JP7457522B2 - 気化システム - Google Patents
気化システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7457522B2 JP7457522B2 JP2020027409A JP2020027409A JP7457522B2 JP 7457522 B2 JP7457522 B2 JP 7457522B2 JP 2020027409 A JP2020027409 A JP 2020027409A JP 2020027409 A JP2020027409 A JP 2020027409A JP 7457522 B2 JP7457522 B2 JP 7457522B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- outflow
- liquid material
- tank
- valve
- section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 154
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 claims description 137
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 100
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims description 88
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims description 86
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 49
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 61
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910007245 Si2Cl6 Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- KSOCVFUBQIXVDC-FMQUCBEESA-N p-azophenyltrimethylammonium Chemical compound C1=CC([N+](C)(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=C([N+](C)(C)C)C=C1 KSOCVFUBQIXVDC-FMQUCBEESA-N 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
Claims (9)
- 外部から液体材料が導入される導入部と、
液体材料を貯留するタンクと、
前記タンク内の液体材料を気化させるために、前記タンク内の液体材料を加熱するタンク加熱部と、
前記タンクへ液体材料を流入させる流入弁と、
前記タンクから気化ガスを流出させる流出弁と、
前記流入弁及び前記流出弁を制御する制御部と、
前記タンクから液体材料が流出することを検出する流出検出部と、
外部へ気化ガスを導出する導出部と、
前記流出弁よりも下流側且つ前記導出部よりも上流側に配置され、液体材料を貯留可能な貯留部と、を備え、
前記貯留部の流路断面積は、前記流出弁から前記貯留部の入口までの流路断面積よりも、大きく、
前記制御部は、前記タンクからの液体材料の流出が検出された場合に、前記流入弁を閉止する、気化システム。 - 外部から液体材料が導入される導入部と、
液体材料を貯留するタンクと、
前記タンク内の液体材料を気化させるために、前記タンク内の液体材料を加熱するタンク加熱部と、
前記タンクへ液体材料を流入させる流入弁と、
前記タンクから気化ガスを流出させる流出弁と、
前記流入弁及び前記流出弁を制御する制御部と、
前記タンクから液体材料が流出することを検出する流出検出部と、
外部へ気化ガスを導出する導出部と、
前記流出弁よりも下流側且つ前記導出部よりも上流側に配置され、液体材料を貯留可能な貯留部と、を備え、
前記貯留部の流路は、螺旋状に形成され、
前記制御部は、前記タンクからの液体材料の流出が検出された場合に、前記流入弁を閉止する、気化システム。 - 外部から液体材料が導入される導入部と、
液体材料を貯留するタンクと、
前記タンク内の液体材料を気化させるために、前記タンク内の液体材料を加熱するタンク加熱部と、
前記タンクへ液体材料を流入させる流入弁と、
前記タンクから気化ガスを流出させる流出弁と、
前記流入弁及び前記流出弁を制御する制御部と、
前記タンクから液体材料が流出することを検出する流出検出部と、
外部へ気化ガスを導出する導出部と、
前記流出弁よりも下流側且つ前記導出部よりも上流側に配置され、液体材料を貯留可能な貯留部と、を備え、
前記貯留部内の液体材料を気化させるために、前記貯留部内の液体材料を加熱する貯留加熱部を備える、気化システム。 - 前記貯留部の入口及び出口は、それぞれ前記貯留部の上方側に配置される、請求項1に記載の気化システム。
- 前記流出検出部は、前記貯留部よりも下流側の流路の圧力を検出する圧力検出部を備える、請求項1~4の何れか1項に記載の気化システム。
- 前記流出弁が取り付けられるブロックを備え、
前記貯留部は、前記ブロックの内部に形成され、
前記ブロックは、前記流出弁と前記貯留部とを接続する流路部を内部に備える、請求項1~5の何れか1項に記載の気化システム。 - 前記タンク、前記タンク加熱部、前記流入弁、及び前記流出弁を少なくとも有する第1システムユニットと、
前記貯留部を少なくとも有し、前記第1システムユニットに対して着脱可能な第2システムユニットと、を備える、請求項1~5の何れか1項に記載の気化システム。 - 気化ガスの流量を検出するガス流量検出部をさらに備え、
前記流出弁は、開度を変更することによって気化ガスの流量を変更可能な流出制御弁を含み、
前記制御部は、前記ガス流量検出部が検出した気化ガスの流量に基づいて、前記流出制御弁の開度を制御し、
前記貯留部は、前記ガス流量検出部及び前記流出制御弁よりも下流側に配置される、請求項1~7の何れか1項に記載の気化システム。 - 前記流出検出部は、前記タンクと前記流出弁との間の流路の圧力を検出する圧力検出部を備える、請求項1~8の何れか1項に記載の気化システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020027409A JP7457522B2 (ja) | 2020-02-20 | 2020-02-20 | 気化システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020027409A JP7457522B2 (ja) | 2020-02-20 | 2020-02-20 | 気化システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021130853A JP2021130853A (ja) | 2021-09-09 |
JP7457522B2 true JP7457522B2 (ja) | 2024-03-28 |
Family
ID=77552120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020027409A Active JP7457522B2 (ja) | 2020-02-20 | 2020-02-20 | 気化システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7457522B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000074891A (ja) | 1998-08-31 | 2000-03-14 | Shimadzu Corp | ガスクロマトグラフ |
JP2008262965A (ja) | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Tokyo Electron Ltd | 半導体製造装置のガス供給システム |
JP2016122841A (ja) | 2014-12-22 | 2016-07-07 | 株式会社堀場エステック | 気化システム |
JP2016211021A (ja) | 2015-04-30 | 2016-12-15 | 株式会社フジキン | 気化供給装置 |
WO2020195349A1 (ja) | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 日立金属株式会社 | 気化器 |
-
2020
- 2020-02-20 JP JP2020027409A patent/JP7457522B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000074891A (ja) | 1998-08-31 | 2000-03-14 | Shimadzu Corp | ガスクロマトグラフ |
JP2008262965A (ja) | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Tokyo Electron Ltd | 半導体製造装置のガス供給システム |
JP2016122841A (ja) | 2014-12-22 | 2016-07-07 | 株式会社堀場エステック | 気化システム |
JP2016211021A (ja) | 2015-04-30 | 2016-12-15 | 株式会社フジキン | 気化供給装置 |
US20180071702A1 (en) | 2015-04-30 | 2018-03-15 | Fujikin Incorporated | Vaporization supply apparatus |
WO2020195349A1 (ja) | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 日立金属株式会社 | 気化器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021130853A (ja) | 2021-09-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102639507B1 (ko) | 액체 재료 기화 공급 장치 및 제어 프로그램 | |
CN105714271B (zh) | 汽化系统 | |
US7680399B2 (en) | System and method for producing and delivering vapor | |
JP7137921B2 (ja) | 気化システム及び気化システム用プログラム | |
KR102615958B1 (ko) | 유체 제어 장치, 및 유량 비율 제어 장치 | |
US10883743B2 (en) | Water heater with flow bypass | |
US20160178235A1 (en) | Fluid heater | |
JP7457522B2 (ja) | 気化システム | |
JP6301867B2 (ja) | 気化システム | |
JP2017198439A (ja) | 蒸気供給装置および蒸気供給方法 | |
GB2546784A (en) | A steam trap | |
KR102143074B1 (ko) | 저온가스 배출관의 결빙방지장치 | |
JP7243140B2 (ja) | 水素燃料貯蔵システム | |
JP7111408B2 (ja) | 流量制御装置の異常検知方法および流量監視方法 | |
JP6697727B2 (ja) | 冷却システム及び冷却システムにおける冷媒制御方法 | |
JP2016125567A (ja) | 液化ガス用気化装置 | |
JP6058930B2 (ja) | 内燃機関の燃料供給装置 | |
WO2022190711A1 (ja) | 気化器および気化供給装置 | |
JP7129969B2 (ja) | 気化装置及び気化システム | |
KR20230080462A (ko) | 기화 장치, 가스 공급 장치 및 가스 공급 장치 제어 방법 | |
RU2021119130A (ru) | Бак для хранения криогенной текучей среды | |
JP2012127419A (ja) | 蒸気トラップ | |
JP2001281036A (ja) | 過流量遮断装置 | |
JP2002213696A (ja) | 液化ガス蒸発装置 | |
CN107787432A (zh) | 具备过压防止部件的流体循环式供暖装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220908 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230524 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230704 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240308 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240315 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7457522 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |