 |
WO2004074242A2 (en) * | 2003-02-19 | 2004-09-02 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Halogenated oxime derivatives and the use thereof as latent acids |
JP4595374B2 (ja) | 2003-04-24 | 2010-12-08 | 住友化学株式会社 | 黒色感光性樹脂組成物 |
JP2005187678A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光重合性組成物 |
JP3798008B2 (ja) | 2004-12-03 | 2006-07-19 | 旭電化工業株式会社 | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
KR101351286B1 (ko) | 2005-12-20 | 2014-02-17 | 시바 홀딩 인크 | 옥심 에스테르 광개시제 |
JP5023495B2 (ja) * | 2006-01-13 | 2012-09-12 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | ラジカル重合開始剤および重合性組成物 |
CN101528682B (zh) * | 2006-12-27 | 2012-08-08 | 株式会社艾迪科 | 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂 |
US8349548B2 (en) | 2007-05-11 | 2013-01-08 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
CN102702073B (zh) * | 2007-05-11 | 2015-06-10 | 巴斯夫欧洲公司 | 肟酯光引发剂 |
JPWO2009081483A1 (ja) | 2007-12-25 | 2011-05-06 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
KR101047202B1 (ko) * | 2009-02-19 | 2011-07-06 | 박강수 | 구이판이 부착된 난방장치 |
JP4818458B2 (ja) * | 2009-11-27 | 2011-11-16 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
WO2012045736A1 (en) | 2010-10-05 | 2012-04-12 | Basf Se | Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions |
KR102013541B1 (ko) * | 2012-05-09 | 2019-08-22 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
-
2014
- 2014-01-17 KR KR1020140006344A patent/KR101435652B1/ko active IP Right Grant
-
2015
- 2015-01-19 EP EP15737785.4A patent/EP3095778B1/en active Active
- 2015-01-19 JP JP2016504270A patent/JP6039859B2/ja active Active
- 2015-01-19 CN CN201580004793.7A patent/CN105916837B/zh active Active
- 2015-01-19 US US15/112,087 patent/US9873663B2/en active Active
- 2015-01-19 WO PCT/KR2015/000535 patent/WO2015108386A1/ko active Application Filing
-
2016
- 2016-11-04 JP JP2016216299A patent/JP6196363B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001233842A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-08-28 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | オキシムエステルの光開始剤 |
JP2006516246A (ja) * | 2002-12-03 | 2006-06-29 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ヘテロ芳香族基を有するオキシムエステル光開始剤 |
WO2007080947A1 (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-19 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | ジケトオキシムエステル化合物及びその用途 |
JP2008037930A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光硬化型インクジェットインキ |
JP2010156879A (ja) * | 2008-12-29 | 2010-07-15 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2011066074A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-31 | Fujifilm Corp | インプリント用硬化性組成物 |
JP2011123358A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Fujifilm Corp | ウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウエハレベルレンズ |
JP2011170334A (ja) * | 2010-01-20 | 2011-09-01 | Fujifilm Corp | ウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及びウエハレベルレンズ |
JP2013209623A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-10-10 | Fujifilm Corp | 着色硬化性組成物およびカラーフィルタ |
WO2013165207A1 (ko) * | 2012-05-03 | 2013-11-07 | 한국화학연구원 | 신규한 옥심에스테르 플로렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3095778A4 (en) | 2017-10-11 |
KR101435652B1 (ko) | 2014-08-28 |
WO2015108386A1 (ko) | 2015-07-23 |
US20160332960A1 (en) | 2016-11-17 |
CN105916837B (zh) | 2019-09-24 |
JP6039859B2 (ja) | 2016-12-07 |
JP2016519675A (ja) | 2016-07-07 |
EP3095778B1 (en) | 2020-12-16 |
CN105916837A (zh) | 2016-08-31 |
JP6196363B2 (ja) | 2017-09-13 |
EP3095778A1 (en) | 2016-11-23 |
US9873663B2 (en) | 2018-01-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6196363B2 (ja) | 新規なβ‐オキシムエステルフルオレン化合物、それを含む光重合開始剤及びフォトレジスト組成物 | |
JP6127130B2 (ja) | 新規のオキシムエステルフルオレン化合物、およびこれを含む光重合開始剤、並びにフォトレジスト組成物 | |
JP6408715B2 (ja) | 新規のオキシムエステル誘導体化合物およびこれを含む光重合開始剤、ならびにフォトレジスト組成物 | |
TWI793206B (zh) | 化合物、組合物、硬化物及硬化物之製造方法 | |
JP7002617B2 (ja) | オキシムエステル誘導体化合物、それを含む光重合開始剤及び感光性組成物 | |
JP7263522B2 (ja) | カルバゾールマルチβ-オキシムエステル誘導体化合物、それを含む光重合開始剤、及びフォトレジスト組成物 | |
TWI603949B (zh) | 新穎肟酯聯苯基化合物、及含彼之光起始劑與光敏樹脂組合物 | |
TWI798206B (zh) | 肟酯化合物及含有該化合物之光聚合起始劑 | |
TWI552981B (zh) | 新穎之二肟酯化合物以及包括彼之光聚合初始劑及光阻組合物 | |
KR101828927B1 (ko) | 신규한 옥심에스테르 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 | |
CN115052861A (zh) | 化合物、组合物、固化物及固化物的制造方法 | |
KR101991903B1 (ko) | 카바졸 옥심에스테르 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제와 감광성 조성물 | |
KR101824443B1 (ko) | 신규한 플루오렌일 옥심 에스테르 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 | |
KR101478292B1 (ko) | 신규한 β-옥심에스테르 비페닐 화합물, 이를 포함하는 광개시제 및 감광성 수지 조성물 | |
KR101991838B1 (ko) | 신규 1,3-벤조디아졸 베타-옥심 에스테르 화합물 및 이를 포함하는 조성물 | |
JP2017014418A (ja) | ラジカル重合性組成物 | |
KR102509606B1 (ko) | 신규한 퀴놀리닐 베타 옥심에스테르 유도체 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제, 및 포토레지스트 조성물 | |
KR101777845B1 (ko) | 신규한 플루오란텐 옥심 에스테르 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170727 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170801 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170817 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6196363 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |