JP2016518708A - アクティブナノワイヤとコンタクトナノワイヤとを含む発光装置および作製方法 - Google Patents
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Abstract
Description
− 成長領域内の不連続性に関連する配線ネットワーク内の高さと形態の非一様性、
− 技術的工程の終了時点の回路のキラー欠陥である例えばGaNのナノ結晶の未組織化成長(unorganized growth)、
− 導電材によりウェハの表面を覆うInGaNのスプリアス蒸着。
− 発光装置は少なくとも第1系列の第1のナノワイヤと第2系列の第2のナノワイヤとを含み、
− 前記第1系列は、前記装置が電気制御下で光を発射できるようにするために第1のタイプの電気接点と第2のタイプの電気接点との間に接続された、電気制御下で光を発射することができるアクティブと呼ばれる第1のナノワイヤを含み、前記第1のナノワイヤは前記発光装置の発光波長において透明な少なくとも1つの導電層により覆われ、前記層は第1のタイプの電気接点に接触し、
− 前記第2系列は、第1のタイプの電気接点が形成されることを可能にする金属の層内に封止されたコンタクトナノワイヤと呼ばれる第2のナノワイヤを含み、
− 第2のタイプの電気接点は、前記ナノワイヤを含むとともに少なくとも前記第1系列のナノワイヤに対向する導電層により提供される面の反対側の前記基板の裏面上に位置する
ことを特徴とする発光装置である。
− 基板の全面にわたる一組のナノワイヤと、
− 少なくとも第1系列の第1のナノワイヤおよび第2系列の第2のナノワイヤと
を含み、
− 前記第1系列は、前記装置が電気制御下で光を発射できるようにするために第1のタイプの電気接点と第2のタイプの電気接点との間に接続された、電気制御下で光を発射することができるアクティブと呼ばれる第1のナノワイヤを含み、前記第1のナノワイヤは前記発光装置の発光波長において透明な少なくとも1つの導電層により覆われ、前記層は前記第1のタイプの電気接点に接触し、
− 前記第2系列は、前記第1のタイプの電気接点が形成されることを可能にする金属の層内に封止されたコンタクトナノワイヤと呼ばれる第2のナノワイヤを含み、
− 第2のタイプの電気接点は、前記ナノワイヤを含むとともに少なくとも前記第1系列のナノワイヤに対向する導電層により提供される面の反対側の前記基板の裏面上に位置する
方法において、
− 基板の全面上にナノワイヤを成長させる工程と、
− 発光装置の動作周波数において透明な導電層を前記ナノワイヤの少なくとも一部分の表面上に蒸着する工程と、
− コンタクトナノワイヤと呼ばれる前記第2のナノワイヤを構成するナノワイヤのサブセットを金属の層により局所的に封止して、前記第1のタイプの電気接点が形成されることを可能にする工程と、
− 少なくとも前記第1系列のナノワイヤに対向する導電層により基板の裏面上に第2のタイプの接点を形成する工程と、
を含むことを特徴とする方法である。
− 前記フォトレジストにより覆われない第2のナノワイヤの少なくとも第2のサブアセンブリを残して第1のナノワイヤの少なくとも2つの第1のサブアセンブリの表面上に厚いフォトレジストパターンを形成する工程と、
− 第1のタイプの電気接点を提供するために前記第2のナノワイヤの表面上に金属の層を蒸着する工程と、
− 前記第1のナノワイヤから前記フォトレジストパターンを除去する工程と、
を含む。
− 本発明の一変形形態によると、本方法は、前記金属の接着のために設計された少なくとも1つの接着層を蒸着する工程を含み、前記蒸着工程は、
・ 前記ナノワイヤのすべての上でおよび前記基板上の2つの隣接ナノワイヤ間で連続的な方法で、または、
・ 前記ナノワイヤの両端においておよび前記基板上の2つの隣接ナノワイヤ間で不連続的な方法で、または、
・ 前記基板上の2つの隣接ナノワイヤ間で
行われ得、
− 本発明の一変形形態によると、本方法は、チタンを含む既に蒸着された薄層上に有利には蒸着されることができる銅またはアルミニウムを含む層を蒸着する工程を含み、
− 本発明の一変形形態によると、本方法は、前記第3のナノワイヤからまたは前記第3のナノワイヤおよび前記第1のナノワイヤから前記接着層を除去する工程を含む。
シリコンにより有利には作られ得る基板100から始まって、ナノワイヤNTiの成長がこの基板の全体にわたって行われる。
次に、典型的にはSiO2、Al2O3、HfO2、またはSixNy(xとyはモル分率)であり得る誘電体を介しナノワイヤが部分的に封止されるようにする層200の蒸着が行われる。
発光装置の動作周波数において透明な導電層300の蒸着が行われる。典型的には、この層は、ニッケル、パラジウム、または白金の第1の層上に数ナノメートル(5nm)の厚さで蒸着され得る。透明導電層は10〜100ナノメートル程度である厚さを有するITOであり得る。透明導電層は同じようにFTO、AZOまたはGZOであり得る。
接点を作製できるように設計された厚い金属の接着層の構造500の蒸着が行われる。この構造は、例えば100nm程度の厚さを有するチタンの第1の層と400nm程度の厚さの銅の層とからなり得、PVDにより得られ得る。この二層構造は、ナノワイヤのすべての上およびナノワイヤ間のボイドの上にまたはそうでなければ不連続的な方法で形成され得る。これらの様々な可能性は図4dに示されおり、二層の厚さを調整することによりまたはエッチングにより得られ得る。
上側接点の後の位置決めを可能にし、したがって発光装置の活性領域を画定できるようにそして同時にそれらの大きさが以下に説明されるように個別化されるようにするフォトレジストパターン600のリソグラフィが行われる。
前記ナノワイヤの上に典型的には10nm程度の厚さを有し得るとともにフォトレジストパターン間が数マイクロメートルに達し得、以下の2つ系列のナノワイヤを特定できるようにする金属の厚い層の蒸着が行われる。
− フォトレジストパターン下の第1系列の第1のナノワイヤであって、前記第1のナノワイヤを後に残すように除去されるように設計された前記フォトレジストパターン下の第1系列の第1のナノワイヤ、
− 厚い金属のパターン下の第2系列の第2のナノワイヤ。
次に、活性化されるように設計された第1のナノワイヤを後に残すような方法でフォトレジストパターンの除去が行われる。
次に、透明導電層300上またはミラー構造400上に接着構造500を使用する場合、この構造の選択的化学エッチングが行われ得る。
−銅 の場合はH2O2/H2SO4、
− チタンの場合はHF0.25%。
最後に、透明導電層300の除去は、これらの前記ナノワイヤの除去の工程に頼る必要無く、発光装置の活性部分を制限してナノワイヤをニュートラルにし、これによりニュートラルとして画定されるような方法で、第1のナノワイヤと第2のナノワイヤとの全組の周辺で有利には行われ得る。
− コンタクトナノワイヤNTicとして知られた厚い金属のパターン下の第2系列の第2のナノワイヤと、
− 透明導電層を欠き発光装置部分を基板上に制限する第3系列の第3のニュートラルナノワイヤNTinであって、前記基板の全面にわたってナノワイヤを成長させる大域処理された第3系列の第3のニュートラルナノワイヤNTinと、
を含む本発明による装置の一例が得られる。
シルクスクリーン印刷プロセスを使用して金属蒸着により接点を形成することも有利に可能である。図7a〜7dは、ナノワイヤNTiaがナノワイヤNTicの2つのサブアセンブリ間に有利に含まれ得るとしても、コンタクトナノワイヤNTicの単一サブアセンブリの形成だけを示すこのタイプの処理の主工程を示す。
さらに、ディスペンサを使用する金属の局所化蒸着により接点を形成することが有利に可能である。図8aおよび図8bは、ナノワイヤNTiaがナノワイヤNTicの2つのサブアセンブリ間に有利には含まれ得るとしても、コンタクトナノワイヤNTicの単一サブアセンブリの形成だけを示す本発明の発光装置の作製方法の第3の例を示す。
インクジェット処理を利用する金属の局所化蒸着により接点を形成することもまた有利に可能である。
Claims (23)
- 基板(100)の全面上に一組のナノワイヤ(NTi)を含む発光装置において、
− 前記発光装置は少なくとも第1系列の第1のナノワイヤと第2系列の第2のナノワイヤとを含み、
− 前記第1系列は、前記装置が電気制御下で光を発射できるようにするために第1のタイプの電気接点と第2のタイプの電気接点との間に接続された、電気制御下で光を発射することができるアクティブ(NTia)と呼ばれる第1のナノワイヤを含み、前記第1のナノワイヤは前記発光装置の発光波長において少なくとも1つの透明な導電層(300)により覆われ、前記層は前記第1のタイプの電気接点に接触し、
− 前記第2系列は、前記第1のタイプの電気接点が形成されることを可能にする金属の層(700)内に封止されたコンタクトナノワイヤ(NTic)と呼ばれる第2のナノワイヤを含み、
− 前記第2のタイプの電気接点は、前記ナノワイヤを含むとともに少なくとも前記第1系列のナノワイヤに対向する導電層により提供される面の反対側の前記基板の裏面上に位置する
ことを特徴とする発光装置。 - 前記第2のナノワイヤは前記第1のナノワイヤの周辺に位置することを特徴とする、請求項1に記載の発光装置。
- 前記第2のナノワイヤは前記発光装置の前記発光波長において透明な前記導電層(300)により覆われることを特徴とする、請求項1または2に記載の発光装置。
- 前記発光装置の前記発光波長において透明な導電層を有しない電気的ニュートラルと呼ばれる第3系列の第3のナノワイヤ(NTin)を含み、前記第3のナノワイヤは、前記第1のアクティブナノワイヤおよび前記第2のナノワイヤの周辺に位置することができ、アクティブとなる前記装置の領域を画定することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の発光装置。
- 前記第2のナノワイヤの上に画定された前記金属の層の厚さは少なくとも約数十ナノメートルであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の発光装置。
- 前記発光装置の前記発光波長において透明な導電層(300)であって、インジウムと錫との酸化物(ITO)またはアルミニウムをドープした亜鉛の酸化物(AZO)またはガリウムをドープした亜鉛の酸化物(GZO)またはフッ素をドープした錫の酸化物(FTO)で作られ得る導電層(300)を含むことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の発光装置。
- 前記ナノワイヤの基部を封止するとともに前記ナノワイヤ間の前記基板の表面上に位置する絶縁体の不連続層(200)を含むことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の発光装置。
- 2つの隣接ナノワイヤ間に位置するミラー層(400)であって、Al、またはAg、またはRuの層であり得るミラー層(400)を含むことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の発光装置。
- 前記第2のナノワイヤを封止する前記金属の層は銅、またはニッケル、または銀で作られることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の発光装置。
- 前記金属の層(700)の表面上に金、または銀と錫との合金であり得る金属接点ラグ(800)を含むことを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載の発光装置。
- 前記第2のナノワイヤは、銅またはアルミニウムであり得る前記金属の連続または不連続接着層(500)により覆われることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の発光装置。
- 発光装置の作製方法であって、前記発光装置は、
− 基板の全面にわたる一組のナノワイヤ(NTi)と、
− 少なくとも第1系列の第1のナノワイヤおよび第2系列の第2のナノワイヤと
を含み、
− 前記第1系列は、前記装置が電気制御下で光を発射できるようにするために第1のタイプの電気接点と第2のタイプの電気接点との間に接続された、電気制御下で光を発射することができるアクティブ(NTia)と呼ばれる第1のナノワイヤを含み、前記第1のナノワイヤは前記発光装置の発光波長において透明な少なくとも1つの導電層(300)により覆われ、前記層は前記第1のタイプの電気接点に接触し、
− 前記第2系列は、前記第1のタイプの電気接点が形成されることを可能にする金属の層(700)内に封止されたコンタクトナノワイヤ(NTic)と呼ばれる第2のナノワイヤを含み、
− 前記第2のタイプの電気接点は、前記ナノワイヤを含むとともに少なくとも前記第1系列のナノワイヤに対向する導電層により提供される面の反対側の前記基板の裏面上に位置する
方法において、
− 基板(100)の全面上にナノワイヤ(NTi)を成長させる工程と、
− 前記発光装置の動作周波数において透明な導電層(300)を前記ナノワイヤの少なくとも一部分の表面上に蒸着する工程と、
− コンタクトナノワイヤと呼ばれる前記第2のナノワイヤを構成するナノワイヤのサブセットを金属の層(700)により局所的に封止して、前記第1のタイプの電気接点が形成されることを可能にする工程と、
− 導電層により前記基板の前記裏面上に第2のタイプの接点を形成する工程と、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項12に記載の発光装置作製方法において、
− 前記フォトレジストにより覆われない第2のナノワイヤ(NTic)の少なくとも第2のサブアセンブリを残して第1のナノワイヤ(NTia)の少なくとも2つの第1のサブアセンブリの表面上に厚いフォトレジストパターン(600)を形成する工程と、
− 前記第1のタイプの電気接点を提供するために前記第2のナノワイヤ(NTic)の表面上に金属の層を蒸着する工程と、
− 前記第1のナノワイヤ(NTia)から前記フォトレジストパターンを除去する工程と、
を含むことを特徴とする発光装置作製方法。 - 前記第1のタイプの接点を提供するためにマスク(M)を介したシルクスクリーン印刷プロセスにより前記第2のナノワイヤ(NTic)の表面上に金属インク(E)であり得る金属の層を蒸着する工程を含むことを特徴とする、請求項12に記載の発光装置作製方法。
- 前記第1のタイプの接点を提供するために前記第2のナノワイヤ(NTic)の表面上に金属の層(G)をディスペンサにより局所的に蒸着する工程を含むことを特徴とする、請求項12に記載の発光装置作製方法。
- 前記第1のタイプの接点を提供するために前記第2のナノワイヤ(NTic)の表面上に金属の層をインクジェットにより局所的に蒸着する工程を含むことを特徴とする、請求項12に記載の発光装置作製方法。
- 前記金属の層(700)の表面上に導電性ラグ(800)を形成する工程を含むことを特徴とする、請求項13に記載の発光装置作製方法。
- 前記第1および第2のナノワイヤの周辺に位置するナノワイヤから、前記発光装置の発光波長において透明な導電層(300)を、第3系列の第3のナノワイヤ(NTin)を画定するような方法で除去する工程を含むことを特徴とする、請求項12〜17のいずれか一項に記載の発光装置作製方法。
- 前記金属の層の前記蒸着および/または前記導電性ラグの前記形成は電着工程により行われることを特徴とする、請求項13〜17のいずれか一項に記載の発光装置作製方法。
- 前記金属の接着のために設計された少なくとも1つの接着層(500)を蒸着する工程を含むことを特徴とする、請求項13〜17のいずれか一項に記載の発光装置作製方法であって、前記蒸着工程は、
− 前記ナノワイヤの全組の上でおよび前記基板上の2つの隣接ナノワイヤ間で連続的な方法で、または、
− 前記ナノワイヤの両端においておよび前記基板上の2つの隣接ナノワイヤ間で不連続的な方法で、または、
− 前記基板上の2つの隣接ナノワイヤ間で
実施され得る、方法。 - チタンを含む既に蒸着された薄層上に有利には蒸着されることができる銅またはアルミニウムを含む層を蒸着する工程を含むことを特徴とする、請求項20に記載の発光装置作製方法。
- 前記第3のナノワイヤからまたは前記第3のナノワイヤおよび前記第1のナノワイヤから前記接着層を除去する工程を含むことを特徴とする、請求項20または21に記載の発光装置作製方法。
- 2つの隣接ナノワイヤ間にミラー層(400)を蒸着する工程であって、前記透明導電層を蒸着する工程(300)に先立つまたはその後である工程を含むことを特徴とする、請求項12〜22のいずれか一項に記載の発光装置作製方法。
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