JP2016222912A - 芳香族アミド系高分子溶液および多孔質芳香族アミド系フィルム - Google Patents
芳香族アミド系高分子溶液および多孔質芳香族アミド系フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016222912A JP2016222912A JP2016109096A JP2016109096A JP2016222912A JP 2016222912 A JP2016222912 A JP 2016222912A JP 2016109096 A JP2016109096 A JP 2016109096A JP 2016109096 A JP2016109096 A JP 2016109096A JP 2016222912 A JP2016222912 A JP 2016222912A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aromatic amide
- solvent
- porous
- film
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
【解決手段】
アミド系溶媒とアルコール系溶媒とからなる混合溶媒を含有する芳香族アミド系高分子溶液であって、前記芳香族アミド系高分子は、イミド結合を含有しており、 前記アルコール系溶媒は、沸点が200℃以上であり、その含有量が、全溶媒質量に対し、10質量%以上、50質量%未満であることを特徴とする芳香族アミド系高分子溶液。
【選択図】図1
Description
アミド系溶媒とアルコール系溶媒とからなる混合溶媒を含有する芳香族アミド系高分子溶液であって、前記芳香族アミド系高分子は、イミド結合を含有しており、 前記アルコール系溶媒は、沸点が200℃以上であり、その含有量が、全溶媒質量に対し、1質量%以上、50質量%未満であることを特徴とする芳香族アミド系高分子溶液。
本発明は、芳香族アミド系高分子溶液およびこれから得られる多孔質芳香族アミド系高分子フィルムに関するものである。
DA)、p−フェニレンジアミン、4,4′−ジフェニルメタンジアミン(DMA)、4,4′−ジフェニルエーテルジアミン、ジフェニルスルホン−4,4′−ジアミン、ジフェニルー4,4′−ジアミン、o−トリジン、2,4−トリレンジアミン、2,6−トリレンジアミン、キシリレンジアミン、ナフタレンジアミン、ならびにこれらのジイソシアネート誘導体が挙げられる。
気孔率(体積%) = 100−A*(100/B)
TACと、DADEおよびMDAとを共重合(共重合モル比:DADE/MDA=7/3)して得られるPAI粉体(ソルベイアドバンストポリマーズ株式会社製トーロン4000T−HV、ガラス転移温度280℃)を、NMPと、TPGとからなる混合溶媒(質量比 NMP/TPG=75/25)に、30℃で溶解して、PAIの固形分濃度が12質量%の均一なPAI溶液を得た。
PAI粉体として、TACと、MDAとを重合して得られるPAI粉体(ソルベイアドバンストポリマーズ株式会社製トーロンAI−10、ガラス転移温度272℃)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、PAI溶液を作成し、この溶液から、実施例1と同様の条件で多孔質PAIフィルムを得た。この多孔質PAIフィルムは強靭であり、その気孔率は53体積%、平均孔径は6.5μmであった。
溶媒として、NMPと、TPGと、TEGDMとからなる混合溶媒(質量比 NMP/TPG/TEGDM=75/20/5)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、PAI溶液を作成し、この溶液から、実施例1と同様の条件で多孔質PAIフィルムを得た。この多孔質PAIフィルムは強靭であり、その気孔率は58体積%、平均孔径は5.9μmであった。
溶媒として、NMPと、TPGとからなる混合溶媒(質量比 NMP/TPG=90/10)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、PAI溶液を作成し、この溶液から、実施例1と同様の条件で多孔質PAIフィルムを得た。この多孔質PAIフィルムは強靭であり、その気孔率は51体積%、平均孔径は4.6μmであった。
溶媒として、NMPと、TPGとからなる混合溶媒(質量比 NMP/TPG=95/5)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、PAI溶液を作成し、この溶液から、実施例1と同様の条件で多孔質PAIフィルムを得た。この多孔質PAIフィルムは強靭であり、その気孔率は26体積%、平均孔径は5.6μmであった。
アルコール系溶媒として、エチレングリコール(沸点:197℃)を用いたこと以外は、実施例1と同様にしてPAI溶液を得ようとしたが均一な溶液を得ることができなかった。
アルコール系溶媒の含有比率を対混合溶媒比で55質量%としたこと以外は、実施例1と同様にしてPAI溶液を得ようとしたが、均一な溶液を得ることができなかった。
アルコール系溶媒の含有比率を対混合溶媒比で75質量%としたこと以外は、実施例2と同様にしてPAI溶液を得ようとしたが、均一な溶液を得ることができなかった。
特開2013−163806号公報 (特許文献2)実施例2の記載に従って、芳香族アミド系高分子溶液を作成した。すなわち、MDAと、イソフタル酸クロライドとを重合して得られるポリアミド粉体を、DMAcと、TPGとからなる混合溶媒(質量比 DMAc/TPG=50/50)に、30℃で溶解して、ポリアミドの固形分濃度が10質量%の均一なポリアミド溶液を得た。ここで、前記ポリアミドは、イミド結合ユニットを含有しない芳香族アミド系高分子である。
この溶液から、実施例1と同様して多孔質フィルムを作成したところ、得られたフィルムの気孔率は10体積%以下であった。
溶媒として、DMAcと、TPGとからなる混合溶媒(質量比 DMAc/TPG=75/25)を用いたこと以外は、比較例4と同様にして、ポリアミドの固形分濃度が10質量%の均一なポリアミド溶液を得た。この溶液から、実施例1と同様して多孔質フィルムを作成したところ、得られたフィルムの気孔率は10体積%以下であった。
Claims (3)
- アミド系溶媒とアルコール系溶媒とからなる混合溶媒を含有する芳香族アミド系高分子溶液であって、前記芳香族アミド系高分子は、主鎖中にイミド結合ユニットを有しており、 前記アルコール系溶媒は、沸点が200℃以上であり、その含有量が、全溶媒質量に対し、1質量%以上、50質量%未満であることを特徴とする多孔質フィルム形成用芳香族アミド系高分子溶液。
- 気孔率が20〜90体積%、平均孔径が0.1〜20μmの多孔質芳香族アミド系高分子フィルムであって、前記芳香族アミド系高分子が、ポリアミドイミドからなり、このポリアミドイミドのジアミン成分が、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、m−フェニレンジアミン、4,4′−ジフェニルメタンジアミンから選ばれる少なくとも一つを含むことを特徴とする多孔質芳香族アミド系高分子フィルム。
- ポリアミドイミドのジアミン成分が、4,4′−ジアミノジフェニルエーテルと、m−フェニレンジアミンとを含むことを特徴とする請求項2記載の多孔質芳香族アミド系高分子フィルム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015111572 | 2015-06-01 | ||
JP2015111572 | 2015-06-01 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016222912A true JP2016222912A (ja) | 2016-12-28 |
JP2016222912A5 JP2016222912A5 (ja) | 2017-06-01 |
JP6509779B2 JP6509779B2 (ja) | 2019-05-08 |
Family
ID=57745554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016109096A Active JP6509779B2 (ja) | 2015-06-01 | 2016-05-31 | 芳香族アミド系高分子溶液および多孔質芳香族アミド系フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6509779B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7203405B2 (ja) | 2017-02-21 | 2023-01-13 | ユニチカ株式会社 | 多孔質複合体の製造方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08243342A (ja) * | 1995-03-09 | 1996-09-24 | Toyobo Co Ltd | 中空糸膜型脱臭装置 |
JPH11537A (ja) * | 1997-06-12 | 1999-01-06 | Nok Corp | 多孔質高分子除湿膜 |
JP2005281668A (ja) * | 2004-02-19 | 2005-10-13 | Toyobo Co Ltd | 多孔質膜とその製造法及びこれを用いたリチウムイオン二次電池 |
JP2007269575A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 多孔質炭素膜の製造方法、燃料電池用電極、塩水電解用電極 |
JP2010163498A (ja) * | 2009-01-13 | 2010-07-29 | Daicel Chem Ind Ltd | ポリイミド系樹脂多孔フィルム又は被膜、及びその製造方法 |
WO2010137728A1 (ja) * | 2009-05-28 | 2010-12-02 | キヤノン株式会社 | 樹脂組成物、それを含む積層膜及びその積層膜を部品に用いる画像形成装置 |
WO2011074418A1 (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | ダイセル化学工業株式会社 | 多孔質層を有する積層体、及びそれを用いた機能性積層体 |
JP2011122124A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Daicel Chemical Industries Ltd | 多孔質膜及びその製造方法 |
JP2012223712A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-15 | Daicel Corp | 乾式ポリイミド系水処理用分離膜及びその製造方法 |
JP2013136216A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Daicel Corp | 酸化チタン含有多孔質膜積層体及びその製造方法 |
WO2014106954A1 (ja) * | 2013-01-07 | 2014-07-10 | ユニチカ株式会社 | リチウム二次電池用電極およびその製造方法 |
-
2016
- 2016-05-31 JP JP2016109096A patent/JP6509779B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08243342A (ja) * | 1995-03-09 | 1996-09-24 | Toyobo Co Ltd | 中空糸膜型脱臭装置 |
JPH11537A (ja) * | 1997-06-12 | 1999-01-06 | Nok Corp | 多孔質高分子除湿膜 |
JP2005281668A (ja) * | 2004-02-19 | 2005-10-13 | Toyobo Co Ltd | 多孔質膜とその製造法及びこれを用いたリチウムイオン二次電池 |
JP2007269575A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 多孔質炭素膜の製造方法、燃料電池用電極、塩水電解用電極 |
JP2010163498A (ja) * | 2009-01-13 | 2010-07-29 | Daicel Chem Ind Ltd | ポリイミド系樹脂多孔フィルム又は被膜、及びその製造方法 |
WO2010137728A1 (ja) * | 2009-05-28 | 2010-12-02 | キヤノン株式会社 | 樹脂組成物、それを含む積層膜及びその積層膜を部品に用いる画像形成装置 |
WO2011074418A1 (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | ダイセル化学工業株式会社 | 多孔質層を有する積層体、及びそれを用いた機能性積層体 |
JP2011122124A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Daicel Chemical Industries Ltd | 多孔質膜及びその製造方法 |
JP2012223712A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-15 | Daicel Corp | 乾式ポリイミド系水処理用分離膜及びその製造方法 |
JP2013136216A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Daicel Corp | 酸化チタン含有多孔質膜積層体及びその製造方法 |
WO2014106954A1 (ja) * | 2013-01-07 | 2014-07-10 | ユニチカ株式会社 | リチウム二次電池用電極およびその製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7203405B2 (ja) | 2017-02-21 | 2023-01-13 | ユニチカ株式会社 | 多孔質複合体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6509779B2 (ja) | 2019-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6656192B2 (ja) | ポリアミドイミド溶液、多孔質ポリアミドイミドフィルム、およびその製造方法 | |
CN1715313B (zh) | 膜 | |
CN106009007A (zh) | 多孔聚酰亚胺膜的制造方法和多孔聚酰亚胺膜 | |
CN107001681A (zh) | 多孔聚酰亚胺膜及其制造方法 | |
CN107722269A (zh) | 聚酰胺酸树脂、聚酰胺酰亚胺膜及其制备方法 | |
JP6997493B2 (ja) | ポリイミド粉体の製造方法 | |
JP2016145300A (ja) | 多孔質ポリアミドイミドフィルムおよびその製造方法 | |
JP6577182B2 (ja) | イミド系高分子溶液、多孔質イミド系高分子フィルム、およびその製造方法 | |
TW201735991A (zh) | 聚醯亞胺組成物以及分離膜的製備方法 | |
JP5833783B1 (ja) | ポリイミド粉体およびその製造方法 | |
JP6403389B2 (ja) | イミド系多孔質フィルムの製造方法およびイミド系多孔質フィルム | |
JP6509779B2 (ja) | 芳香族アミド系高分子溶液および多孔質芳香族アミド系フィルム | |
JP2019183153A (ja) | ポリイミドエアロゲルの製造方法 | |
JP6777308B2 (ja) | 多孔質ポリイミドフィルム形成用ポリイミド溶液、多孔質ポリイミドフィルムの製造方法および多孔質ポリイミドフィルム | |
JP7436023B2 (ja) | ポリアミドイミド溶液および多孔質ポリアミドイミドフィルムの製造方法 | |
JP2010023271A (ja) | 積層体 | |
JP6835348B2 (ja) | 蓄電素子セパレータ用ポリアミドイミド溶液および蓄電素子セパレータ | |
JP7389459B2 (ja) | ポリアミドイミド溶液の製造方法および増粘ポリアミドイミド | |
JP2020189972A (ja) | ポリアミドイミド溶液および多孔質ポリアミドイミドフィルムの製造方法 | |
JP2018168366A (ja) | ポリアミドイミド溶液および多孔質ポリアミドイミドフィルムの製造方法 | |
JP2018003010A (ja) | 多孔質ポリイミドフィルム形成用ポリイミド溶液、多孔質ポリイミドフィルムの製造方法および多孔質ポリイミドフィルム | |
JP6396691B2 (ja) | 絶縁電線用塗液 | |
JP6937502B2 (ja) | 多孔質複合フィルムおよび多孔質複合フィルムの製造方法 | |
JP2006045517A (ja) | フィルム | |
JP2004314394A (ja) | ポリイミドフィルムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170405 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170405 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180123 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20180223 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180511 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180814 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20181011 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181108 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190319 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190403 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6509779 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |