JP2014514742A - Euvミラー機構、euvミラー機構を備えた光学系、及びeuvミラー機構を備えた光学系を操作する方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
(1)10<N1<30
(2)15<N2<50
(3)30<(N1+N2)<70及びN1>10及びN2>10
(4)N1≦N2
(5)z≧2nm
(6)z≦35nm
(7)Δz≧0.1nm
(8)0.15nm≦Δz≦2nm
Claims (22)
- 複数のミラー素子を備えるEUVミラー機構であって、
前記複数のミラー素子は、相互に並んで配置されて、前記ミラー機構のミラー面を共同で形成し、
前記各ミラー素子は、基板と、該基板上に設けられるとともに極紫外線領域(EUV)からの照射に関して反射効果を有する多層機構(130、830、930)とを有し、
前記多層機構は、高屈折率層材料及び低屈折率層材料からなる交互層を有する複数の層対(135、835、935)を備え、
前記多層機構は、照射入射面と前記基板との間に配置した圧電活性層材料からなる活性層(140、840、940)を有し、該活性層の層厚を、電場の作用によって変更することができ、
前記活性層毎に、該活性層に作用する電場を発生させる電極機構を設けたことを特徴とする、EUVミラー機構。 - 請求項1に記載のEUVミラー機構において、
前記多層機構(130)は、前記照射入射面と前記活性層(140)との間に配置されて第1の数N1の層対を有する第1層群(131)と、前記活性層(140)と前記基板(120)との間に配置されて第2の数N2の層対を有する第2層群(132)とを有し、
前記照射入射面に当たる照射の少なくとも1つの入射角に関して、前記第1層群(131)が前記活性層(140)を通して前記第2層群(132)へと入射照射の一部を透過させ、さらに、前記多層機構により反射された照射が前記第1層群により反射された第1部分(A1)と前記第2層群により反射された第2部分(A2)とを含むように、前記第1層群及び前記第2層群の層対の前記数N1及びN2が選択される、EUVミラー機構。 - 請求項2に記載のEUVミラー機構において、前記活性層は、電場がない場合、前記入射照射の基準入射角に関して、電場の印加によって前記多層機構の反射率を最大20%変更することができるよう選択された層厚を有する、EUVミラー機構。
- 請求項2又は3に記載のEUVミラー機構において、前記圧電活性層材料は、実質的にチタン酸バリウム(BaTiO3)からなる、EUVミラー機構。
- 請求項2、3、又は4に記載のEUVミラー機構において、以下の条件の少なくとも1つ:
(1)10<N1<30
(2)15<N2<50
(3)30<(N1+N2)<70及びN1>10及びN2>10
(4)N1≦N2
(5)z≧2nm
(6)z≦35nm
(7)Δz≧0.1nm
(8)0.15nm≦Δz≦2nm
を満たし、式中、zは前記活性層(140)の層厚であり、Δzは前記電場の作用によってもたらした層厚変化である、EUVミラー機構。 - 請求項1に記載のEUVミラー機構において、前記多層機構(830)は、圧電活性層材料からなる複数の活性層(840)を有し、該活性層を、それぞれ非活性層(836)と交互に配置した、EUVミラー機構。
- 請求項6に記載のEUVミラー機構において、
前記活性層材料は、主に(Li、Na、K)(Nb、Ti)O3のタイプのセラミック材料からなり、
前記活性層材料は、ニオブ酸カリウム(KNbO3)、ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、PbNb2O6、及びニオブ酸ナトリウムカリウム(Na0.9K0.1NbO3)の群から選択されることが好ましい、EUVミラー機構。 - 請求項6又は7に記載のEUVミラー機構において、導電性の非圧電層材料によって形成した個々の前記非活性層を電圧源の個々の出力に接続することにより、それぞれ異なる前記活性層に影響を与える電場の電場強度をそれぞれ個別に設定することができる、EUVミラー機構。
- 請求項1に記載のEUVミラー機構において、
前記多層機構(930)は、前記照射入射面と前記活性層(940)との間に配置されて第3の数N3の層対を有する第3層群(933)を有し、
前記第3の数N3は、前記照射入射面に当たる照射の少なくとも1つの入射角に関して、前記入射照射が前記活性層に達する前に前記第3層群が前記入射照射を反射又は吸収するよう選択され、
前記第3の数N3は、10〜70である、EUVミラー機構。 - 請求項1〜9のいずれか1項に記載のEUVミラー機構において、
前記電極機構は、第1電極層(142、836、942、1042)及び第2電極層(143、836、943、1043)を有し、
前記活性層(140、840、940、1040)を前記電極層どうしの間に配置した、EUVミラー機構。 - 請求項1〜10のいずれか1項に記載のEUVミラー機構において、前記電極機構は、前記活性層(1040)を駆動するために電極層(1042)を有し、該電極層(1042)は、構造化層電極として設計され、相互に並んで位置して相互に電気的に絶縁された複数の電極セグメント(1042A、1042B)に細分され、該電極セグメントのそれぞれは、前記ミラー素子(1010)の総断面積のごく一部を占める、EUVミラー機構。
- 請求項11に記載のEUVミラー機構において、
前記電極機構は、前記構造化層電極の反対側に共通電極を備え、
該共通電極は、複数のミラー素子又は全部のミラー素子にわたって延び、好ましくは、前記共通電極は、前記活性層の前記基板側とは反対側にある、前記活性層の照射入射側に形成され、
前記照射入射側に配置した前記共通電極は、上下に積み重なって多層を形成する複数の単層を含む、EUVミラー機構。 - 請求項1〜12のいずれか1項に記載のEUVミラー機構において、前記活性層は、パルスレーザ蒸着(PLD)によって施したPLD層である、EUVミラー機構。
- 請求項10〜13のいずれか1項に記載のEUVミラー機構において、少なくとも1つの電極層が、パルスレーザ蒸着(PLD)によって施したPLD層であり、且つ/又は、電極層が、導電性セラミック材料、例えばSrRuO3又はAlNからなる、EUVミラー機構。
- 請求項1〜14のいずれか1項に記載のEUVミラー機構において、前記圧電活性層材料は、Ba(Sr、Zr)TiO3、Bi(Al、Fe)O3、(Bi、Ga)O3、(Bi、Sc)O3、CdS、(Li、Na、K)(Nb、Ta)O3、Pb(Cd、Co、Fe、In、Mg、Ni、Sc、Yb、Zn、Zr)(Nb、W、Ta、Ti)O3、ZnO、及びZnSの群から選択されるか、又は、この群の少なくとも1つの材料と少なくとも1つの他の材料との組み合わせを含有する、EUVミラー機構。
- 請求項1〜15のいずれか1項に記載の少なくとも1つのEUVミラー機構を備えた、光学系。
- 請求項16に記載の光学系であって、マイクログラフィ投影露光装置(1100)の照明系(1110)又は投影レンズ(1130)である、光学系。
- 請求項17に記載の光学系において、前記EUVミラー機構(1000、1170)を、前記照明系(1110)のビーム経路内の、光源(1114)と照明すべき照明フィールド(1152)との間に、又は、前記照明フィールドの平面(1120)に対して光学的に共役に位置付けたフィールド平面(1172)の付近に、配置した、光学系。
- 請求項18に記載の光学系において、前記ミラー機構(1000)の複数の又は全部のミラー素子(1010、1011、1012)の場合に、ミラー素子の反射率Rを場所依存的に設定して変えることができるように、前記活性層(1040)の層厚を場所依存的に変更することができる、光学系。
- 請求項16〜19のいずれか1項に記載の光学系において、前記EUVミラー機構(1180)を、前記照明系の瞳面(1182)の領域に配置し、該瞳面を、前記照明フィールドの前記平面(1120)に関してフーリエ変換して位置付けた、光学系。
- 請求項1〜15のいずれか1項に記載の少なくとも1つのEUVミラー機構を備えた光学系を操作する方法であって、前記ミラー素子の個々の又は全部の活性層を選択的に駆動することによって、前記EUVミラー機構のミラー面における局所反射率分布を場所依存的に変える、方法。
- 請求項21に記載の方法において、反射率を、所望の値から逸れている照射の中心波長に及び/又は前記ミラー機構における変更後の入射角分布に、適合させる目的で、前記活性層の層厚を変えることによって層周期のデチューニングをもたらす、方法。
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PCT/EP2012/055013 WO2012126954A1 (en) | 2011-03-23 | 2012-03-21 | Euv mirror arrangement, optical system comprising euv mirror arrangement and method for operating an optical system comprising an euv mirror arrangement |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016531319A (ja) * | 2013-08-07 | 2016-10-06 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラー |
KR20180030512A (ko) * | 2015-07-15 | 2018-03-23 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 리소그래피 노광 장치용 미러 배열체 및 미러 배열체를 포함하는 광학 시스템 |
JP2020034720A (ja) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | セイコーエプソン株式会社 | 光学装置、及び電子機器 |
JP7438185B2 (ja) | 2018-07-26 | 2024-02-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー、及びデフォーマブルミラーの作動方法 |
JP7496839B2 (ja) | 2019-06-19 | 2024-06-07 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011084649A1 (de) * | 2011-10-17 | 2013-04-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel mit piezoelektrischem Substrat sowie optische Anordnung damit |
DE102013200294A1 (de) * | 2013-01-11 | 2014-07-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | EUV-Spiegel und optisches System mit EUV-Spiegel |
EP2998980A4 (en) * | 2013-05-09 | 2016-11-16 | Nikon Corp | OPTICAL ELEMENT, OPTICAL PROJECTION SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE DEVICE |
GB2513927A (en) * | 2013-05-10 | 2014-11-12 | Zeiss Carl Smt Gmbh | Optical element arrangement with an optical element split into optical sub-elements |
DE102013212462A1 (de) * | 2013-06-27 | 2015-01-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Oberflächenkorrektur von Spiegeln mit Entkopplungsbeschichtung |
DE102013219583A1 (de) * | 2013-09-27 | 2015-04-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
EP2905637A1 (en) | 2014-02-07 | 2015-08-12 | ASML Netherlands B.V. | EUV optical element having blister-resistant multilayer cap |
JP6371576B2 (ja) | 2014-05-02 | 2018-08-08 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
DE102015200328A1 (de) | 2015-01-13 | 2016-07-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements für ein optisches System, insbesondere für einemikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
CN113777894A (zh) * | 2015-07-17 | 2021-12-10 | Asml荷兰有限公司 | 用于euv光刻的隔膜组件和用于制造隔膜组件的方法 |
DE102016212853B3 (de) * | 2016-07-14 | 2017-11-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Justieren einer optischen Einrichtung |
DE102016215489A1 (de) | 2016-08-18 | 2016-10-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Reflektives optisches Element |
CN106646856A (zh) * | 2016-12-19 | 2017-05-10 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 用于euv光刻的变形镜及其制备方法 |
DE102016225899A1 (de) | 2016-12-21 | 2018-06-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Modifizieren von Abbildungseigenschaften eines optischen Systems für die Mikrolithographie |
US10468149B2 (en) * | 2017-02-03 | 2019-11-05 | Globalfoundries Inc. | Extreme ultraviolet mirrors and masks with improved reflectivity |
NL2020859A (en) * | 2017-06-01 | 2018-12-04 | Asml Netherlands Bv | Patterning device |
DE102017213900A1 (de) | 2017-08-09 | 2019-02-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
DE102017219179B3 (de) * | 2017-10-26 | 2018-12-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Wiedererstellen eines Beleuchtungssystems für eine EUV-Anlage, Detektormodul sowie Verfahren zum Überwachen eines in einer EUV-Anlage eingebauten Beleuchtungssystems |
DE102018207146A1 (de) | 2018-05-08 | 2019-11-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
DE102019208934A1 (de) * | 2019-06-19 | 2020-12-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
CN110632754B (zh) * | 2019-09-12 | 2023-06-20 | 西北工业大学 | 一种线型微机械双向扭转镜阵列及其制作方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05100097A (ja) * | 1991-10-03 | 1993-04-23 | Nikon Corp | X線反射鏡 |
JP2005308629A (ja) * | 2004-04-23 | 2005-11-04 | Canon Inc | ミラーユニット及びそれの製造方法 |
JP2005321564A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Canon Inc | 多層膜が形成された光学素子の製造方法 |
WO2009100856A1 (en) * | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Facet mirror for use in a projection exposure apparatus for microlithography |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7843632B2 (en) * | 2006-08-16 | 2010-11-30 | Cymer, Inc. | EUV optics |
KR100551209B1 (ko) | 2001-09-07 | 2006-02-14 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피장치 및 디바이스 제조방법 |
US20030081319A1 (en) * | 2001-10-31 | 2003-05-01 | Wei Te Chung Foxconn International, Inc | Tunable optical filter |
DE10155711B4 (de) | 2001-11-09 | 2006-02-23 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Im EUV-Spektralbereich reflektierender Spiegel |
EP1349009B1 (en) | 2002-03-18 | 2009-02-04 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE10220324A1 (de) | 2002-04-29 | 2003-11-13 | Zeiss Carl Smt Ag | Projektionsverfahren mit Pupillenfilterung und Projektionsobjektiv hierfür |
TWI243968B (en) | 2002-07-09 | 2005-11-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
TWI243288B (en) | 2002-11-26 | 2005-11-11 | Asml Netherlands Bv | Method of fabricating an optical element, lithographic apparatus and semiconductor device manufacturing method |
EP1426821B1 (en) * | 2002-11-26 | 2017-10-18 | ASML Netherlands B.V. | Method of fabricating an optical element, lithographic apparatus and device manufacturing method |
ATE538491T1 (de) | 2003-10-15 | 2012-01-15 | Nikon Corp | Mehrschichtiger filmreflexionsspiegel, herstellungsverfahren für einen mehrschichtigen filmreflexionsspiegel und belichtungssystem |
US20060018045A1 (en) * | 2003-10-23 | 2006-01-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Mirror arrangement and method of manufacturing thereof, optical system and lithographic method of manufacturing a miniaturized device |
DE102004063314A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-07-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Filtereinrichtung für die Kompensation einer asymmetrischen Pupillenausleuchtung |
US7088527B2 (en) | 2004-12-28 | 2006-08-08 | Asml Holding N.V. | Uniformity correction system having light leak and shadow compensation |
EP1894063A1 (en) | 2005-06-21 | 2008-03-05 | Carl Zeiss SMT AG | A double-facetted illumination system with attenuator elements on the pupil facet mirror |
US7948675B2 (en) | 2005-10-11 | 2011-05-24 | Nikon Corporation | Surface-corrected multilayer-film mirrors with protected reflective surfaces, exposure systems comprising same, and associated methods |
JP5061903B2 (ja) * | 2005-10-11 | 2012-10-31 | 株式会社ニコン | 多層膜反射鏡、多層膜反射鏡の製造方法、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
US7599112B2 (en) | 2005-10-11 | 2009-10-06 | Nikon Corporation | Multilayer-film mirrors, lithography systems comprising same, and methods for manufacturing same |
JP2007329368A (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-20 | Canon Inc | 多層膜ミラー、評価方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
KR100766052B1 (ko) * | 2006-11-10 | 2007-10-12 | 학교법인 한국산업기술대학 | 필라멘트 타입용 고온초전도 선재의 제조방법 |
JP4978626B2 (ja) * | 2006-12-15 | 2012-07-18 | 旭硝子株式会社 | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク、および該マスクブランク用の機能膜付基板 |
US20080266651A1 (en) * | 2007-04-24 | 2008-10-30 | Katsuhiko Murakami | Optical apparatus, multilayer-film reflective mirror, exposure apparatus, and device |
US8022604B2 (en) | 2007-10-19 | 2011-09-20 | Ngk Insulators, Ltd. | (Li, Na, K)(Nb, Ta)O3 type piezoelectric/electrostrictive ceramic composition containing 30-50 mol% Ta and piezoelectric/electrorestrictive device containing the same |
DE102008001553B4 (de) | 2008-05-05 | 2015-04-30 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage |
KR101258344B1 (ko) | 2008-10-31 | 2013-04-30 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | Euv 마이크로리소그래피용 조명 광학 기기 |
EP2219077A1 (en) | 2009-02-12 | 2010-08-18 | Carl Zeiss SMT AG | Projection exposure method, projection exposure system and projection objective |
EP2221668B1 (en) | 2009-02-24 | 2021-04-14 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and positioning assembly |
DE102009017095A1 (de) | 2009-04-15 | 2010-10-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv |
DE102009035582A1 (de) | 2009-07-29 | 2011-02-03 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Vergrößernde abbildende Optik sowie Metrologiesystem mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102009035583A1 (de) | 2009-07-29 | 2011-02-03 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Vergrößernde abbildende Optik sowie Metrologiesystem mit einer derartigen abbildenden Optik |
-
2012
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- 2012-03-22 TW TW101109813A patent/TWI472800B/zh active
-
2013
- 2013-09-23 US US14/034,069 patent/US9442383B2/en active Active
-
2016
- 2016-09-12 US US15/262,272 patent/US9997268B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05100097A (ja) * | 1991-10-03 | 1993-04-23 | Nikon Corp | X線反射鏡 |
JP2005308629A (ja) * | 2004-04-23 | 2005-11-04 | Canon Inc | ミラーユニット及びそれの製造方法 |
JP2005321564A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Canon Inc | 多層膜が形成された光学素子の製造方法 |
WO2009100856A1 (en) * | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Facet mirror for use in a projection exposure apparatus for microlithography |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016531319A (ja) * | 2013-08-07 | 2016-10-06 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラー |
US10310382B2 (en) | 2013-08-07 | 2019-06-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus |
KR20180030512A (ko) * | 2015-07-15 | 2018-03-23 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 리소그래피 노광 장치용 미러 배열체 및 미러 배열체를 포함하는 광학 시스템 |
JP2018522280A (ja) * | 2015-07-15 | 2018-08-09 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | リソグラフィ露光装置のミラー構成体及びミラー構成体を含む光学系 |
KR102520380B1 (ko) | 2015-07-15 | 2023-04-12 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 리소그래피 노광 장치용 미러 배열체 및 미러 배열체를 포함하는 광학 시스템 |
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JP2020034720A (ja) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | セイコーエプソン株式会社 | 光学装置、及び電子機器 |
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