KR100978407B1 - 플라즈마 처리 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (11)
- 진공 배기 가능한 처리 용기와, 상기 처리 용기 내에서 피처리체를 탑재하는 탑재대와, 상기 처리 용기의 상부에 배치되어, 상기 처리 용기를 밀폐하는 덮개부와, 상기 처리 용기 내로 플라즈마 여기용 처리 가스를 도입하는 가스 도입 기구를 구비하는 플라즈마 처리 장치로서,상기 가스 도입 기구는,상기 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급원과,상기 처리 용기 내부의 공간을 향해서 개구한 복수의 가스 토출구와,상기 복수의 가스 토출구에 접속하는 공통의 가스 연통로와,상기 처리 용기의 벽 내에서 상기 처리 용기의 하부로부터 연장하여 상기 가스 연통로에 접속하는 복수의 가스 통로와,상기 처리 용기의 하방에 배치되고, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 상기 처리 가스를 상기 복수의 가스 통로로 각각 분배하는, 동일한 길이를 갖는 복수의 가스 도입관을 포함하는플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 가스 연통로는 상기 처리 용기의 상단에 형성된 단부(段部)와, 상기 덮개부의 하단에 형성된 단부(段部)에 의해 형성되는 간극인 플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 가스 연통로는 상기 처리 용기의 상단에 형성된 홈과, 상기 덮개부의 하단면에 의해 형성되는 간극인 플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 가스 연통로는 상기 처리 용기의 상단면과, 상기 덮개부의 하단에 형성된 홈에 의해 형성되는 간극인 플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 가스 도입 기구는, 상기 처리 가스 공급원으로부터 연장하는 가스 공급 라인과, 상기 복수의 가스 통로의 단부에 각각 마련된 복수의 가스 도입구를 더 구비하고,상기 복수의 가스 도입관은 상기 가스 공급 라인으로부터 균등하게 분기하여, 상기 가스 도입구에 각각 접속되어 있는플라즈마 처리 장치.
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- 제 1 항에 있어서,상기 덮개부는 상기 처리 용기 내에 마이크로파를 도입하기 위한 안테나를 구비하고 있는 플라즈마 처리 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 안테나는 복수의 슬롯 구멍이 형성된 평면 안테나인 플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 처리 용기는, 상기 탑재대를 둘러싸는 하부 하우징과, 상기 하부 하우징과 상기 덮개부 사이에 개재 배치된 상부 하우징을 갖고,상기 하부 하우징과 상기 상부 하우징과의 경계 및 상기 상부 하우징과 상기 덮개부와의 경계에, 각각 상기 가스 연통로가 형성되어 있고, 상측의 상기 가스 연통로에 접속하는 복수의 상측의 가스 토출구와, 하측의 가스 연통로에 접속하는 복수의 하측의 가스 토출구가 각각 형성되어 있는플라즈마 처리 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 처리 용기 내의 상기 탑재대의 위쪽에 마련된, 다수의 관통 구멍을 갖 는 플레이트를 더 구비하고,상기 상측의 가스 토출구와 상기 하측의 가스 토출구는, 이것들 사이에 상기 플레이트가 개재하는 높이 위치에 형성되어 있는플라즈마 처리 장치.
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