JP2017051941A - オレフィン化反応用触媒及びオレフィンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、本発明の他の目的は、隣接ジオールを原料として、オレフィンを高選択率で製造できる方法を提供することにある。
本発明のオレフィン化反応用触媒は、隣接する2つの炭素原子がヒドロキシ基を有する化合物(隣接ジオール)と水素との反応によりオレフィンを生成させる反応に用いられる触媒である。
本発明のオレフィン化反応用触媒は、担体と、該担体に担持された、第6族元素の酸化物及び第7族元素の酸化物からなる群より選択された少なくとも一種の酸化物(単に「酸化物」と称する場合がある)と、該担体に担持された、銀、イリジウム、及び金からなる群より選択された一種の金属とを含む。
上記隣接ジオールは、隣接する2つの炭素原子がヒドロキシ基を有する構造を少なくとも含む化合物であれば特に限定されない。また、後述のオレフィン化工程を経た結果得られる反応混合物から回収した隣接ジオール(未反応の隣接ジオール)を再利用することもできる。
。なお、上記1,4−アンヒドロエリスリトールとしては、後述のオレフィン化工程により得られた反応混合物から回収した1,4−アンヒドロエリスリトール(未反応の1,4−アンヒドロエリスリトール)を再利用することもできる。
上記オレフィン、即ち、本発明のオレフィン化反応用触媒の存在下で上記隣接ジオールと水素とを反応させて生成するオレフィンは、原料の隣接ジオールに対応するオレフィンである。なお、触媒として本発明のオレフィン化反応用触媒を用いた上記反応(即ち、後述のオレフィン化工程における反応)では、隣接ジオールの2つのヒドロキシ基を同時に除去する反応(DODH:Deoxy−dehydration)により、隣接ジオールの2つのヒドロキシ基がそれぞれ結合している隣接炭素原子同士で炭素−炭素二重結合を有するオレフィン又はその異性体が高効率で生成する。
上記水素(水素ガス)は、実質的に水素のみの状態で使用することもできるし、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス等により希釈した状態で使用することもできる。また、後述のオレフィン化工程を経た結果得られる反応混合物から回収した水素(未反応の水素)を再利用することもできる。
隣接ジオールと水素との反応によりオレフィンを生成させる工程を含み、該工程における上記隣接ジオールと水素との反応を、本発明のオレフィン化反応用触媒の存在下で進行させることにより、対応するオレフィンを製造することができる。なお、本明細書において、隣接ジオールと水素との反応によりオレフィンを生成させる工程を含み、該工程における上記隣接ジオールと水素との反応を、本発明のオレフィン化反応用触媒の存在下で進行させるオレフィンの製造方法を、「本発明の製造方法」と称する場合がある。また、「隣接ジオールと水素との反応によりオレフィンを生成させる工程」を、「オレフィン化工程」と称する場合がある。
上記脱水反応工程におけるエリスリトールの分子内脱水反応は、周知の方法により実施することができ、特に限定されないが、例えば、酸触媒の存在下でエリスリトールを加熱することにより進行させることができる。なお、上記脱水反応工程は、上記オレフィン化工程とは別ラインで実施してもよいし、上記オレフィン化工程と一連の工程として実施してもよい。
[触媒(ReOX−Ag/CeO2)の製造]
過レニウム酸アンモニウム(NH4ReO4、三津和化学薬品(株)製)29mgを、20℃の蒸留水10mLに溶解させ、過レニウム酸アンモニウム水溶液を作製した。また、硝酸銀(I)(AgNO3、和光純薬工業(株)製)6mgを、蒸留水10mLで希釈した硝酸銀(I)水溶液を作製した。次いで、商品名「HS」(酸化セリウム、第一稀元素化学工業(株)製)0.997gに、液だまりができないように上記過レニウム酸アンモニウム水溶液を5回に分けて全量加え、80℃で加熱及び攪拌して、含浸させた。これを乾燥機内にて110℃で一晩乾燥させた後、液だまりができないように上記硝酸銀(I)水溶液を5回に分けて全量加え、80℃で加熱及び攪拌して、含浸させた。含浸させた後、乾燥機内にて110℃で一晩乾燥させ、その後、空気雰囲気下で、500℃、3時間焼成し、レニウムの担持量が2重量%、[Ag/Re]=0.25である触媒(ReOX−Ag/CeO2)を得た。
[触媒(ReOX−Ir/CeO2)の製造]
硝酸銀(I)水溶液の代わりに、塩化イリジウム(IV)酸水溶液(Ir:4.74%、H2IrCl6、(株)フルヤ金属製)0.109gを、蒸留水10mLで希釈した塩化イリジウム(IV)酸水溶液を用いたこと、及び酸化セリウムを0.975gとしたこと以外は製造例1と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Ir/Re]=0.25である触媒(ReOX−Ir/CeO2)を製造した。
[触媒(ReOX−Au/CeO2)の製造]
硝酸銀(I)水溶液の代わりに、テトラクロロ金(III)酸四水和物(HAuCl4・4H2O、和光純薬工業(株)製)11mgを、蒸留水10mLで希釈したテトラクロロ金(III)酸水溶液を用いたこと、及び酸化セリウムを0.975gとしたこと以外は製造例1と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Au/Re]=0.25である触媒(ReOX−Au/CeO2)を製造した。
[触媒(ReOX−Ru/CeO2)の製造]
硝酸銀(I)水溶液の代わりに、ルテニウム(III)ニトロシル硝酸塩溶液(Ru:1.5%、Ru(NO)(NO3)3-x(OH)x、Sigma−Aldrich Co. LLC.製)0.181gを、蒸留水10mLで希釈したルテニウム(III)ニトロシル硝酸塩水溶液を用いたこと以外は製造例1と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Ru/Re]=0.25である触媒(ReOX−Ru/CeO2)を製造した。
[触媒(ReOX−Rh/CeO2)の製造]
硝酸銀(I)水溶液の代わりに、塩化ロジウム(III)三水和物(RhCl3・3H2O、和光純薬工業(株)製)7mgを、蒸留水10mLで希釈した塩化ロジウム(III)水溶液を用いたこと以外は製造例1と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Rh/Re]=0.25である触媒(ReOX−Rh/CeO2)を製造した。
[触媒(ReOX−Pd/CeO2)の製造]
硝酸銀(I)水溶液の代わりに、硝酸パラジウム(II)水溶液(Pd:5.01%、エヌ・イーケムキャット社製)57mgを、蒸留水10mLで希釈した硝酸パラジウム(II)水溶液を用いたこと以外は製造例1と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Pd/Re]=0.25である触媒(ReOX−Pd/CeO2)を製造した。
[ジヒドロフランの製造]
ガラス製のオートクレーブ用内筒にスターラーチップと、秤量した製造例1で得られた触媒(ReOX−Ag/CeO2)150mgと、1,4−ジオキサン4gと、1,4−アンヒドロエリスリトール1gとを入れた。上記オートクレーブ用内筒を190mLオートクレーブ(高圧回分式反応装置)に入れ、蓋をした。次いで、オートクレーブの内部に1MPaの水素を張り込んだ後に排気する操作を3回繰り返し、内部の空気をオートクレーブから追い出した。このオートクレーブに、140℃で8MPaを示すよう、室温で5MPaを示すように充填した。
続いて、上記オートクレーブをマグネットスターラー付加熱装置にセットし、反応器内部(オートクレーブ内部)の温度が140℃になるように加熱し、反応温度を140℃に維持しながら250rpmで4時間(Reaction time=4h)攪拌した。その後、室温まで冷却し、オートクレーブ内部の水素を解放し、放圧した。
反応後の溶液は、ガスクロマトグラフィー(ガスクロマトグラフ装置:「GC−2025」((株)島津製作所製)、GCカラム:TC−WAX、検出器:FID)を用いたFID分析及びGC−MSにより分析した。これより、1,4−アンヒドロエリスリトールの転化率、生成物の選択率を算出した。分析結果を表1に示す。
[ジヒドロフランの製造]
使用した触媒及び反応時間を表1に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、ジヒドロフランの製造を実施した。分析結果を表1に示す。
[触媒(ReOX−Au/SiO2)の製造]
商品名「HS」の代わりに、商品名「G−6」(シリカ、富士シリシア化学(株)製)を700℃で1時間予備焼成したもの0.975gを使用したこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Au/Re]=0.25である触媒(ReOX−Au/SiO2)を製造した。
[触媒(ReOX−Au/MgO)の製造]
商品名「HS」の代わりに、商品名「500A」(マグネシア、宇部興産(株)製)を600℃で3時間予備焼成したもの0.975gを使用したこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Au/Re]=0.25である触媒(ReOX−Au/MgO)を製造した。
[触媒(ReOX−Au/ZnO)の製造]
商品名「HS」の代わりに、酸化亜鉛(和光純薬工業(株)製)を600℃で3時間予備焼成したもの0.975gを使用したこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Au/Re]=0.25である触媒(ReOX−Au/ZnO)を製造した。
[触媒(ReOX−Au/γ−Al2O3)の製造]
商品名「HS」の代わりに、γ−アルミナ(和光純薬工業(株)製のベーマイトを600℃で3時間焼成したもの)0.975gを使用したこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Au/Re]=0.25である触媒(ReOX−Au/γ−Al2O3)を製造した。
[触媒(ReOX−Au/ZrO2)の製造]
商品名「HS」の代わりに、商品名「RC−100P」(ジルコニア、第一稀元素化学工業(株)製)を500℃で3時間予備焼成したもの0.975gを使用したこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Au/Re]=0.25である触媒(ReOX−Au/ZrO2)を製造した。
[触媒(ReOX−Au/TiO2)の製造]
商品名「HS」の代わりに、商品名「P25」(チタニア、日本アエロジル(株)製)を700℃で1時間予備焼成したもの0.975gを使用したこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Au/Re]=0.25である触媒(ReOX−Au/TiO2)を製造した。
[ジヒドロフランの製造]
使用した触媒及び反応時間を表2に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、ジヒドロフランの製造を実施した。分析結果を表2に示す。
[触媒(ReOX−Au/CeO2)([Au/Re]=0.13)の製造]
テトラクロロ金(III)酸水溶液として、テトラクロロ金(III)酸四水和物水溶液(HAuCl4・4H2O、和光純薬工業(株)製)6mgを、蒸留水10mLで希釈して得たテトラクロロ金(III)酸水溶液を用いたこと、及び酸化セリウムを0.977gとしたこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Au/Re]=0.13である触媒(ReOX−Au/CeO2)を製造した。
[触媒(ReOX−Au/CeO2)([Au/Re]=0.5)の製造]
テトラクロロ金(III)酸水溶液として、テトラクロロ金(III)酸四水和物水溶液(HAuCl4・4H2O、和光純薬工業(株)製)22mgを、蒸留水10mLで希釈したテトラクロロ金(III)酸水溶液を用いたこと、及び酸化セリウムを0.969gとしたこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Au/Re]=0.5である触媒(ReOX−Au/CeO2)を製造した。
[触媒(ReOX−Au/CeO2)([Au/Re]=1)の製造]
テトラクロロ金(III)酸水溶液として、テトラクロロ金(III)酸四水和物水溶液(HAuCl4・4H2O、和光純薬工業(株)製)44mgを、蒸留水10mLで希釈して得たテトラクロロ金(III)酸水溶液を用いたこと、及び酸化セリウムを0.959gとしたこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Au/Re]=1である触媒(ReOX−Au/CeO2)を製造した。
[触媒(ReOX−Au/CeO2)([Au/Re]=2)の製造]
テトラクロロ金(III)酸水溶液として、テトラクロロ金(III)酸四水和物水溶液(HAuCl4・4H2O、和光純薬工業(株)製)89mgを、蒸留水10mLで希釈して得たテトラクロロ金(III)酸水溶液を用いたこと、及び酸化セリウムを0.938gとしたこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が2重量%、[Au/Re]=2である触媒(ReOX−Au/CeO2)を製造した。
[ジヒドロフランの製造]
使用した触媒及び反応時間を表3に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、ジヒドロフランの製造を実施した。分析結果を表3に示す。
[触媒(ReOX−Au/CeO2)(Re担持量0.25wt%)の製造]
過レニウム酸アンモニウム水溶液として、過レニウム酸アンモニウム(NH4ReO4、三津和化学薬品(株)製)4mgを、20℃の蒸留水10mLに溶解させて得た過レニウム酸アンモニウム水溶液を用いたこと、テトラクロロ金(III)酸水溶液として、テトラクロロ金(III)酸四水和物(HAuCl4・4H2O、和光純薬工業(株)製)1mgを、蒸留水10mLで希釈したテトラクロロ金(III)酸水溶液を用いたこと、及び酸化セリウムを0.997gとしたこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が0.25重量%、[Au/Re]=0.25である触媒(ReOX−Au/CeO2)を製造した。
[触媒(ReOX−Au/CeO2)(Re担持量0.5wt%)の製造]
過レニウム酸アンモニウム水溶液として、過レニウム酸アンモニウム(NH4ReO4、三津和化学薬品(株)製)7mgを、20℃の蒸留水10mLに溶解させて得た過レニウム酸アンモニウム水溶液を用いたこと、テトラクロロ金(III)酸水溶液として、テトラクロロ金(III)酸四水和物(HAuCl4・4H2O、和光純薬工業(株)製)3mgを、蒸留水10mLで希釈したテトラクロロ金(III)酸水溶液を用いたこと、及び酸化セリウムを0.994gとしたこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が0.5重量%、[Au/Re]=0.25である触媒(ReOX−Au/CeO2)を製造した。
[触媒(ReOX−Au/CeO2)(Re担持量1wt%)の製造]
過レニウム酸アンモニウム水溶液として、過レニウム酸アンモニウム(NH4ReO4、三津和化学薬品(株)製)14mgを、20℃の蒸留水10mLに溶解させて得た過レニウム酸アンモニウム水溶液を用いたこと、テトラクロロ金(III)酸水溶液として、テトラクロロ金(III)酸四水和物(HAuCl4・4H2O、和光純薬工業(株)製)6mgを、蒸留水10mLで希釈したテトラクロロ金(III)酸水溶液を用いたこと、及び酸化セリウムを0.987gとしたこと以外は製造例3と同様にして、レニウムの担持量が1重量%、[Au/Re]=0.25である触媒(ReOX−Au/CeO2)を製造した。
[ジヒドロフランの製造]
使用した触媒、反応時間を表4に示すように変更したこと、及び反応に使用するレニウム量が実施例1〜21と同じ3mgとなるように触媒量を変化させたこと以外は実施例1と同様にして、ジヒドロフランの製造を実施した。分析結果を表4に示す。なお、実施例22〜26において反応に使用した触媒量は、それぞれ、実施例22は1200mg、実施例23及び24は600mg、実施例25は300mg、実施例26は150mgである。
[ジヒドロフランの製造]
触媒として、製造例18で得られた触媒(ReOX−Au/CeO2)600mgを使用し、反応時間を表5に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、ジヒドロフランの製造を実施した。分析結果を表5に示す。
[触媒(ReOX−Au/CeO2)の析出沈殿法による製造]
テトラクロロ金(III)酸四水和物(HAuCl4・4H2O、和光純薬工業(株)製)12mgを、20℃の蒸留水200mLに溶解させ、テトラクロロ金(III)酸水溶液を作製した。上記テトラクロロ金(III)酸水溶液を80℃に加熱した後、商品名「HS」(酸化セリウム、第一稀元素化学工業(株)製)3.975gを加え、酸化セリウムを懸濁させたテトラクロロ金(III)酸水溶液のpHが8になるまで水酸化ナトリウム水溶液を添加し、4時間攪拌した。その後、沈殿物を吸引ろ過により回収し、これを乾燥機内にて110℃で一晩乾燥させた後、空気雰囲気下で、1℃/minにて昇温後、400℃、4時間焼成してAu/CeO2を得た。
他方、過レニウム酸アンモニウム(NH4ReO4、三津和化学薬品(株)製)22mggを、20℃の蒸留水10mLに溶解させ、過レニウム酸アンモニウム水溶液を作製した。次いで、上記で得られたAu/CeO22.985gに、液だまりができないように上記過レニウム酸アンモニウム水溶液を5回に分けて全量加え、80℃で加熱及び攪拌して含浸させた後、これを乾燥機内にて110℃で一晩乾燥させた。その後、空気雰囲気下で、1℃/minにて昇温後、400℃、4時間焼成し、レニウムの担持量が0.5重量%、[Au/Re]=0.3である触媒(ReOX−Au/CeO2)を得た。
[ジヒドロフランの製造]
触媒として、製造例20で得られた触媒(ReOX−Au/CeO2)600mgを使用し、反応時間を表6に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、ジヒドロフランの製造を実施した。分析結果を表6に示す。
[ジヒドロフランの製造]
触媒として、製造例20で得られた触媒(ReOX−Au/CeO2)600mgを使用し、反応時間を表7に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、ジヒドロフランの製造を実施した。分析結果を表7に示す。
実施例41においてジヒドロフランを製造した後、使用後の触媒を回収し、回収した触媒を乾燥機内にて110℃で3時間乾燥させた。その後、400℃で4時間(昇温速度:1℃/分)焼成し、触媒(再利用触媒)を得た。触媒として上記で得た再利用触媒を用いたこと以外は実施例41と同様にして、ジヒドロフランの製造を実施した。分析結果を表7に示す。
実施例42においてジヒドロフランを製造した後、使用後の触媒を回収し、回収した触媒を乾燥機内にて110℃で3時間乾燥させた。その後、400℃で4時間(昇温速度:1℃/分)焼成し、触媒(再利用触媒)を得た。触媒として上記で得た再利用触媒を用いたこと以外は実施例41と同様にして、ジヒドロフランの製造を実施した。分析結果を表7に示す。
実施例43においてジヒドロフランを製造した後、使用後の触媒を回収し、回収した触媒を乾燥機内にて110℃で3時間乾燥させた。その後、400℃で4時間(昇温速度:1℃/分)焼成し、触媒(再利用触媒)を得た。触媒として上記で得た再利用触媒を用いたこと以外は実施例41と同様にして、ジヒドロフランの製造を実施した。分析結果を表7に示す。
[アリルアルコールの製造]
ガラス製のオートクレーブ用内筒にスターラーチップと、秤量した製造例20で得られた触媒(ReOX−Ag/CeO2)600mgと、1,4−ジオキサン4gと、グリセリン0.5gとを入れた。上記オートクレーブ用内筒を190mLオートクレーブに入れ、蓋をした。次いで、オートクレーブの内部に1MPaの水素を張り込んだ後に排気する操作を3回繰り返し、内部の空気をオートクレーブから追い出した。このオートクレーブに、140℃で8MPaを示すよう、室温で5MPaを示すように充填した。
続いて、上記オートクレーブをマグネットスターラー付加熱装置にセットし、反応器内部(オートクレーブ内部)の温度が140℃になるように加熱し、反応温度を140℃に維持しながら250rpmで4時間(Reaction time=4h)攪拌した。その後、室温まで冷却し、オートクレーブ内部の水素を解放し、放圧した。
反応後の溶液の分析は、実施例1と同様にして行った。これより、グリセリンの転化率、生成物の選択率を算出した。分析結果を表8に示す。
[アリルアルコールの製造]
反応時間を表8に示すように変更したこと以外は実施例45と同様にして、アリルアルコールの製造を実施した。分析結果を表8に示す。
[触媒(ReOX−Au/CeO2)の析出沈殿法による製造]
テトラクロロ金(III)酸四水和物(HAuCl4・4H2O、和光純薬工業(株)製)27mgを、20℃の蒸留水250mLに溶解させ、テトラクロロ金(III)酸水溶液を作製した。上記テトラクロロ金(III)酸水溶液を80℃に加熱した後、商品名「HS」(酸化セリウム、第一稀元素化学工業(株)製)3.947gを加え、酸化セリウムを懸濁させたテトラクロロ金(III)酸水溶液のpHが8になるまで0.1Mのアンモニア水溶液を添加し、4時間攪拌した。その後、沈殿物を吸引ろ過により回収し、これを乾燥機内にて110℃で一晩乾燥させた後、空気雰囲気下で、1℃/minにて昇温後、400℃、4時間焼成してAu/CeO2を得た。
他方、過レニウム酸アンモニウム(NH4ReO4、三津和化学薬品(株)製)52mggを、20℃の蒸留水10mLに溶解させ、過レニウム酸アンモニウム水溶液を作製した。次いで、上記で得られたAu/CeO23.564gに、液だまりができないように上記過レニウム酸アンモニウム水溶液を5回に分けて全量加え、80℃で加熱及び攪拌して含浸させた後、これを乾燥機内にて110℃で一晩乾燥させた。その後、空気雰囲気下で、1℃/minにて昇温後、400℃、4時間焼成し、レニウムの担持量が1重量%、[Au/Re]=0.3である触媒(ReOX−Au/CeO2)を得た。
ガラス製のオートクレーブ用内筒にスターラーチップと、秤量した製造例21で得られた触媒(ReOX−Au/CeO2)300mgと、1,4−ジオキサン4gと、グリセリン500mgとを入れた。上記オートクレーブ用内筒を190mLオートクレーブ(高圧回分式反応装置)に入れ、蓋をした。次いで、オートクレーブの内部に1MPaの水素を張り込んだ後に排気する操作を3回繰り返し、内部の空気をオートクレーブから追い出した。このオートクレーブに、140℃で8MPaを示すよう、室温で5MPaを示すように充填した。
続いて、上記オートクレーブをマグネットスターラー付加熱装置にセットし、反応器内部(オートクレーブ内部)の温度が140℃になるように加熱し、反応温度を140℃に維持しながら250rpmで32時間(Reaction time=32h)攪拌した。その後、室温まで冷却し、オートクレーブ内部の水素を解放し、放圧した。
反応後の溶液の分析は、実施例1と同様にして行った。これより、グリセリンの転化率、生成物の選択率を算出した。分析結果を表9に示す。
隣接ジオールの種類及び反応時間を表9に示すように変更したこと以外は実施例51と同様にして、オレフィン化反応を実施した。分析結果を表9に示す。
ガラス製のオートクレーブ用内筒にスターラーチップと、秤量した製造例21で得られた触媒(ReOX−Au/CeO2)300mgと、1,4−ジオキサン4gと、cis−1,2−シクロヘキサンジオール250mgとを入れた。上記オートクレーブ用内筒を190mLオートクレーブ(高圧回分式反応装置)に入れ、蓋をした。次いで、オートクレーブの内部に1MPaの水素を張り込んだ後に排気する操作を3回繰り返し、内部の空気をオートクレーブから追い出した。このオートクレーブに、170℃で8MPaを示すよう、室温で5.5MPaを示すように充填した。
続いて、上記オートクレーブをマグネットスターラー付加熱装置にセットし、反応器内部(オートクレーブ内部)の温度が170℃になるように加熱し、反応温度を170℃に維持しながら250rpmで2時間(Reaction time=2h)攪拌した。その後、室温まで冷却し、オートクレーブ内部の水素を解放し、放圧した。
反応後の溶液の分析は、実施例1と同様にして行った。これより、cis−1,2−シクロヘキサンジオールの転化率、生成物の選択率を算出した。分析結果を表9に示す。
隣接ジオールの種類及び反応時間を表9に示すように変更したこと以外は実施例55と同様にして、オレフィン化反応を実施した。分析結果を表9に示す。
THF : テトラヒドロフラン
DHF : ジヒドロフラン(2,5−ジヒドロフラン及び2,3−ジヒドロフランを含む)
1,4−AHTHR : 1,4−アンヒドロエリスリトール
1,4−BuD : 1,4−ブタンジオール
1−BuOH : 1−ブタノール
2,5−DHF : 2,5−ジヒドロフラン
2,3−DHF : 2,3−ジヒドロフラン
1,2−BuD : 1,2−ブタンジオール
1−PrOH : 1−プロピルアルコール
1,2−PrD : 1,2−プロパンジオール
Others : その他の化合物
Conv. : 転化率(Conversion)
転化率(%)=生成物の合計量(mol)/{残存隣接ジオールの量(mol)+生成物の合計量(mol)}×100 (1)
物質Aの選択率(%)=物質Aの生成量(mol)/生成物の合計量(mol)×100 (2)
2:原料液供給ライン
3:水素供給ライン
4:反応混合物取り出しライン
5:高圧気液分離器
6:水素リサイクルライン
Claims (6)
- 隣接する2つの炭素原子がヒドロキシ基を有する化合物と水素との反応によりオレフィンを生成させる反応に用いられる触媒であって、担体と、該担体に担持された、第6族元素の酸化物及び第7族元素の酸化物からなる群より選択された少なくとも一種の酸化物と、該担体に担持された、銀、イリジウム、及び金からなる群より選択された少なくとも一種の金属とを含むことを特徴とするオレフィン化反応用触媒。
- 前記第6族元素の酸化物及び第7族元素の酸化物からなる群より選択された少なくとも一種の酸化物が、酸化レニウムである、請求項1に記載のオレフィン化反応用触媒
- 前記担体が、酸化セリウム、シリカ、マグネシア、酸化亜鉛、アルミナ、ジルコニア、及びチタニアからなる群より選択された少なくとも一種の無機酸化物である請求項1又は2に記載のオレフィン化反応用触媒。
- 隣接する2つの炭素原子がヒドロキシ基を有する化合物と水素との反応によりオレフィンを生成させる工程を含み、前記工程における前記隣接する2つの炭素原子がヒドロキシ基を有する化合物と水素との反応を、請求項1〜3のいずれか1項に記載のオレフィン化反応用触媒の存在下で進行させることを特徴とするオレフィンの製造方法。
- グリセリンと水素との反応によりアリルアルコールを生成させる工程を含み、前記工程におけるグリセリンと水素との反応を、請求項1〜3のいずれか1項に記載のオレフィン化反応用触媒の存在下で進行させることを特徴とするアリルアルコールの製造方法。
- 1,4−アンヒドロエリスリトールと水素との反応によりジヒドロフランを生成させる工程を含み、前記工程における1,4−アンヒドロエリスリトールと水素との反応を、請求項1〜3のいずれか1項に記載のオレフィン化反応用触媒の存在下で進行させることを特徴とするジヒドロフランの製造方法。
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