JP2016539962A - リガデノソンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、式(I)のリガデノソンを製造するための新規な方法を提供する。いくつかの実施形態では、リガデノソンの合成のための中間体も提供される。
Description
関連出願の相互参照
該当事項なし。
該当事項なし。
連邦政府支援研究開発下でなされた発明に対する権利に関する陳述
該当事項なし。
該当事項なし。
コンパクトディスク上で提出した付録に列挙する「配列表」、表、又はコンピュータプログラムに関する参照
該当事項なし。
該当事項なし。
発明の背景
リガデノソン(2−{4−[(メチルアミノ)カルボニル]−1H−ピラゾール−1−イル}アデノシン)は、A2Aアデノシン受容体アゴニストであり、適度な運動ストレスを経験できない患者において、放射性核種心筋灌流イメージング(MPI)のために指示されている。それは、2008年に米国食品医薬品局に承認され、商品名レキスキャン(Lexiscan)で販売されている。
リガデノソン(2−{4−[(メチルアミノ)カルボニル]−1H−ピラゾール−1−イル}アデノシン)は、A2Aアデノシン受容体アゴニストであり、適度な運動ストレスを経験できない患者において、放射性核種心筋灌流イメージング(MPI)のために指示されている。それは、2008年に米国食品医薬品局に承認され、商品名レキスキャン(Lexiscan)で販売されている。
米国特許第6403567号明細書、米国特許第7,732,595号明細書、及び米国特許出願公開第20110144320号明細書は、リガデノソンを含む2−アデノシンN−ピラゾール化合物の一連の製造方法を記載する。しかし、該方法は、潜在的な遺伝毒性物質である中間体2−ヒドラジノアデノシン(2−hydrazinoadenosine)の製造のために、遺伝毒性ヒドラジンと2−ヨードアデノシン(2−iodoadenosine)とを反応させることを含む。遺伝毒性不純物(GTI)又は潜在的な遺伝毒性不純物(PGI)とみなさるヒドラジン関連不純物は、最終リガデノソンの品質に重大な影響を与えるであろう。
米国特許第6,514,949号明細書及び国際公開第2012/149196号は、ヒドロキシル保護基を用いることなく、2−ハロアデノシン(2−haloadenosine)を使用するリガデノソンの製造方法を記載した。該方法は、式DI及びDII:
を有する二量体不純物の形成を原因とする低収量をもたらした。
さらに、国際公開第2012/149196号は、除去することは困難となり得る、触媒IDAAR−Cu2+(イミノ二酢酸樹脂−銅(II))を利用し、最終において、金属汚染をもたらしている。
リガデノソンの工業的製造のための簡単かつ安全な方法に対する技術の必要性が依然として存在する。驚くべきことに、本発明は、この必要性に取り組む。
本発明は、毒性が少なく、より効率的かつ経済的なリガデノソンの製造方法を提供する。
該方法は、(a)式IIの化合物:
と、式IIIaの化合物:
とを、式IVの化合物:
を提供するために十分な条件下において接触させること、及び、
(b)該式IVの化合物をリガデノソン(I)へ変換すること、を含む。
(b)該式IVの化合物をリガデノソン(I)へ変換すること、を含む。
本発明の方法において、Xは、脱離基であり;R2及びR3は、独立して選択されるヒドロキシ保護基であり、又は、R2及びR3は、ジヒドロキシ保護基を形成するためにまとめられているものであり;並びに、R4は、水素及びヒドロキシ保護基から選択される。
好ましくは、R2及びR3は、エタン−1,1−ジイル、プロパン−2,2−ジイル、フェニルメタンジイル、ジフェニルメタンジイル、テトラメチレン又はペンタメチレンを形成するためにまとめられている。該工程(a)は、好ましくは、塩基の存在下で行われる。
(原文に記載無し)
発明の詳細な説明
I.一般
本発明は、リガデノソンを製造するための方法を提供する。新規な方法は、より高い収率及び低毒性であることが見出された。本発明の方法は、遺伝毒性反応物質、例えばヒドラジン及び中間体2−ヒドラジノアデノシンの必要性を排除する。
I.一般
本発明は、リガデノソンを製造するための方法を提供する。新規な方法は、より高い収率及び低毒性であることが見出された。本発明の方法は、遺伝毒性反応物質、例えばヒドラジン及び中間体2−ヒドラジノアデノシンの必要性を排除する。
II.定義
本明細書中で使用する場合、用語、リガデノソンは、2−{4−[(メチルアミノ)カルボニル]−1H−ピラゾール−1−イル}アデノシンを指す。
本明細書中で使用する場合、用語、リガデノソンは、2−{4−[(メチルアミノ)カルボニル]−1H−ピラゾール−1−イル}アデノシンを指す。
本明細書で使用する場合、用語「接触すること」とは、反応できるように、少なくとも2つの別個の種の接触をもたらす方法を指す。しかしながら、得られた反応生成物は、加えられた試薬との間反応から、又は、反応混合物中で製造され得る1以上の添加剤由来の中間体から、直接製造され得ると理解されるべきである。
本明細書中で使用される場合、用語「脱離基」とは、置換反応において求核試薬により置換することができる部分(moiety)を指す。有用な脱離基の例としては、限定されるものではないが、ハロゲン(例えば、I、Br、CI、及びF)、及びスルホン酸(例えばp−トルエンスルホン酸、メタンスルホンなど)を含む。
本明細書中で使用される場合、用語「保護試薬」とは、非反応性の官能基部分を与える保護基を形成するための官能基部分と反応することができる試薬を指す。保護基も、元の状態に官能基部分を回復するために除去可能である。保護試薬は、「ヒドロキシ保護試薬」であることができ、ここで、保護された官能基部分が、ヒドロキシ(すなわち、−OH)である。このような試薬は、保護基を形成するヒドロキシ部分と反応することができる。ヒドロキシ保護試薬及びヒドロキシ保護基を含む、種々の保護試薬及び保護基は、当業者によく知られており、Protective Groups in Organic Synthesis、第4版(T.W. Greene and P. G.M.Wuts,John Wiley & Sons,New York,2006)に開示された化合物が含まれ、それらは、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
「ヒドロキシ保護基」の例として、これらに限定されないが、例えば、メチルエーテル類(例えば、メトキシメチル、ベンジルオキシメチル等)、ベンジルエーテル類(例えば、p−メトキシベンジル、3,4−ジメトキシベンジル等)、シリルエーテル類(例えば、トリメチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジフェニルメチルシリル等)、及びエステル類(例えば、アセチル、ベンゾイル等)を含む。ジオール類は、環状アセタール類及びケタール類(例えば、t−ブチルエチリデン、イソプロピリデン、ベンジリデン等)を含む「ジヒドロキシ保護基」で保護することができる。
本明細書中で使用される場合、用語「酸」とは、ブレンステッド−ローリー定義の下、プロトン(H+)を供与することができる化合物を指す。本発明において有用な酸の例としては、ブレンステッド−ローリー酸であり、これらに限定されないが、本明細書中に定義されるように、アルカン酸若しくはカルボン酸(ギ酸、酢酸、クエン酸、乳酸、シュウ酸、等)、スルホン酸及び鉱酸が含まれる。鉱酸は、無機酸類であり、例えば、ハロゲン化水素類(フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸(hydrobromice acid)等)、ハロゲンオキソ酸類(次亜塩素酸、過塩素酸等)、並びに、硫酸、硝酸、リン酸、クロム酸及びホウ酸、を含む。スルホン酸類は、中でも、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、及び、カンファー−10−スルホン酸(camphor−10−sulfonic acids)を含む。
該方法は、(a)式IIの化合物:
と、式IIIaの化合物:
とを、式IVの化合物:
を提供するために十分な条件下で接触させること、及び、
(b)該式IVの化合物をリガデノソン(I)へ変換すること、を含む。
(b)該式IVの化合物をリガデノソン(I)へ変換すること、を含む。
本発明の方法において、Xは脱離基であり;R2及びR3は独立して選択されるヒドロキシ保護基であり、又は、R2及びR3はジヒドロキシ保護基を形成するためにまとめられるものであり;並びに、R4は、水素及びヒドロキシ保護基から選択される。
本発明の方法において使用される出発物質は、一般に、当業者に公知の従来の手段によって得ることができる。一般に、式IIaの化合物は、本明細書に記載されるような保護基を用いて、化合物IIとして提供される適切に保護された形態へ変換され得る。
本方法の工程(a)において、IIIaとIIとを接触させることは、典型的には、有機溶剤、又は溶媒の混合物中で行われる。添加の順序は、IIIaがIIへ添加される、又は、IIがIIIaへ添加される、又は、該2つの成分が反応容器に同時に添加可能なように実施可能である。実施態様の一群において、IIIa及びIIは、有機溶媒及び塩基と共に、反応容器中で組み合わせられる。
種々の有機溶媒は、方法の工程(a)において有用である。一般に、溶媒は、極性、非プロトン性溶媒、例えば、Ν,Νジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチル−2−ピロリドン、又はそれらの混合物である。実施態様の一群において、溶媒は、DMF、好ましくは無水DMFである。
上述したように、工程(a)は、一般に、塩基の存在下で実施される。適切な塩基の例としては、金属水酸化物類、例えばKOH、NaOH、及びそれらの混合物;金属アルコキシド類、例えばt−BuOK、t−BuONa及びt−BuOLi;又は、炭酸塩類、例えば、K2CO3及びCs2CO3を含む。
実施形態の一群において、IIIa対IIの相対的モル量は、約0.6:1〜約3:1である。いくつかの実施形態において、IIIa対IIの相対的モル比は、約1:1〜約2:1である。さらに他の実施形態において、IIIa対IIの相対的モル比は、約1.5:1である。同様に、塩基が使用されるこれらの実施形態に対しては、塩基の約モルは、一般的に、IIIaのモル量とほぼ同じである。特定の実施形態では、IIIa:塩基:IIのモル比は、約1.5:1.5:1である。
IIIaとIIとの縮合は、一般的に、0℃から約120℃までの温度で実施される。いくつかの実施形態では、反応は、30℃から約100℃までの温度で実施される。さらに他の実施形態では、反応は、50℃から約90℃までの温度で実施される。さらに他の実施形態では、反応は、65℃から約75℃までの温度で実施される。
いくつかの実施形態にかかわらず、従来の発展させた方法は、式IVの化合物(単数又は複数)を単離するために使用可能であるが、化合物が、直接維持され得る。典型的な方法において、化合物IVは、反応混合物を冷却し、水で混合物を希釈し、そして濾過して得られた固体生成物(IV)を収集することによって単離される。
本方法は、式IIaの化合物:
と、アセトニド形成試薬、例えば、2,2−ジメトキシプロパン(DMOP)、アセトン、2−メトキシプロペン又はそれらの組み合わせ、とを、HClO4、HCl、TfOH、DL−10−カンファースルホン酸及びH2SO4から選択される酸の存在下で、接触させることを含む。
一般に、反応は、アデノシン出発物質に関して、アセトニド形成試薬の過剰量を用いて実施される。反応は、例えば、アデノシン出発物質に関してアセトニド形成試薬の約2〜約500当量用いて実施することができる。反応は、約10〜約200当量、又は約20〜約100当量のアセトニド形成試薬を用いて実施することができる。反応は、約10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95、又は100当量のアセトニド形成試薬を用いて実施することができる。
反応混合物は、典型的には、アデノシン出発物質、アセトニド形成試薬、及び触媒量の酸で本質的には構成されている。当業者は、必要ばある場合、適切に試薬を可溶化するために適切な共溶媒が使用され得ることが理解されるであろう。適切な共溶媒の例としては、これらに限定されないが、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、Ν,Νジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド(DMSO)、及びN−メチル2−ピロリドンが含まれる。
一般に、アデノシン出発物質とアセトニド形成試薬との反応は、0℃から約50℃の温度で実施される。いくつかの実施形態では、反応は、4℃〜約40℃の温度で実施される。さらに他の実施形態では、反応は、20°C〜約30°Cの温度で実施される。さらに他の実施形態では、反応は約25℃である。
IV.実施例
以下の実施例は、本発明をさらに詳細に説明するために提示される。しかしながら、本発明は、本明細書に記載の特定の実施形態に限定されるものではない。
以下の実施例は、本発明をさらに詳細に説明するために提示される。しかしながら、本発明は、本明細書に記載の特定の実施形態に限定されるものではない。
N2(g)の下、2−クロロアデノシン(5g、16.6mmol)、メチルピラゾール−4−カルボキサミド(3.11g、24.9mmol)、固体t−BuOK(2.79g、24.9mmol)及び無水DMF(40mL)を10時間70℃で攪拌した。冷却後、水(80mL)を反応混合物に投入し、室温で一晩撹拌した。固体生成物を濾過し、水(5mL)で洗浄し、次いで、エタノール(5mL)に溶解し、6時間、50℃にて真空下で乾燥させ、16%の収率で83%の純度でリガデノソンを得た。総転化率は39%であった。ある不純物の量は16%であった。LC−MS分析は、分子量は、655([M+H]+ m/z 656)を示し、それは、おそらく二量体誘導体、2’−O−(アデノシン−2−イル)−2−{4−[(メチルアミノ)カルボニル]−1H−ピラゾール−1−イル}−アデノシン、及び/又は、3’−O−(アデノシン−2−イル)−2−{4−[(メチルアミノ)カルボニル]−1H−ピラゾール−1−イル}−アデノシンの1つである。
N2(g)の下、2−クロロアデノシン(IIa、20g、66.3mmol)、2,2−ジメトキシプロパン(DMOP、60mL)及びHClO4水溶液(70%wt、3mL)を室温にて8時間攪拌した。反応混合物のpHを、ゆっくりとNaHCO3飽和水溶液(約120mL)で、7〜9へと調整した。2時間氷浴中で撹拌した後、混合物を濾過し、水(50mL)で洗浄し、次いで、6時間、50℃にて真空下で乾燥させ、88%の収率で99%の純度を有する式IIbの化合物を得た。
1H NMR(400MHz、DMSO−d6)δ8.36(s、1H)、δ7.87(s、2H)、δ6.06(d、J=2.4Hz、1H)、δ5.28(dd、J=6Hz、2.4Hz、1H)、δ5.08(t、J=5.6Hz、1H)、δ4.94(dd、J=6Hz、2Hz、1H)、δ4.21(m、1H)、δ3.54(m、2H)、δ1.54(s、3H)δ1.33(s、3H)。
13C NMR(100MHz、DMSO−d6)δ157.3、153.6、150.4、140.4、118.6、113.6、89.8、87.2、83.9、81.7、62.0、27.5、25.7。
N2(g)の下、式IIbの化合物(50g、146.3mmol)、メチルピラゾール−4−カルボキサミド(IIIa、27.45g、219.5mmol)、固体t−BuOK(24.6g、219.5mmol)及び無水DMF(400mL)を60〜80℃で加熱し、8時間攪拌した。室温まで冷却後、水(800mL)を添加し、2〜5時間室温で撹拌して、沈殿させた。固体生成物を濾過し、水で2回洗浄し(50mL×2)、6時間、50℃にて真空下で乾燥させ、77%の収率で99%の純度を有する式IVbの化合物を得た。
1H NMR(400MHz、DMSO−d6)δ8.95(s、1H)、δ8.41(s、1H)、δ8.36(q、J=4.4Hz、1H)、δ8.10(s、1H)、δ7.81(s、2H)、δ6.20(s、1H)、δ4.90−5.45(m、3H)、δ4.21(q、J=2.8Hz、1H)、δ3.57(d、J=3.2Hz、2H)δ2.77(d、J=4Hz、3H)、δ1.57(s、3H)、δ1.33(s、3H)。
13C NMR(100MHz、DMSO−d6)δ162.2、156.9、151.0、150.2、141.5、140.6、130.1、120.7、118.2、113.6、89.1、87.4、84.0、81.7、62.1、27.6、26.0、25.8。
N2(g)の下、式IVbの化合物(57g、29.4mmol)、エタノール(427.5mL)、及び水(427.5mL)及びHClO4水溶液(70%wt、28.5mL)を室温で8時間攪拌した。反応終了後、反応混合物のpHを、2N NaOHで7〜9に調整した。反応混合物は、室温で5時間撹拌して沈殿させた。固体生成物を濾過し、二回水で洗浄し(90mL×2)、6時間、50℃にて真空下で乾燥させ、96%の収率で99%の純度でリガデノソンを得た。
N2(g)の下、2−クロロアデノシン(IIa、5g、16.58mmol)、シクロヘキサノン(50mL)及びHCIO4(70%wt、0.75mL)を室温で24時間撹拌した。反応混合物をゆっくりとpHを7〜9に6N KOH(3mL)で調整し、水(100mL)で希釈した。DCM(50mL*2)は水相を2回抽出するために使用された。合わせた有機相を水(100mL)で洗浄し、次いで無水Na2SO4を用いて乾燥した。単離した乾燥した有機相を、乾燥するまで50℃の真空下で蒸発させた。残留物はシリコンカラムに通し、51%の収率で99%の純度を有する式IIdの化合物を得た。
1H NMR(400MHz、CDCl3)δ7.82(s、1H)、5.97(s、2H)、5.81(d、J=5.0Hz、1H)、5.40(dd、J=11.6、2.0Hz、1H)、5.20(t、J=5.4Hz、1H)、5.10(dd、J=5.9、1.1Hz、1H)、4.53(s、1H)、4.00(dt、J=12.8、1.8Hz、1H)、3.88−3.74(m、1H)、2.95(s、3H)、1.91−1.77(m、2H)、1.71(m、2H)、1.62(m、2H)、1.59−1.49(m、2H)、1.49−1.36(m、2H)。
13C NMR(100MHz、CDCl3)δ156.3、154.0、149.7、140.8、120.0、115.0、94.1、86.1、82.5、81.0、63.4、37.5、34.5、24.9、24.1、23.5。
N2(g)の下、式IIdの化合物(1.5g、5.4mmol)、メチルピラゾール−4−カルボキサミド IIIa(1.01g、8mmol)、固体ΚΟΗ(0.45g、8mmol)及び無水DMF(12mL)を50〜70℃に加熱し、19時間攪拌した。室温に冷却後、水(36mL)を添加し、2〜5時間室温で撹拌し、沈殿を得た。固体生成物を濾過し、水で2回洗浄し(6mL×2)、6時間、50℃にて真空下で乾燥させ、76%の収率で92%の純度を有する式IVdの化合物を得た。
1H NMR(400MHz、DMSO−d6)δ8.94(d、J=0.6Hz、1H)、δ8.40(s、1H)、δ8.34(q、J=4.4Hz、1H)、δ8.09δ(d、J=0.8Hz、1H)、δ7.80(s、2H)、δ6.19(d、J=2.8Hz、1H)、δ5.39(dd、J=2.4Hz、6.0Hz、1H)、δ5.09(dd、J=2.8、6.0Hz、1H)、δ5.00(t、J=5.4Hz、1H)、δ4.20(m、1H)、δ3.56(m、2H)、δ2.76(d、J=4.4Hz、3H)、δ1.80(m、2H)、δ1.60(m、4H)、δ1.51(m、2H)、δ1.38(m、2H)。
13C NMR(100MHz、DMSO−d6)δ162.2、156.9、151.0、150.2、141.5、140.7、130.1、120.7、118.3、114.1、89.2、87.2、83.6、81.3、62.1、37.1、34.8、26.0、24.9、24.2、23.8。
N2(g)の下、式IVdの化合物(1g、2mmol)、エタノール(7.5mL)、及び水(7.5mL)及び水溶性HCIO4(70%wt、0.5mL)を室温で15時間攪拌した。反応が完了した後、反応混合物のpHを2N NaOHで7〜9に調整した。反応混合物は、室温で1時間撹拌し、沈殿を得た。固体生成物を濾過し、水で2回洗浄し(10mL×2)、6時間、50℃にて真空下で乾燥させ、74%の収率で99%の純度でリガデノソンを得た。
実施例4.式IIeの化合物を用いたリガデノソンの製造
2−クロロ−2’,3’−O−イソプロピリデン−5’−O−(2−メトキシ−プロパン−2−イル)−アデノシン(IIe)は、スキーム8に従って製造した。
2−クロロ−2’,3’−O−イソプロピリデン−5’−O−(2−メトキシ−プロパン−2−イル)−アデノシン(IIe)は、スキーム8に従って製造した。
N2(g)の下、式IIbの化合物(5g、16.58mmol)、2,2−ジメトキシプロパン(DMOP、25mL)及びTfOH(0.28g)を3時間、還流温度で撹拌した。反応物をEt3N(1mL)を用いて急冷し、乾燥するまで50℃の真空下で蒸発させた。残渣を、1:1(v/v)比の酢酸エチル/トルエン(20mL)に懸濁した。単離された沈殿物をシリコンカラムに通し、35%の収率で98%の純度を有するIIeを得た。
1H NMR(400MHz、DMSO−d6)δ8.32(s、1H)、7.85(s、2H)、6.12(s、1H)、5.39(dd、J=6.1、2.2Hz、1H)、4.97(dd、J=6.1、2.9Hz、1H)、4.31(td、J=5.2、3.0Hz、1H)、3.56−3.39(m、2H)、2.95(s、3H)、1.54(s、3H)、1.34(s、3H)、1.20(s、3H)、1.17(s、3H)。
13C NMR(100MHz、DMSO−d6)δ157.3、153.6、150.3、140.6、118.6、113.6、100.1、89.8、86.0、84.0、82.0、61.3、48.3、27.5、25.7、24.5、24.4。
2’,3’−O−イソプロピリデン−2−{4−[(メチルアミノ)カルボニル]−1H−ピラゾール−1−イル}−5’−O−(2−メトキシル−プロパン−2−イル)−アデノシン(IVe)をスキーム9に従って製造した。
N2(g)の下、式IIeの化合物(1g、2.4mmol)、メチルピラゾール−4−カルボキサミド3(0.5g、4mmol)、固体ΚΟΗ(0.25g、4.4mmol)及び無水DMF(8mL)を5時間70℃で加熱した。室温に冷却後、水(16mL)を混合物に投入し、混合物のpHを、濃HClで7〜9に調整した。次いで、混合物を乾燥するまで蒸発させた。残留物をシリコンカラムに通し、90%の純度を有する1.5gの式IVe粗生成物を得た。この粗生成物を精製することなく次の工程に直接使用した。
1H NMR(400MHz、DMSO−d6)δ8.94(s、1H)、8.36(s、1H)、8.34(d、J=4.8Hz、1H、交換可能)、8.09(s、1H)、7.81(bs、1H、交換可能)、6.24(d、J=2.0Hz、1H)、5.46(dd、J=2.0、6.0Hz、1H)、5.16(dd、J=4.0、6.0Hz、1H)、4.29(dd、J=5.2、8.4Hz、1H)、3.50(d、J=5.6Hz、2H)、2.88(d、3H)、2.76(d、J=4.8Hz、3H)、1.57(s、3H)、1.36(s、3H)、1.15(s、6H)。
13C NMR(100MHz、DMSO−d6)δ162.2、156.9、151.0、150.0、141.5、140.8、130.1、120.7、118.3、113.6、100.1、89.2、86.3、84.1、82.0、61.5、48.2、27.5、26.0、25.8、24.4(2C)。
N2(g)の下、工程2の式IVeの化合物(1.5g、3mmol)、エタノール(12mL)、及び水(12mL)及びHCIO4水溶液(70%wt、0.5mL)を15時間室温で撹拌した。反応が完了した後、反応混合物のpHを2N NaOHで7〜9に調整した。反応混合物は、室温で1時間撹拌し、沈殿を得た。固体生成物を濾過し、二回水で洗浄し(10mL×2)、6時間、50℃にて真空下で乾燥させ、IIeから60%の収率で98%の純度のリガデノソンを得た。
N2(g)の下、2−クロロアデノシン(IIa、5g、26.53mmol)、ベンズアルデヒド(80mL)及びHCIO4(70%wt、3mL)を室温で一晩撹拌し、その後、NaHCO3水溶液でpHを7〜8に中和した。混合物を3回DCMで抽出した。混合した有機相を飽和Na2SO4で洗浄してベンズアルデヒドを除去し、無水Na2SO4で乾燥した。単離された有機相を40℃の真空下で蒸発し、黄色油状の残差を得た。その後、n−ヘプタンを充填して、懸濁液を得た。濾過後、濾過ケーキを二回n−ヘプタンで洗浄し、その後、40℃で乾燥させ、48.7%の正味収率でIIf(2つの異性体のHPLC純度は40.7%及び50.4%であった)を得た。
1H NMR(400MHz、DMSO−d6)δ8.42(s、1H)、8.40(s、1H)、7.89(bs、4H)、7.61−7.57(m、2H)、7.54−7.50(m、2H)、7.49−7.43(m、6H)、6.26(s、1H)、6.24(d、J=4.4Hz、1H)、6.23(d、J=2.9Hz、1H)、6.04(s、1H)、5.46(dd、J=6.5、2.6Hz、1H)、5.42(dd、J=6.5、3.1Hz、1H)、5.14(t、J=5.4Hz、1H)、5.10(t、J=5.6Hz、1H)、5.08−5.04(m、2H)、4.39(td、J=5.0、2.3Hz、1H)、4.31(dd、J=9.2、4.8Hz、1H)、3.63(td、J=5.3、2.5Hz、2H)、3.58(td、J=5.2、3.3Hz、2H)。
13C NMR(100MHz、d6−DMSO)δ157.3、153.7、153.6、150.4、140.6、140.4、136.6、136.5、135.1、130.3、130.2、130.0、129.7、129.6、129.0、128.9、128.8、127.5、127.4、118.6、118.5、107.0、103.5、89.8、88.3、87.1、85.0、84.6、83.6、83.1、81.1、61.9。
N2(g)の下、2−クロロ−2’,3’−O−ベンジリデン−アデノシン(IIf、4g、10.3mmol)、メチルピラゾール−4−カルボキサミド IIIa(1.92g、15.3mmol)、固体KOH(0.88g、15.7mmol)及び無水DMF(32mL)を7.5時間70℃で加熱した。次いで、混合物を55℃にて真空下で乾燥するまで蒸発させた。残渣を室温にてアセトン(100mL)に溶解した。DCM(80mL)を懸濁液に充填した。固体を濾過で単離し、75.7%の収率で86.7%の純度を有するIVfを得た。
1H NMR(400MHz、DMSO−d6)δ8.970(d、J=0.7Hz、1H)、8.965(d、J=0.6Hz、1H)、8.440(s、1H)、8.437(m、1H)、8.42(dd、J=1.8、4.6Hz、1H)、8.12(d、J=0.6Hz、1H)、8.11(d、J=0.6Hz、1H)、7.96(s、1H)、7.83(bs、4H)、7.61(m、2H)、7.57−7.52(m、2H)、7.51−7.47(m、3H)、7.47−7.42(m、3H)、6.37(d、J=2.4Hz、1H)、6.34(d、J=2.8Hz、1H)、6.28(s、1H)、6.07(s、1H)、5.56(dd、J=6.4、2.5Hz、1H)、5.52(dd、J=6.4、2.7Hz、1H)、5.28(dd、J=6.2、4.2Hz、1H)、5.25(dd、J=6.6、2.6Hz、1H)、5.15(bs、2H)、4.38(td、J=5.3、2.7Hz、1H)、4.34(dd、J=9.4、5.1Hz、1H)、3.64(m、2H)、3.60(m、2H)、2.89(s、3H)、2.74(s、3H)。
13C NMR(100MHz、d6−DMSO)δ157.0、151.0、150.2、150.1、141.5、140.8、136.7、130.3、130.2、129.0、128.8、127.4、127.3、120.7、118.4、118.3、118.2、107.0、103.5、89.1、88.4、87.4、85.3、84.8、83.6、83.0、81.4、62.1、62.0、26.0、25.9。
リガデノソンの製造。N2(g)の下、式IVfの化合物(3g、6.3mmol)、エタノール(22.5mL)、及び水(22.5mL)及びHCIO4水溶液(70%wt、1.32mL)を室温で一晩攪拌した。反応混合物のpHを、6N KOHで7〜9に調製した。反応混合物を4時間室温で攪拌して沈殿を得た。固体生成物を濾過し、二回水で洗浄し(10mL×2)、6時間、50℃にて真空下で乾燥させ、19.2%正味収率にて9.25%アッセイを有するリガデノソンを得た。
実施例6.リガデノソンの精製
粗製リガデノソン(10g、25.6mmol)、エタノール(300mL)及び水(300mL)を、均一な溶液となるように80℃で加熱した。溶液を濾過して、固体の残留物を除去した。均一溶液は、曇り点(cold point)に達するまで10℃/hの速度で冷却した。結晶が形成された時に、混合物を2時間この温度に保持し、次いで、混合物を20〜30℃までゆっくりと冷却を続け、約2時間この温度に保持した。固体生成物を濾過し、エタノール/水(1/1、v/v)で二回洗浄し、4〜6時間、真空下で50℃にて乾燥し、>90%の正味の収率で99.9%の純度を有する純粋リガデノソンを得た。
粗製リガデノソン(10g、25.6mmol)、エタノール(300mL)及び水(300mL)を、均一な溶液となるように80℃で加熱した。溶液を濾過して、固体の残留物を除去した。均一溶液は、曇り点(cold point)に達するまで10℃/hの速度で冷却した。結晶が形成された時に、混合物を2時間この温度に保持し、次いで、混合物を20〜30℃までゆっくりと冷却を続け、約2時間この温度に保持した。固体生成物を濾過し、エタノール/水(1/1、v/v)で二回洗浄し、4〜6時間、真空下で50℃にて乾燥し、>90%の正味の収率で99.9%の純度を有する純粋リガデノソンを得た。
表1によると、かなりの量の二量体不純物の形成に起因して、リガデノソンは、任意のヒドロキル保護無しでは、低収率(16%)であった。国際公開第2012/14916号は、金属触媒の存在下でリガデノソンを生成するために保護されていない2−フルオロアデノシンを利用した。しかしながら、最終的なリガデノソンから有毒金属汚染を除去するために逆相クロマトグラフィーが必要であり、そのため、最終段階の収率はわずか44%である。対照的に、本発明の中間体は、カラムクロマトグラフィーを用いることなく、沈殿及び濾過を介して容易に良好な収率を提供することが可能であり、ヒドロキシル基の保護を有する二量体不純物を形成しなかった。
表1に示す結果のように、全合成の最高収率は、2,2−ジメトキシプロパン(DMOP)の保護を用いた場合に得ることが出来た。
実施例7.酸としてHCl水溶液を適用することによる、2−クロロ−2’,3’−O−イソプロピリデン−アデノシン(IIb)の製造
N2(g)の下、2−クロロアデノシン(IIa、2g、6.63mmol)、2,2−ジメトキシプロパン(DMOP、30mL)及びHCl水溶液(36%wt、0.6mL)を24時間室温で攪拌した。反応混合物のpHをゆっくりと飽和NaHCO3水溶液で7〜9に調整した。水相を抽出するために3回DCM(30mL×3)を使用した。合わせた有機相を水(30mL)で洗浄した後、50℃の真空下で蒸発させ、46%の収率で90%の純度を有する化合物式IIbを得た。
N2(g)の下、2−クロロアデノシン(IIa、2g、6.63mmol)、2,2−ジメトキシプロパン(DMOP、30mL)及びHCl水溶液(36%wt、0.6mL)を24時間室温で攪拌した。反応混合物のpHをゆっくりと飽和NaHCO3水溶液で7〜9に調整した。水相を抽出するために3回DCM(30mL×3)を使用した。合わせた有機相を水(30mL)で洗浄した後、50℃の真空下で蒸発させ、46%の収率で90%の純度を有する化合物式IIbを得た。
実施例8.酸としてDL−10−カンファースルホン酸を適用することによる、2−クロロ−2’,3’−O−イソプロピリデン−アデノシン(IIb)の製造
N2(g)の下、2−クロロアデノシン(IIa、2g、6.63mmol)、2,2−ジメトキシプロパン(DMOP、30mL)及びDL−10−カンファースルホン酸(CSA、1.54g、6.63mmol)を室温で20時間撹拌した。反応混合物のpHをゆっくりと飽和NaHCO3水溶液で7〜9に調整した。水相を抽出するために3回DCM(30mL×3)を使用した。合わせた有機相を水(30mL)で洗浄し、次いで50℃の真空下で乾燥させた。EtOH水溶液(50%wt、10mL)を残余に投入して、懸濁液を得た。混合物を濾過し、乾燥させ、56%の正味収率で純度77%の式IIbの化合物(純度22%の式IIeを含む)を得た。
N2(g)の下、2−クロロアデノシン(IIa、2g、6.63mmol)、2,2−ジメトキシプロパン(DMOP、30mL)及びDL−10−カンファースルホン酸(CSA、1.54g、6.63mmol)を室温で20時間撹拌した。反応混合物のpHをゆっくりと飽和NaHCO3水溶液で7〜9に調整した。水相を抽出するために3回DCM(30mL×3)を使用した。合わせた有機相を水(30mL)で洗浄し、次いで50℃の真空下で乾燥させた。EtOH水溶液(50%wt、10mL)を残余に投入して、懸濁液を得た。混合物を濾過し、乾燥させ、56%の正味収率で純度77%の式IIbの化合物(純度22%の式IIeを含む)を得た。
実施例9.酸として濃硫酸を適用することによる、2−クロロ−2’,3’−O−イソプロピリデン−アデノシン(IIb)の製造
N2(g)の下、2−クロロアデノシン(IIa、10g、33.15mmol)、アセトン(200mL)及び濃H2SO4(98%wt、5mL)を室温で2時間撹拌した。反応混合物のpHをゆっくりと飽和NaHCO3水溶液で7〜9に調整した。水相を抽出するためにDCM(200mL×2)を二回使用した。合わせた有機相をブライン(100mL)で洗浄し、次いで無水Na2SO4で乾燥した。単離された乾燥した有機相を50℃にて真空下で蒸発させて、懸濁液を得た。混合物を濾過し乾燥させ、82%の収率で99%の純度を有する式IIbの化合物を得た。
N2(g)の下、2−クロロアデノシン(IIa、10g、33.15mmol)、アセトン(200mL)及び濃H2SO4(98%wt、5mL)を室温で2時間撹拌した。反応混合物のpHをゆっくりと飽和NaHCO3水溶液で7〜9に調整した。水相を抽出するためにDCM(200mL×2)を二回使用した。合わせた有機相をブライン(100mL)で洗浄し、次いで無水Na2SO4で乾燥した。単離された乾燥した有機相を50℃にて真空下で蒸発させて、懸濁液を得た。混合物を濾過し乾燥させ、82%の収率で99%の純度を有する式IIbの化合物を得た。
以上の結果の観点において、収率及び純度の最適な組み合わせは、HClO4又はH2S04のいずれかを用いた場合に提供される。
前述の発明は、理解を明確にする目的のために例示及び実施例によっていくつか詳細に記載しているが、当業者は、特定の変更及び改変が、添付の特許請求の範囲内で実施され得ることを理解するであろう。また、各文献が個別に参照により組み込まれたかのように、本明細書で提供される各参照は同程度にその全体が参考として援用される。本出願と本明細書中に提供される参照との間に矛盾が存在する場合、本出願が支配するものとする。
Claims (9)
- 前記脱離基が、ハロゲンである、請求項1に記載の方法。
- R2及びR3が、エタン−1,1−ジイル、プロパン−2,2−ジイル、フェニルメタンジイル、ジフェニルメタンジイル、テトラメチレン又はペンタメチレンを形成するためにまとめられている、請求項1に記載の方法。
- R2及びR3が、プロパン−2,2−ジイルを形成するためにまとめられている、請求項3に記載の方法。
- 前記酸が、HClO4、HCl、DL−10−カンファースルホン酸又はH2SO4である、請求項6に記載の方法。
- 前記酸が、HClO4である、請求項7に記載の方法。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62108896A (ja) * | 1985-11-05 | 1987-05-20 | Rikagaku Kenkyusho | アスカマイシンの合成法 |
WO2005084653A2 (en) * | 2004-03-05 | 2005-09-15 | Cambridge Biotechnology Limited | Adenosine receptor agonists |
JP2008516938A (ja) * | 2004-10-15 | 2008-05-22 | アストラゼネカ アクチボラグ | 置換アデニンとその使用 |
JP2008534447A (ja) * | 2005-03-14 | 2008-08-28 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | A2a受容体活性を有するアデノシン誘導体 |
JP2009525347A (ja) * | 2006-02-03 | 2009-07-09 | シーブイ・セラピューティクス・インコーポレイテッド | A2a−アデノシンレセプターアゴニストおよびその多形体の調製方法 |
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Patent Citations (8)
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JPS62108896A (ja) * | 1985-11-05 | 1987-05-20 | Rikagaku Kenkyusho | アスカマイシンの合成法 |
WO2005084653A2 (en) * | 2004-03-05 | 2005-09-15 | Cambridge Biotechnology Limited | Adenosine receptor agonists |
JP2008516938A (ja) * | 2004-10-15 | 2008-05-22 | アストラゼネカ アクチボラグ | 置換アデニンとその使用 |
JP2008534447A (ja) * | 2005-03-14 | 2008-08-28 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | A2a受容体活性を有するアデノシン誘導体 |
JP2009525347A (ja) * | 2006-02-03 | 2009-07-09 | シーブイ・セラピューティクス・インコーポレイテッド | A2a−アデノシンレセプターアゴニストおよびその多形体の調製方法 |
JP2009534336A (ja) * | 2006-04-21 | 2009-09-24 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | アデノシンa2a受容体アゴニストとしての2−(プリン−9−イル)−テトラヒドロフラン−3,4−ジオールの使用 |
WO2012149196A1 (en) * | 2011-04-27 | 2012-11-01 | Reliable Biopharmaceutical Corporation | Improved processes for the preparation of regadenoson and a new crystalline form thereof |
WO2013026424A1 (en) * | 2011-08-22 | 2013-02-28 | Farmak, A.S. | A method for the preparation of 2-[4-[(methylamino) carbonyl] -1-h-pyrazol-1-yl] adenosine monohydrate |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
BORCHERDING, D. R. ET AL.: "The synthesis and biological activity of a highly selective adenosine A2a receptor agonist", NUCLEOSIDES & NUCLEOTIDES, vol. 18(10), JPN6017028046, 1999, pages 2175 - 2191, ISSN: 0003610219 * |
VENKATA P. PALLE ET AL.: "Structure-Affinity Relationships of the Affinity of 2-Pyrazolyl Adenosine Analogues for the Adenosin", BIOORGANIC & MEDICINAL CHEMISTRY LETTERS, vol. 12, no. 20, JPN6012036311, 2002, pages 2935 - 2939, XP085060909, ISSN: 0003610220, DOI: 10.1016/S0960-894X(02)00609-1 * |
新実験化学講座14 有機化合物の合成と反応V, JPN6017028042, 1978, pages 2505 - 2509, ISSN: 0003764857 * |
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