JP2016526279A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 基板処理チャンバの内面を保護するためのライナーアセンブリであって、
   外面及び処理容積を画定する内面を有するリング形状の本体を有する下方ライナーであって、前記リング形状の本体はその内部を通る複数のガス流路を含み、前記複数のガス流路は前記外面を前記処理容積に結合する、下方ライナーと、
   前記複数のガス流路と揃えられた複数のフローガイドを含む、前記リング形状の本体の上方に配置された上方ライナーと
   を備えた、ライナーアセンブリ。
2. 前記リング形状の本体の前記複数のガス流路と反対側にある排気開口部と、前記排気開口部と前記複数のガス流路の間で前記リング形状の本体を通る基板開口部とをさらに有する、請求項１に記載のライナーアセンブリ。
3. 前記下方ライナーがさらに前記上方ライナーと対向する上面を備え、前記複数のガス流路の各々は垂直部分と結合された水平部分を備える、請求項１に記載のライナーアセンブリ。
4. 前記水平部分は前記リング形状の本体の前記外面に対して開かれ、前記垂直部分は、前記リング形状の部分の上面に対して開かれる上端と、前記水平部分と結合する下端とを有する、請求項３に記載のライナーアセンブリ。
5. 前記上方ライナーは、半径方向内向きに延在するリップを有するリング形状の本体を含み、前記リップは中心開口部を画定する、請求項１に記載のライナーアセンブリ。
6. 前記リップは、前記下方ライナーから離れて配置される、請求項５に記載のライナーアセンブリ。
7. 前記上方ライナーの前記リング形状の本体は、前記下方ライナーに面する湾曲した内面を有する、請求項５に記載のライナーアセンブリ。
8. 前記複数のフローガイドは、前記内面に形成される、請求項７に記載のライナーアセンブリ。
9. 前記上方ライナーと前記下方ライナーは石英を含む、請求項１に記載のライナーアセンブリ。
10. 基板処理チャンバの内面を保護するためのライナーアセンブリであって、
    外面と内面を有するリング形状の本体を有するライナー本体を備え、前記リング形状の本体は、複数の傾斜したチャネルと結合する複数の水平チャネルを有し、
    前記リング形状の本体の前記内面に装着された注入リングを更に備え、前記注入リングはそこを通って形成される複数の水平チャネルを有し、前記複数の水平チャネルの各々は、前記複数の傾斜したチャネルの１つに揃えられ、結合される、ライナーアセンブリ。
11. 前記注入リングを通って形成される前記複数の水平チャネルは互いに平行である、請求項１０に記載のライナーアセンブリ。
12. 前記リング形状の本体の前記内面に取り付けられた複数の注入ブロックを更に備え、各注入ブロックはそこを通って形成される水平チャネルを含み、各注入ブロックの前記水平チャネルは前記複数の傾斜したチャネルの１つに揃えられる、請求項１０に記載のライナーアセンブリ。
13. 前記注入ブロックを通って形成される前記水平チャネルは互いに平行である、請求項１２に記載のライナーアセンブリ。
14. 基板を処理するための方法であって、
    複数の加熱素子からの放射エネルギーを基板処理チャンバ内部に配向すること、及び
    前記処理チャンバ内に配置されるライナーアセンブリ内に形成される複数のガス流路を使用して処理ガスの流れを調整することを含み、前記ライナーアセンブリは、外面及び処理容積を画定する内面を有するリング形状の本体を備え、前記リング形状の本体は、前記外面を前記処理容積に結合する複数のガス流路を含み、前記ライナーアセンブリはさらに前記リング形状の本体の上方に配置された上方ライナーを備え、前記上方ライナーは前記複数のガス流路と揃えられた複数のフローガイドを含む、方法。
15. 前記処理ガスの流れを調整することは、前記流れを複数の傾斜したチャネルを通るように配向することを含む、請求項１４に記載の方法。