JP2016211021A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016211021A5 JP2016211021A5 JP2015093494A JP2015093494A JP2016211021A5 JP 2016211021 A5 JP2016211021 A5 JP 2016211021A5 JP 2015093494 A JP2015093494 A JP 2015093494A JP 2015093494 A JP2015093494 A JP 2015093494A JP 2016211021 A5 JP2016211021 A5 JP 2016211021A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vaporizer
- liquid
- control device
- control valve
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 46
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 claims description 41
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 230000037250 Clearance Effects 0.000 description 1
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000035512 clearance Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Description
気化器101内の液体原料の減少を検出して補給するため、従来では、気化器101への液体原料Lの供給を制御する制御弁105を気化器101への供給路106に設け、気化器101と流量制御装置103とを連通するガス流路107内のガスの圧力を検出する圧力検出器108を配設し、圧力検出器108により気化器101内のガス圧力をモニターし、気化器101内の液体原料Lが気化して減少することにより圧力検出器101の検出圧力が所定値以下になったら制御弁105を所定時間開いた後に閉じて気化器101内に所定量の液体原料を供給し、再び気化器101内の液体原料Lが気化により減少して検出圧力が所定値に達すると制御弁105を一定時間開いた後に閉じる、というシーケンスを繰り返す制御を行っていた。
上記目的を達成するため、本発明に係る気化供給装置は、液体を加熱して気化させる気化器と、前記気化器から送出されるガスの流量を制御する流量制御装置と、前記気化器への液体の供給路に介在された第1制御弁と、前記気化器で気化され前記流量制御装置に送られるガスの圧力を検出するための圧力検出器と、前記気化器内の所定量を超える液体のパラメータを測定する液体検知部と、前記圧力検出器の検出した圧力値に基づいて前記気化器に所定量の液体を供給するように前記第1制御弁を制御するとともに、前記液体検知部が所定量を超えて前記気化器内に流入した液体を検知した時には前記第1制御弁を閉じるように制御する制御装置と、を備える。
また、上記目的を達成するため、本発明に係る気化供給装置は、液体を加熱して気化させる気化器と、前記気化器から送出されるガスの流量を制御する流量制御装置と、前記気化器への液体の供給路に介在された第1制御弁と、前記気化器で気化され前記流量制御装置に送られるガスの圧力を検出するための圧力検出器と、前記気化器と前記流量制御装置の間のガス流路に介在された第2制御弁と、前記気化器内の所定量を超える液体のパラメータを測定する液体検知部と、前記圧力検出器の検出した圧力値に基づいて前記気化器に所定量の液体を供給するように前記第1制御弁を制御するとともに、前記液体検知部が所定量を超えて前記気化器内に流入した液体を検知した時に前記第2制御弁を閉じるように制御する制御装置と、を備える。
気化器2は、ステンレス鋼で形成された本体2Aを備えている。本体2Aは、仮想線で示された加熱用のジャケットヒータ等の加熱手段Hによって包まれている。本体2Aは、第1ブロック体2a、第2ブロック体2b、及び第3ブロック体2cを連結して構成されている。第1ブロック体2aは、上部に液供給口2a1が形成され、内部に気化室2a2が形成されている。第2ブロック体2bには、第1ブロック体2aの気化室2a2の上部と連通する第1ガス加熱室2b1が形成されている。第3ブロック体2cは、第1ガス加熱室2b1と連通する第2ガス加熱室2c1が内部に形成され、ガス排出口2c2が上部に形成されている。第1ガス加熱室2b1及び第2ガス加熱室2c1は、円筒状空間内に円柱状の加熱促進体2b3、2c3が設置され、該円筒状空間と加熱促進体2b3、2c3との隙間がガス流路となっている。第1ブロック体2aと第2ブロック体2bの間、及び第2ブロック体2bと第3ブロック体2cの間の、それぞれのガス連通部には、通孔付きガスケット9、10が介在され、これらの通孔付きガスケット9、10の通孔をガスが通過することにより、ガスの脈動が防止される。
図示例の流量制御装置3は、高温対応型の圧力式流量制御装置と呼ばれる公知の流量制御装置である。この流量制御装置3は、図1及び図2を参照すれば、弁ブロック31と、弁ブロック31内に形成されたガス流路32と、ガス流路32に介在された金属製ダイヤフラム弁体33と、弁ブロック31に固定されて立設された筒状ガイド部材34と、筒状ガイド部材34に摺動可能に挿入された弁棒ケース35と、弁棒ケース35の下部に形成された孔35a、35aを貫通し筒状ガイド部材34により弁ブロック31に押圧固定されたブリッジ36と、弁棒ケース35内に収容されるとともにブリッジ36に支持された放熱スペーサ37及び圧電駆動素子38と、弁棒ケース35の外周に突設され筒状ガイド部材34に形成された孔34aを貫通して延びる鍔受け35bと、鍔受け35bに装着された鍔体39と、筒状ガイド部材34の上端部に形成された鍔部34bと、鍔部34bと鍔体39との間に圧縮状態で配設されたコイルバネ40と、金属ダイヤフラム弁体33の下流側のガス流路32に介在され微細孔が形成された孔空き薄板41と、金属ダイヤフラム弁体33と孔空き薄板41との間のガス流路32内の圧力を検出する流量制御用圧力検出器42と、を備えている。放熱スペーサ37は、インバー材等で形成されており、ガス流路32に高温のガスが流れても圧電駆動素子38が耐熱温度以上になることを防ぐ。
圧電駆動素子38の非通電時には、コイルバネ40により弁棒ケース35が図2の下方に押され、図2に示すように、金属ダイヤフラム弁体33が弁座31aに当接し、ガス流路32を閉じている。圧電駆動素子38に通電することにより圧電駆動素子38が伸張し、コイルバネ40の弾性力に抗して弁棒ケース35を図2の上方へ持ち上げると金属ダイヤフラム弁体33が自己弾性力により元の逆皿形状に復帰してガス流路32が開通する。
図3は、本発明に係る気化供給装置の第2実施形態を示している。第2実施形態の気化供給装置1Bは、気化器2内の所定量を超える液体原料のパラメータを測定する液体検知部7Bが、気化器2内の液面レベルの変化を測定する液面計である点が主として上記第1実施形態と異なり、その他の構成は上記第1実施形態と同様である。
制御装置8は、一態様において、液体検知部7Aが液体原料Lを検知した時に、上記第1実施形態と同様に圧力検知器6の検知圧力に拘わらず第1制御弁5をも閉じる。すなわち、この場合、制御装置8は、液体検知部7Aが液体原料Lを検知した時に、第1制御弁5と第2制御弁70の双方を直ちに閉じるように制御する。
或いは、制御装置8は、他の一態様において、液体検知部7Aが液体原料Lを検知した時に、第1制御弁5には液体検知部7Aの検知信号に基づく制御指令を送らず、第2制御弁70のみを閉じるように制御する。すなわち、この場合、液体検知部7Aの検知信号は、第2制御弁70の開閉制御のみに用いられる。この場合、第1制御弁5は、圧力検知器6の検知信号に基づいて従来と同様に制御される。
Claims (2)
- 液体を加熱して気化させる気化器と、
前記気化器から送出されるガスの流量を制御する流量制御装置と、
前記気化器への液体の供給路に介在された第1制御弁と、
前記気化器で気化され前記流量制御装置に送られるガスの圧力を検出するための圧力検出器と、
前記気化器内の所定量を超える液体のパラメータを測定する液体検知部と、
前記圧力検出器の検出した圧力値に基づいて前記気化器に所定量の液体を供給するように前記第1制御弁を制御するとともに、前記液体検知部が所定量を超えて前記気化器内に流入した液体を検知した時には前記第1制御弁を閉じるように制御する制御装置と、
を備えることを特徴とする気化供給装置。 - 液体を加熱して気化させる気化器と、
前記気化器から送出されるガスの流量を制御する流量制御装置と、
前記気化器への液体の供給路に介在された第1制御弁と、
前記気化器で気化され前記流量制御装置に送られるガスの圧力を検出するための圧力検出器と、
前記気化器と前記流量制御装置の間のガス流路に介在された第2制御弁と、
前記気化器内の所定量を超える液体のパラメータを測定する液体検知部と、
前記圧力検出器の検出した圧力値に基づいて前記気化器に所定量の液体を供給するように前記第1制御弁を制御するとともに、前記液体検知部が所定量を超えて前記気化器内に流入した液体を検知した時に前記第2制御弁を閉じるように制御する制御装置と、
を備えることを特徴とする気化供給装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015093494A JP6578125B2 (ja) | 2015-04-30 | 2015-04-30 | 気化供給装置 |
US15/565,696 US10646844B2 (en) | 2015-04-30 | 2016-04-11 | Vaporization supply apparatus |
KR1020177017535A KR101962659B1 (ko) | 2015-04-30 | 2016-04-11 | 기화 공급 장치 |
CN201680007156.XA CN107532298B (zh) | 2015-04-30 | 2016-04-11 | 气化供给装置 |
PCT/JP2016/001967 WO2016174832A1 (ja) | 2015-04-30 | 2016-04-11 | 気化供給装置 |
TW105112439A TWI632609B (zh) | 2015-04-30 | 2016-04-21 | Gasification supply device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015093494A JP6578125B2 (ja) | 2015-04-30 | 2015-04-30 | 気化供給装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016211021A JP2016211021A (ja) | 2016-12-15 |
JP2016211021A5 true JP2016211021A5 (ja) | 2018-03-15 |
JP6578125B2 JP6578125B2 (ja) | 2019-09-18 |
Family
ID=57199662
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015093494A Active JP6578125B2 (ja) | 2015-04-30 | 2015-04-30 | 気化供給装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10646844B2 (ja) |
JP (1) | JP6578125B2 (ja) |
KR (1) | KR101962659B1 (ja) |
CN (1) | CN107532298B (ja) |
TW (1) | TWI632609B (ja) |
WO (1) | WO2016174832A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102338026B1 (ko) | 2017-07-25 | 2021-12-10 | 가부시키가이샤 후지킨 | 유체 제어 장치 |
JP7097085B2 (ja) | 2017-07-25 | 2022-07-07 | 株式会社フジキン | 流体制御装置 |
JP7137921B2 (ja) * | 2017-11-07 | 2022-09-15 | 株式会社堀場エステック | 気化システム及び気化システム用プログラム |
KR20220029730A (ko) | 2019-08-30 | 2022-03-08 | 가부시키가이샤 후지킨 | 다이어프램 밸브 |
JPWO2021054135A1 (ja) * | 2019-09-19 | 2021-03-25 | ||
JP7111408B2 (ja) * | 2019-12-06 | 2022-08-02 | 株式会社フジキン | 流量制御装置の異常検知方法および流量監視方法 |
JP7240770B2 (ja) * | 2019-12-16 | 2023-03-16 | 株式会社フジキン | 気化供給方法及び気化供給装置 |
JP7457522B2 (ja) | 2020-02-20 | 2024-03-28 | 株式会社堀場エステック | 気化システム |
WO2022022188A1 (zh) * | 2020-07-27 | 2022-02-03 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 | 原料气化装置和镀膜装置以及镀膜设备及其进料方法 |
JP2022061803A (ja) * | 2020-10-07 | 2022-04-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 気化装置、ガス供給装置及びガス供給装置の制御方法 |
US20230324008A1 (en) * | 2020-10-31 | 2023-10-12 | Fujikin Incorporated | Gas supply system and gas supply method |
US20240101446A1 (en) * | 2021-03-11 | 2024-03-28 | Fujikin Incorporated | Vaporizer and vaporization supply device |
US20240167577A1 (en) | 2021-04-01 | 2024-05-23 | Fujikin Incorporated | Controller and vaporization supply device |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2814380B2 (ja) * | 1989-04-01 | 1998-10-22 | 東京エレクトロン東北株式会社 | 液体材料気化供給装置 |
JP2000133644A (ja) * | 1998-10-28 | 2000-05-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造装置 |
JP2005217089A (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Nec Kansai Ltd | 半導体製造装置および半導体製造方法 |
JP3896594B2 (ja) * | 2004-10-01 | 2007-03-22 | 株式会社ユーテック | Cvd用気化器、溶液気化式cvd装置及びcvd用気化方法 |
JP4263206B2 (ja) * | 2005-11-15 | 2009-05-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理方法、熱処理装置及び気化装置 |
JP5461786B2 (ja) * | 2008-04-01 | 2014-04-02 | 株式会社フジキン | 気化器を備えたガス供給装置 |
JP5155895B2 (ja) | 2009-01-27 | 2013-03-06 | 日本エア・リキード株式会社 | 充填容器内の液体材料の供給装置および該液体材料の供給装置における充填容器内の液面管理方法 |
JP5350824B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2013-11-27 | 株式会社フジキン | 液体材料の気化供給システム |
JP5652960B2 (ja) * | 2011-08-01 | 2015-01-14 | 株式会社フジキン | 原料気化供給装置 |
JP5913888B2 (ja) | 2011-09-30 | 2016-04-27 | 国立大学法人東北大学 | 気化器 |
JP2014006151A (ja) | 2012-06-25 | 2014-01-16 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 液体材料有無検知方法 |
JP5837869B2 (ja) | 2012-12-06 | 2015-12-24 | 株式会社フジキン | 原料気化供給装置 |
JP5548292B1 (ja) * | 2013-05-30 | 2014-07-16 | 株式会社堀場エステック | 加熱気化システムおよび加熱気化方法 |
-
2015
- 2015-04-30 JP JP2015093494A patent/JP6578125B2/ja active Active
-
2016
- 2016-04-11 WO PCT/JP2016/001967 patent/WO2016174832A1/ja active Application Filing
- 2016-04-11 US US15/565,696 patent/US10646844B2/en active Active
- 2016-04-11 KR KR1020177017535A patent/KR101962659B1/ko active IP Right Grant
- 2016-04-11 CN CN201680007156.XA patent/CN107532298B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2016-04-21 TW TW105112439A patent/TWI632609B/zh active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2016211021A5 (ja) | ||
US10646844B2 (en) | Vaporization supply apparatus | |
US10838435B2 (en) | Pressure-type flow rate control device | |
KR102639507B1 (ko) | 액체 재료 기화 공급 장치 및 제어 프로그램 | |
JP7137921B2 (ja) | 気化システム及び気化システム用プログラム | |
TWI628717B (zh) | 加熱汽化系統和加熱汽化方法 | |
US10509422B2 (en) | Mass flow controller | |
US20170212531A1 (en) | Pressure-type flow rate control device | |
JP2016095212A (ja) | 液面計及び液体原料気化供給装置 | |
JP2018514714A (ja) | 圧力露点制御型のパージエア調節ユニット | |
TWI679715B (zh) | 氣化用容器、氣化器及氣化裝置 | |
JP2009280223A (ja) | 炭酸ガス圧力調整器 | |
JP5963296B2 (ja) | フロースイッチ | |
WO2021124723A1 (ja) | 気化供給方法及び気化供給装置 | |
JP2013130352A (ja) | 蒸気加熱装置 |