JP2016531319A - 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラー - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (13)
- 光学有効面を有し、
ミラー基板(11、21、31、41)と、
前記光学有効面(10a、20a、30a、40a)に入射する電磁放射線を反射する反射層スタック(14、24、34、44)と
を備え、III族窒化物からなる層(13、23、33、43)が、前記ミラー基板(11、21、31、41)と前記反射層スタック(14、24、34、44)との間に配置され、前記III族窒化物は、窒化ガリウム(GaN)、窒化アルミニウム(AlN)、及び窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)を含む群から選択されるミラー。 - 請求項1に記載のミラーにおいて、前記III族窒化物は非晶質であることを特徴とするミラー。
- 請求項1又は2に記載のミラーにおいて、前記層(13、23、33、43)は、0.1μm〜100μmの範囲、特に0.5μm〜50μmの範囲の厚さを有することを特徴とするミラー。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のミラーにおいて、前記層(13、33、43)は、前記ミラー基板(11、31)上に直接、又は該ミラー(41)上に位置する接着促進層(42)上に配置されることを特徴とするミラー。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のミラーにおいて、前記層(23)は、研磨層(22)上に配置されることを特徴とするミラー。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載のミラーにおいて、前記ミラー基板(11、21)は、金属材料から製造されることを特徴とするミラー。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載のミラーにおいて、前記ミラー基板(31、41)は、非晶質材料、特に二酸化チタン(TiO2)ドープ石英ガラスから製造されることを特徴とするミラー。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載のミラーにおいて、該ミラー(10、20、30、40)は、30nm未満、特に15nm未満の作動波長用に設計されることを特徴とするミラー。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載のミラーにおいて、該ミラーは、マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーであることを特徴とするミラー。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載のミラーを少なくとも1つ備えた、マイクロリソグラフィ投影露光装置(500)の光学系、特に照明デバイス又は投影レンズ。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを製造する方法であって、層系をミラー基板(11、21、31、41)に施し、前記層系は、光学有効面(10a、20a、30a、40a)に入射する電磁放射線を反射する反射層スタック(14、24、34、44)を有し、III族窒化物からなる層(13、23、33、43)を施した後に前記反射層スタック(14、24、34、44)を施し、前記III族窒化物は、窒化ガリウム(GaN)、窒化アルミニウム(AlN)、及び窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)を含む群から選択される方法。
- 請求項11に記載の方法において、前記層(13、23、33、43)を研磨した後に前記反射層スタック(14、24、34、44)を施すことを特徴とする方法。
- 請求項11又は12に記載の方法において、前記ミラー(10、20、30、40)の前記層系に存在し且つ機械的歪によって引き起こされる変形を少なくとも部分的に補償する表面プロファイルを、前記層(13、23、33、43)に加工することを特徴とする方法。
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