JP2014006151A - 液体材料有無検知方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】液体材料の粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器内に貯蔵された液体材料の有無を確実に検知可能で、かつ使用先への液体材料の供給不良(供給不足)に起因するプロセス不良を抑制可能な液体材料有無検知方法を提供する。
【解決手段】使用先11に液体材料Aを供給時において、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aをバッファタンク42に供給する第1の液体材料供給ライン23に配置された液体流量計61を用いて、第1の液体材料供給ライン23を流れる流体の流量を連続的に測定する流量測定工程と、液体流量計61が測定する流体の流量に基づき、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aの有無を検知する液体材料有無検知工程と、を含む。
【選択図】図1
【解決手段】使用先11に液体材料Aを供給時において、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aをバッファタンク42に供給する第1の液体材料供給ライン23に配置された液体流量計61を用いて、第1の液体材料供給ライン23を流れる流体の流量を連続的に測定する流量測定工程と、液体流量計61が測定する流体の流量に基づき、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aの有無を検知する液体材料有無検知工程と、を含む。
【選択図】図1
Description
本発明は、バッファタンクを介して、液体材料貯蔵容器に充填された液体材料を使用先に供給する際、液体材料貯蔵容器内の液体材料の有無を検知可能な液体材料有無検知方法に関する。
半導体集積デバイスや液晶パネル等の電子デバイスを製造するためには、基板上に様々な材質の膜を成膜する必要がある。
このような膜の成膜方法としては、例えば、PVD法(物理気相成長法)やCVD法(化学気相成長法)等が広く知られている。
このような膜の成膜方法としては、例えば、PVD法(物理気相成長法)やCVD法(化学気相成長法)等が広く知られている。
CVD法を用いた成膜プロセスでは、Si(OC2H5)4(=テオス(TEOS))、TiCl4(=四塩化チタン)、SiH(N(CH3)2)3(=トリスジメチルアミノシラン(3DMAS))、Ga(CH3)3(=トリメチルガリウム)等を始めとする様々な液体材料が使用される。
上記液体材料の供給方法としては、例えば、液体材料を充填した液体材料貯蔵容器の液相側から搬送ガスである不活性ガス(窒素やヘリウム等)を供給して液体材料中を通すこと(すなわち、バブリングすること)によって、蒸気圧相当の気相成分を搬送ガスと共にチャンバに供給する方法が古くから行われている。
他の液体材料の供給方法としては、液体材料貯蔵容器の気相側から圧送ガス(例えば、窒素やヘリウム等の不活性ガス)を導入し、液体材料貯蔵容器内を加圧状態として、液相側から液体の状態で液体材料を圧送する方法がある。上記液体の状態で液体材料を圧送する方法としては、大きく分けて2つの方法がある。
具体的には、液相側から圧送した液体材料を液体用マスフローコントローラーで液体として流量制御し、その下流側で気化器等によって気化させながら供給する方法(以下、「液体流量制御気化方法」という)と、液体材料を気化させてから気体用マスフローコントローラーで気体として流量制御しながら供給する方法(以下、「気化後流量制御方法」という)と、がある。
液体流量制御気化方法は、現在最も一般的な液体材料供給方法である。この方法では、使用先に供給される直前まで液体材料が高温に晒されることがないため、気化後流量制御方法と比較して、液体材料の変質が抑制可能となる。
一方、気化後流量制御方法は、気化器の下流側に配置された気体用マスフローコントローラーにより、液体材料を気体として流量制御するため、液体流量制御気化方法と比較して材料の流量の制御精度に優れている。
一方、気化後流量制御方法は、気化器の下流側に配置された気体用マスフローコントローラーにより、液体材料を気体として流量制御するため、液体流量制御気化方法と比較して材料の流量の制御精度に優れている。
上記説明した液体流量制御気化方法、及び気化後流量制御方法のどちらの方法を使用する場合でも、液体材料を使用する使用先が、例えば、半導体製造装置(例えば、成膜装置)である場合、液体材料が無くなると、半導体製造装置に液体材料が供給されなくなり、プロセス不良が発生するため、液体材料貯蔵容器内の液体材料の有無を検知することは重要である。
そのため、従来、液体材料貯蔵容器の残量を検知する方法が広く検討されている。
特許文献1には、容器内部にセンサプローブを挿入して液面レベルを検知する方法が開示されている。
また、特許文献2には、容器の内部及び外部に電極を設け、液体充填量とキャパシタンスの関係から液残量を検知する方法が開示されている。
特許文献1には、容器内部にセンサプローブを挿入して液面レベルを検知する方法が開示されている。
また、特許文献2には、容器の内部及び外部に電極を設け、液体充填量とキャパシタンスの関係から液残量を検知する方法が開示されている。
しかし、特許文献1,2に記載の方法では、容器内部の液体材料にセンサプローブ或いは電極を接触させるため、液体材料の物性によってはセンサプローブ及び電極の劣化が早くなる恐れがあった。
特許文献1,2の上記問題を解決可能な方法として、特許文献3には、液体材料貯蔵容器に対向式の窓を設け、光学的に液面を検知する方法が開示されている。
具体的には、特許文献3には、一方の窓の外側に投光器を設け、容器反対側の窓の外側に設けた受光器で、投光器から放出された光の強度を検知する構成が開示されている。
特許文献3に記載の方法は、光が通過する間に液体が存在するかどうかで受光強度が異なることを利用している。
具体的には、特許文献3には、一方の窓の外側に投光器を設け、容器反対側の窓の外側に設けた受光器で、投光器から放出された光の強度を検知する構成が開示されている。
特許文献3に記載の方法は、光が通過する間に液体が存在するかどうかで受光強度が異なることを利用している。
しかしながら、特許文献3に記載の方法では、粘性の高い液体材料を液体材料貯蔵容器に充填し、液体材料貯蔵容器から使用先に液体材料を供給した際、液体材料の液面が窓位置よりも低い場合でも、窓表面に液体材料が付着する場合があるため、液体材料の液面の検知不良を起こす恐れがあった。
そこで、本発明は、液体材料の粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器内に貯蔵された液体材料の有無を確実に検知可能で、かつ使用先への液体材料の供給不良(供給不足)に起因するプロセス不良を抑制可能な液体材料有無検知方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、請求項1に係る発明によれば、バッファタンクを介して、液体材料貯蔵容器に充填された液体材料を使用先に供給する際、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料の有無を検知する液体材料有無検知方法であって、前記使用先に前記液体材料を供給時において、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料を前記バッファタンクに供給する液体材料供給ラインに配置された液体流量計を用いて、前記液体材料供給ラインを流れる流体の流量を連続的に測定する流量測定工程と、前記液体流量計が測定する前記流体の流量に基づき、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料の有無を検知する液体材料有無検知工程と、を含むことを特徴とする液体材料有無検知方法が提供される。
また、請求項2に係る発明によれば、前記液体材料有無検知工程では、前記流体の流量の変動の大きさに基づき、前記流体が気体であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料が無くなったことを検知し、前記流体が前記気体を含まない前記液体材料であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内に前記液体材料が有ることを検知することを特徴とする請求項1記載の液体材料有無検知方法が提供される。
また、請求項3に係る発明によれば、前記液体材料有無検知工程では、前記流体の流量の変動の大きさに基づき、前記流体が気体を含む前記液体材料であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料が残り少ないことを検知することを特徴とする請求項1または2記載の液体材料有無検知方法が提供される。
また、請求項4に係る発明によれば、前記使用先として、成膜装置または分析装置を用いることを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の液体材料有無検知方法が提供される。
また、請求項5に係る発明によれば、前記液体材料として、前記成膜装置が使用する成膜材料を用いることを特徴とする請求項4記載の液体材料有無検知方法が提供される。
本発明の液体材料有無検知方法によれば、使用先に液体材料を供給する際に、液体材料貯蔵容器内の液体材料をバッファタンクに供給する液体材料供給ラインに配置された液体流量計を用いて、液体材料供給ラインを流れる流体の流量を連続的に測定することにより、液体材料の粘性に依存することなく、該流体の流量の変動に基づいて、流体が気体であると判定された際、液体材料貯蔵容器内の液体材料が無くなったことを検知することが可能になると共に、流体が気体を含まない液体材料であると判定された際、液体材料貯蔵容器内に液体材料が有ることを検知することが可能となる。
また、液体材料貯蔵容器内の液体材料を直接使用先に供給するのではなく、液体材料貯蔵容器内の液体材料をバッファタンクに貯めて、バッファタンク内から使用先に液体材料を供給するため、バッファタンク内の液体材料が無くならないように、バッファタンク内に液体材料貯蔵容器に充填された液体材料を供給することが可能となる。
これにより、使用先に液体材料を供給する際に、液体材料貯蔵容器内の液体材料が無くなったとしてもバッファタンク内の液体材料が無くなることない。
これにより、使用先に液体材料を供給する際に、液体材料貯蔵容器内の液体材料が無くなったとしてもバッファタンク内の液体材料が無くなることない。
したがって、液体材料の粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器内に貯蔵された液体材料の有無を確実に検知でき、かつ使用先への液体材料の供給不良(供給不足)に起因するプロセス不良を抑制できる。
以下、図面を参照して本発明を適用した実施の形態について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、本発明の実施形態の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の液体材料供給装置の寸法関係とは異なる場合がある。
(実施の形態)
図1は、本発明の実施の形態に係る液体材料有無検知方法を実施する際に使用する液体材料供給装置の概略構成を示す図である。
図1は、本発明の実施の形態に係る液体材料有無検知方法を実施する際に使用する液体材料供給装置の概略構成を示す図である。
ここで、本実施の形態に係る液体材料有無検知方法を説明する前に、本実施の形態の液体材料有無検知方法を実施する際に使用する液体材料供給装置10の構成について説明する。
図1を参照するに、液体材料供給装置10は、液体材料有無検知装置17を含み、液体材料貯蔵容器21と、第1の液体材料供給ライン23と、第1乃至第13のバルブ24,25,31,32,37,38,43,46,47,52,53,57,58と、第1のベント用ライン27と、第1の圧送ガス供給ライン35と、バッファタンク42と、第2の液体材料供給ライン44と、第2のベント用ライン49と、第2の圧送ガス供給ライン55と、液体流量計61と、制御部63と、を有する。液体材料有無検知装置17は、液体流量計61と、制御部63と、を有した構成とされている。
液体材料貯蔵容器21は、液体材料Aが充填された容器である。液体材料貯蔵容器21は、蓋体21Aと、第1及び第2の貫通部(共に図示せず)と、を有する。
該第1及び第2の貫通部は、蓋体21Aを貫通している。第1の貫通部には、第1のベント用ライン27の一端27Aが装着されている。第2の貫通部には、第1の液体材料供給ライン23の一部が液体材料貯蔵容器21内に延在するように、第1の液体材料供給ライン23が装着されている。
該第1及び第2の貫通部は、蓋体21Aを貫通している。第1の貫通部には、第1のベント用ライン27の一端27Aが装着されている。第2の貫通部には、第1の液体材料供給ライン23の一部が液体材料貯蔵容器21内に延在するように、第1の液体材料供給ライン23が装着されている。
液体材料貯蔵容器21は、第1の液体材料供給ライン23を介して、バッファタンク42に液体材料Aを供給可能な状態で、バッファタンク42と接続されている。液体材料貯蔵容器21は、バッファタンク42を介して、使用先11に液体材料Aを供給する。
使用先11としては、例えば、半導体製造装置(例えば、PVD装置やCVD装置等の成膜装置)や分析装置(例えば、FT−IR)等を用いることができる。
使用先11としてCVD装置を用いた場合、液体材料貯蔵容器21内に貯蔵される液体材料Aとしては、例えば、Si(OC2H5)4(=テオス(TEOS))、TiCl4(=四塩化チタン)、SiH(N(CH3)2)3(=トリスジメチルアミノシラン(3DMAS))、Ga(CH3)3(=トリメチルガリウム)等を用いることができる。これらの液体材料Aは、大気中に存在する酸素や水分と反応しやすい性質を有する。
使用先11としてCVD装置を用いた場合、液体材料貯蔵容器21内に貯蔵される液体材料Aとしては、例えば、Si(OC2H5)4(=テオス(TEOS))、TiCl4(=四塩化チタン)、SiH(N(CH3)2)3(=トリスジメチルアミノシラン(3DMAS))、Ga(CH3)3(=トリメチルガリウム)等を用いることができる。これらの液体材料Aは、大気中に存在する酸素や水分と反応しやすい性質を有する。
液体材料Aとして、上記材料のように、大気中に存在する酸素や水分と反応しやすい材料を用い、蓋体21Aに対して、第1の液体材料供給ライン23の一端23A及び第1のベント用ライン27を取り付けたり、取り外したりする場合、蓋体21Aと第1の液体材料供給ライン23及び第1のベント用ライン27との接続部分を十分にパージする必要ある。
液体材料貯蔵容器21の材質としては、充填する液体材料Aと反応せず、かつ気密性を保てる材質であればよい。具体的な液体材料貯蔵容器21の材質としては、例えば、ステンレスやテフロン(登録商標)等を用いることができる。
液体材料貯蔵容器21の容量は、使用量に応じた液体材料を貯蔵できる容量であればよく、例えば、数十〜数千cm3とすることができる。
液体材料貯蔵容器21の容量は、使用量に応じた液体材料を貯蔵できる容量であればよく、例えば、数十〜数千cm3とすることができる。
第1の液体材料供給ライン23は、液体材料貯蔵容器21に充填された液体材料Aをバッファタンク42内に供給するためのラインである。第1の液体材料供給ライン23は、その一端23Aが液体材料貯蔵容器21の底部に配置され、他端23Bがバッファタンク42内に収容されている。
第1の液体材料供給ライン23の一端23Aは、液体材料貯蔵容器21の底面に対して近接して配置されている。
このように、液体材料貯蔵容器21の底面に対して近接するように、第1の液体材料供給ライン23の一端23Aを配置することで、液体材料貯蔵容器21に充填されたほとんどの液体材料Aを供給することが可能となる。
このように、液体材料貯蔵容器21の底面に対して近接するように、第1の液体材料供給ライン23の一端23Aを配置することで、液体材料貯蔵容器21に充填されたほとんどの液体材料Aを供給することが可能となる。
第1の液体材料供給ライン23の他端23Bは、バッファタンク42内に充填された液体材料Aに浸漬される位置に配置されている。
これにより、バッファタンク42内に充填された液体材料Aの液面a2の上方から、第1の液体材料供給ライン23により輸送された液体材料Aが供給されることがなくなるため、バッファタンク42から使用先11に供給される液体材料Aに気体(気泡)が含まれることを抑制可能となる。したがって、使用先11に安定して所定の流量の液体材料Aを供給することができる。
これにより、バッファタンク42内に充填された液体材料Aの液面a2の上方から、第1の液体材料供給ライン23により輸送された液体材料Aが供給されることがなくなるため、バッファタンク42から使用先11に供給される液体材料Aに気体(気泡)が含まれることを抑制可能となる。したがって、使用先11に安定して所定の流量の液体材料Aを供給することができる。
液体材料貯蔵容器21内に十分な量の液体材料Aが存在する場合、第1の液体材料供給ライン23は、バッファタンク42内に気体(ガス)を含まない液体材料Aを供給する。
また、液体材料貯蔵容器21内に残存する液体材料Aが少なくなって、液体材料Aに気体(ガス)が含まれる段階(液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなる手前の段階)では、第1の液体材料供給ライン23は、バッファタンク42内に気体(ガス)が含まれた液体材料Aを供給する。
さらに、液体材料貯蔵容器21内に液体材料Aが無くなると、第1の液体材料供給ライン23は、バッファタンク42内に気体(ガス)を供給する。
また、液体材料貯蔵容器21内に残存する液体材料Aが少なくなって、液体材料Aに気体(ガス)が含まれる段階(液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなる手前の段階)では、第1の液体材料供給ライン23は、バッファタンク42内に気体(ガス)が含まれた液体材料Aを供給する。
さらに、液体材料貯蔵容器21内に液体材料Aが無くなると、第1の液体材料供給ライン23は、バッファタンク42内に気体(ガス)を供給する。
第1のバルブ24は、液体材料貯蔵容器21の外側で、かつ蓋体21Aの近傍に位置する第1の液体材料供給ライン23に設けられている。第1のバルブ24は、制御部63と電気的に接続されている。
第2のバルブ25は、第1のバルブ24の後段に位置する第1の液体材料供給ライン23に設けられている。第2のバルブ25は、制御部63と電気的に接続されている。
第2のバルブ25は、第1のバルブ24の後段に位置する第1の液体材料供給ライン23に設けられている。第2のバルブ25は、制御部63と電気的に接続されている。
第1のベント用ライン27は、蓋体21Aと、第1の液体材料供給ライン23及び第1のベント用ライン27との接続部分をパージするためのラインである。第1のベント用ライン27は、第1の圧送ガス供給ライン35と接続されている。
これにより、第1のベント用ライン27と第1の圧送ガス供給ライン35との接続位置と蓋体21Aとの間に位置する第1のベント用ライン27は、液体材料貯蔵容器21内に圧送ガスを供給する圧送ガス供給ラインとして機能する。
これにより、第1のベント用ライン27と第1の圧送ガス供給ライン35との接続位置と蓋体21Aとの間に位置する第1のベント用ライン27は、液体材料貯蔵容器21内に圧送ガスを供給する圧送ガス供給ラインとして機能する。
第1のベント用ライン27は、その一端27Aが蓋体23Aに設けられた第1の貫通部(図示せず)に装着されており、他端27Bが制御部63と電気的に接続された第1の排気設備13と接続されている。第1のベント用ライン27の一端27Aは、液体材料貯蔵容器21内に充填された液体材料Aの液面a1よりも上方に配置されている。
このように、液体材料Aの液面a1よりも上方に、第1のベント用ライン27の一端27Aを配置させることにより、圧送ガスが液体材料A内に供給されることを抑制可能となる。このため、気体(ガス)を含んだ液体材料Aがバッファタンク42に供給されることを抑制できる。
第3のバルブ31は、第1の圧送ガス供給ライン35と第1のベント用ライン27との接続位置と蓋体21Aとの間に位置する第1のベント用ライン27に設けられている。第3のバルブ31は、制御部63と電気的に接続されている。
第4のバルブ32は、第1の圧送ガス供給ライン35と第1のベント用ライン27との接続位置と第1の排気設備13との間に位置する第1のベント用ライン27に設けられている。第4のバルブ32は、制御部63と電気的に接続されている。
第4のバルブ32は、第1の圧送ガス供給ライン35と第1のベント用ライン27との接続位置と第1の排気設備13との間に位置する第1のベント用ライン27に設けられている。第4のバルブ32は、制御部63と電気的に接続されている。
第1の圧送ガス供給ライン35は、その一端35Aが第1及び第2のバルブ24,25間に位置する第1の液体材料供給ライン23と接続されており、他端35Bが制御部63と電気的に接続された第1の圧送ガス供給源12と接続されている。
また、一端35Aと他端35Bとの間に位置する第1の圧送ガス供給ライン35は、第1のベント用ライン27と接続されている。
第1の圧送ガス供給ライン35は、液体材料貯蔵容器21に充填された液体材料Aの液面a1と蓋体21Aとの間に位置する液体材料貯蔵容器21内の空間(言い換えれば、気相)に、第1の圧送ガス供給源12から供給された圧送ガスを供給する。
また、一端35Aと他端35Bとの間に位置する第1の圧送ガス供給ライン35は、第1のベント用ライン27と接続されている。
第1の圧送ガス供給ライン35は、液体材料貯蔵容器21に充填された液体材料Aの液面a1と蓋体21Aとの間に位置する液体材料貯蔵容器21内の空間(言い換えれば、気相)に、第1の圧送ガス供給源12から供給された圧送ガスを供給する。
上記圧送ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン等の希ガスを用いることが可能であるが、使用する液体材料Aと反応しないガスであれば希ガスに限定されることなく、様々なガスを使用できる。
なお、図示していないが、第1の圧送ガス供給ライン35に圧送ガスの流量を測定する気体用流量計を設けてもよい。該気体用流量計としては、気密性の高い流量計を用いるとよい。該気体用流量計としては、市販されている浮き子式流量計や気体用マスフローメーター等を用いることができる。
第5のバルブ37は、第1のベント用ライン27と第1の圧送ガス供給ライン35との接続位置と第1の圧送ガス供給源12との間に位置する第1の圧送ガス供給ライン35に設けられている。第5のバルブ37は、制御部63と電気的に接続されている。
第6のバルブ38は、第1のベント用ライン27と第1の圧送ガス供給ライン35との接続位置と、第1の液体材料供給ライン23と第1の圧送ガス供給ライン35との接続位置と、の間に位置する第1の圧送ガス供給ライン35に設けられている。第6のバルブ38は、制御部63と電気的に接続されている。
第6のバルブ38は、第1のベント用ライン27と第1の圧送ガス供給ライン35との接続位置と、第1の液体材料供給ライン23と第1の圧送ガス供給ライン35との接続位置と、の間に位置する第1の圧送ガス供給ライン35に設けられている。第6のバルブ38は、制御部63と電気的に接続されている。
バッファタンク42は、液体材料貯蔵容器21と使用先11との間に配置されている。バッファタンク42は、第1の液体材料供給ライン23を介して、液体材料貯蔵容器21と接続されている。バッファタンク42内には、第1の液体材料供給ライン23を介して、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが供給される。
バッファタンク42は、第2の液体材料供給ライン44を介して、使用先11と接続されている。バッファタンク42は、第2の液体材料供給ライン44を介して、使用先11に液体材料Aを供給する。
バッファタンク42は、第2の液体材料供給ライン44を介して、使用先11と接続されている。バッファタンク42は、第2の液体材料供給ライン44を介して、使用先11に液体材料Aを供給する。
バッファタンク42の材質としては、充填する液体材料Aと反応せず、かつ気密性を保てる材質であればよい。具体的なバッファタンク42の材質としては、例えば、ステンレスやテフロン(登録商標)等を用いることができる。
バッファタンク42の容量は、使用量に応じた液体材料を貯蔵できる容量であればよく、例えば、数十〜数千cm3とすることができる。
バッファタンク42の容量は、使用量に応じた液体材料を貯蔵できる容量であればよく、例えば、数十〜数千cm3とすることができる。
ところで、第2の液体材料供給ライン44には、制御部63と電気的に接続され、かつ第2の液体材料供給ライン44から供給された液体材料Aの流量を測定する液体流量計(図示せず)が設けられている。
このように、第2の液体材料供給ライン44に液体流量計を設けることで、バッファタンク42から使用先11に供給した液体材料Aの量を検知することが可能となる。これにより、使用先11への供給量に応じた液体材料Aを、液体材料貯蔵容器21からバッファタンク42に供給することが可能となる。
このように、第2の液体材料供給ライン44に液体流量計を設けることで、バッファタンク42から使用先11に供給した液体材料Aの量を検知することが可能となる。これにより、使用先11への供給量に応じた液体材料Aを、液体材料貯蔵容器21からバッファタンク42に供給することが可能となる。
つまり、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aを直接使用先11に供給するのではなく、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aをバッファタンク42に貯めて、バッファタンク42から使用先11に液体材料Aを供給することにより、バッファタンク42内の液体材料Aが無くならないように、バッファタンク42内に液体材料貯蔵容器21に充填された液体材料Aを供給することが可能となる。
したがって、使用先11に液体材料Aを供給する際に、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったとしてもバッファタンク42内の液体材料Aが無くなることないので、使用先11への液体材料Aの供給不良(供給不足)に起因するプロセス不良(例えば、使用先11が成膜装置の場合、成膜不良)を抑制できる。
なお、第2の液体材料供給ライン44に上記液体流量計(図示せず)を設けることなく、バッファタンク42からの液体材料Aの供給量に連動させて、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aをバッファタンク42に供給させてもよい。
第7のバルブ43は、バッファタンク42の蓋体42Aと液体流量計61との間に位置する第1の液体材料供給ライン23に設けられている。第7のバルブ43は、制御部63と電気的に接続されている。
第2の液体材料供給ライン44は、バッファタンク42に充填された液体材料Aを使用先11に供給するためのラインである。第2の液体材料供給ライン44は、その一端44Aがバッファタンク42の底部に配置され、他端44Bが使用先11と接続されている。
第2の液体材料供給ライン44の一端44Aは、バッファタンク42の底面に対して近接して配置されている。
このように、バッファタンク42の底面に対して近接するように、第2の液体材料供給ライン44の一端44Aを配置することで、バッファタンク42に充填されたほとんどの液体材料Aを供給することが可能となる。
第2の液体材料供給ライン44の一端44Aは、バッファタンク42の底面に対して近接して配置されている。
このように、バッファタンク42の底面に対して近接するように、第2の液体材料供給ライン44の一端44Aを配置することで、バッファタンク42に充填されたほとんどの液体材料Aを供給することが可能となる。
第8のバルブ46は、バッファタンク42の外側で、かつ蓋体42Aの近傍に位置する第2の液体材料供給ライン44に設けられている。第8のバルブ46は、制御部63と電気的に接続されている。
第9のバルブ47は、第8のバルブ46の後段に位置する第2の液体材料供給ライン44に設けられている。第9のバルブ47は、制御部63と電気的に接続されている。
第9のバルブ47は、第8のバルブ46の後段に位置する第2の液体材料供給ライン44に設けられている。第9のバルブ47は、制御部63と電気的に接続されている。
第2のベント用ライン49は、第2のベント用ライン49と第10のバルブ52との接続部分、及び第2の液体材料供給ライン44と第8のバルブ46との接続部分をパージするためのラインである。第2のベント用ライン49は、第2の圧送ガス供給ライン55と接続されている。
これにより、第2の圧送ガス供給ライン55の接続位置と蓋体42Aとの間に位置する第2のベント用ライン49は、バッファタンク42内に圧送ガスを供給する圧送ガス供給ラインとして機能する。
これにより、第2の圧送ガス供給ライン55の接続位置と蓋体42Aとの間に位置する第2のベント用ライン49は、バッファタンク42内に圧送ガスを供給する圧送ガス供給ラインとして機能する。
第2のベント用ライン49は、その一端49Aが蓋体42Aに設けられた第1の貫通部(図示せず)に装着されており、他端49Bが制御部63と電気的に接続された第2の排気設備16と接続されている。第2のベント用ライン49の一端49Aは、バッファタンク42内に充填された液体材料Aの液面a2よりも上方に配置されている。
このように、バッファタンク42内に充填された液体材料Aの液面a2よりも上方に、第2のベント用ライン49の一端49Aを配置させることにより、圧送ガスが液体材料A内に供給されることを抑制可能となる。このため、気体(ガス)を含んだ液体材料Aが使用先11に供給されることを抑制できる。
第10のバルブ52は、第2の圧送ガス供給ライン55と第2のベント用ライン49との接続位置と蓋体42Aとの間に位置する第2のベント用ライン49に設けられている。第10のバルブ52は、制御部63と電気的に接続されている。
第11のバルブ53は、第2の圧送ガス供給ライン55と第2のベント用ライン49との接続位置と第2の排気設備16との間に位置する第2のベント用ライン49に設けられている。第11のバルブ53は、制御部63と電気的に接続されている。
第11のバルブ53は、第2の圧送ガス供給ライン55と第2のベント用ライン49との接続位置と第2の排気設備16との間に位置する第2のベント用ライン49に設けられている。第11のバルブ53は、制御部63と電気的に接続されている。
第2の圧送ガス供給ライン55は、その一端55Aが第8及び第9のバルブ46,47間に位置する第2の液体材料供給ライン44と接続されており、他端55Bが制御部63と電気的に接続された第2の圧送ガス供給源15と接続されている。
また、一端55Aと他端55Bとの間に位置する第2の圧送ガス供給ライン55は、第2のベント用ライン49と接続されている。
第2の圧送ガス供給ライン55は、バッファタンク42に充填された液体材料Aの液面a2と蓋体42Aとの間に位置するバッファタンク42内の空間(言い換えれば、気相)に、第2の圧送ガス供給源15から供給された圧送ガスを供給する。
また、一端55Aと他端55Bとの間に位置する第2の圧送ガス供給ライン55は、第2のベント用ライン49と接続されている。
第2の圧送ガス供給ライン55は、バッファタンク42に充填された液体材料Aの液面a2と蓋体42Aとの間に位置するバッファタンク42内の空間(言い換えれば、気相)に、第2の圧送ガス供給源15から供給された圧送ガスを供給する。
上記圧送ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン等の希ガスを用いることが可能であるが、使用する液体材料Aと反応しないガスであれば希ガスに限定されることなく、様々なガスを使用できる。
液体流量計61は、第2のバルブ25と第7のバルブ43との間に位置する第1の液体材料供給ライン23に設けられている。
図1には、図示していないが、使用先11が成膜装置の場合、第2の液体材料供給ライン44には、使用先11の手前に配置された液体流量制御気化部、または液体流量計61と使用先11との間に配置された気化後流量制御部を設けるとよい。
図1には、図示していないが、使用先11が成膜装置の場合、第2の液体材料供給ライン44には、使用先11の手前に配置された液体流量制御気化部、または液体流量計61と使用先11との間に配置された気化後流量制御部を設けるとよい。
液体流量制御気化部(図示せず)を用いる場合、使用先11の直前で液体材料Aを加熱して気化させるため、液体材料Aの変質を抑制できる。
液体流量制御気化部(図示せず)に替えて気化後流量制御部(図示せず)を用いる場合、液体材料Aを気体として流量制御するため、液体流量制御気化部を用いた場合と比較して、気体とされた液体材料Aの流量制御を精度良く行うことができる。
液体流量制御気化部(図示せず)に替えて気化後流量制御部(図示せず)を用いる場合、液体材料Aを気体として流量制御するため、液体流量制御気化部を用いた場合と比較して、気体とされた液体材料Aの流量制御を精度良く行うことができる。
液体流量計61は、制御部63と電気的に接続されている。液体流量計61は、使用先11に液体材料Aを供給する際(例えば、使用先11が成膜装置の場合、成膜時)において、第1の液体材料供給ライン23を流れる流体(具体的には、液体である液体材料A、気体(ガス)を含む液体材料A、及び気体(ガス)のうちのいずれか)の流量を連続的に測定する。
液体流量計61は、測定した流体の流量に関するデータをリアルタイムで制御部63に送信する。
液体流量計61は、測定した流体の流量に関するデータをリアルタイムで制御部63に送信する。
ガス(気体)が含まれていない液体材料Aがバッファタンク42に供給されている場合、液体流量計61では、液体材料貯蔵容器21からバッファタンク42に供給された液体材料Aに応じた流量が計測される。この場合、液体材料Aの流量は、略一定である。このため、液体材料Aの流量の変動は、ほとんどない。
液体材料貯蔵容器21に充填された液体材料Aが少なくなり、液体材料貯蔵容器21内から気体(ガス)が含まれた液体材料Aが供給されると、液体流量計61では、該気体(ガス)が混入された液体材料Aの流量が計測される。
この場合、気体(ガス)が含まれた液体材料Aの流量は、気体の影響により、変動が大きくなる。このため、液体流量計61が測定する流体の流量の変動が大きくなった際、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知することができる。
この場合、気体(ガス)が含まれた液体材料Aの流量は、気体の影響により、変動が大きくなる。このため、液体流量計61が測定する流体の流量の変動が大きくなった際、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知することができる。
また、液体材料貯蔵容器21に充填された液体材料Aが無くなり、液体材料貯蔵容器21内から気体(ガス)が供給されると、液体流量計61では、該気体(ガス)の流量が計測される。
この場合、気体(ガス)の流量は、液体流量計61で測定することが困難なため、流量の変動はさらに大きくなる。このため、液体流量計61が測定する流体の流量の変動がさらに大きくなった際、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知することができる。
この場合、気体(ガス)の流量は、液体流量計61で測定することが困難なため、流量の変動はさらに大きくなる。このため、液体流量計61が測定する流体の流量の変動がさらに大きくなった際、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知することができる。
液体流量計61としては、気密性が高く、液体材料Aと接触する部分が液体材料Aに対する反応性の低い材質であることが好ましい。このような材質としては、例えば、SUSを用いることができる。液体流量計61としては、例えば、市販されている液体用マスフローメーターを使用することができる。
また、液体流量計61としては、流量情報或いは接点信号を電気信号として出力できるものが望ましい。
また、液体流量計61としては、流量情報或いは接点信号を電気信号として出力できるものが望ましい。
制御部63は、第1乃至第13のバルブ24,25,31,32,37,38,43,46,47,52,53,57,58、第1の圧送ガス供給源12、第2の圧送ガス供給源15、第1の排気設備13、及び第2の排気設備16を制御する。つまり、制御部63は、液体材料供給装置10の制御全般を行う。
制御部63は、使用先11と電気的に接続されている。制御部63は、検知部66を有する。検知部66は、液体流量計61から送信される流体の流量の変動が、予め制御部63に記憶された流量の閾値を越えるか、或いは、下回った際に、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知する。
また、予め設定した範囲を流体の変動が超えた際に、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知させてもよい。
上記閾値の他にも閾値を設定することで、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知することが可能となる。
上記閾値の他にも閾値を設定することで、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知することが可能となる。
制御部63は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知した際、及び液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知した際に、使用先11に液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aの残量に関するデータを送信する。
図2は、使用先のうち、操作パネル及びスピーカーが設けられた部分を拡大した図である。
図2を参照するに、使用先11は、操作パネル71及びスピーカー72を有する。操作パネル71としては、例えば、使用先11である半導体製造装置(具体的には、例えば、成膜装置)または分析装置の動作を制御するためのタッチパネルを用いることができる。
図2を参照するに、使用先11は、操作パネル71及びスピーカー72を有する。操作パネル71としては、例えば、使用先11である半導体製造装置(具体的には、例えば、成膜装置)または分析装置の動作を制御するためのタッチパネルを用いることができる。
図2に示すように、使用先11は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを制御部63が検知し、液体材料Aの有無に関するデータを受信した際、「液体材料貯蔵容器内の液体材料が無くなりました!」というメッセージを操作パネル71に表示する。このとき、スピーカー72からは、大きなアラーム音を流す。
これにより、作業者は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを認識することが可能となり、使用先11でのプロセスに悪影響を及ぼすことなく、液体材料貯蔵容器21を液体材料Aが充填された他の液体材料貯蔵容器と交換することができる。
なお、図2に図示してはいないが、使用先11は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを制御部63が検知し、液体材料Aの残量に関するデータを受信した際、「液体材料貯蔵容器内の液体材料が残り少なくなりました!」というメッセージを操作パネル71に表示する。
このとき、スピーカー72からは、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなった際に流すアラーム音とは異なるアラーム音を流す。
これにより、作業者は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少なくなったことを認識することが可能となるので、液体材料貯蔵容器21の交換の準備をすることができる。
これにより、作業者は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少なくなったことを認識することが可能となるので、液体材料貯蔵容器21の交換の準備をすることができる。
次に、図1に示す液体材料供給装置10を用いた本実施の形態の液体材料有無検知方法について説明する。
始めに、第4のバルブ32、第6のバルブ38、第11のバルブ53、及び第13のバルブ58を閉じ、第1のバルブ24、第2のバルブ25、第3のバルブ31、第5のバルブ37、第7のバルブ43、第8のバルブ46、第9のバルブ47、第10のバルブ52、及び第12のバルブ57を開ける。
始めに、第4のバルブ32、第6のバルブ38、第11のバルブ53、及び第13のバルブ58を閉じ、第1のバルブ24、第2のバルブ25、第3のバルブ31、第5のバルブ37、第7のバルブ43、第8のバルブ46、第9のバルブ47、第10のバルブ52、及び第12のバルブ57を開ける。
次いで、第1の圧送ガス供給ライン35、及び第1のベント用ライン27の一部を介して、液体材料貯蔵容器21内の気相に、第1の圧送ガス供給源12から所定の流量で圧送ガスを供給する。
これにより、液体材料貯蔵容器21内に存在する液体材料Aの液面a1が押圧され、第1の液体材料供給ライン23及び液体流量計61を介して、バッファタンク42に液体材料Aが供給される。
この状態(バッファタンク42に液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aを供給している状態)において、液体流量計61は、第1の液体材料供給ライン23を流れる流体(気体を含まない液体材料A、気体を含む液体材料A、気体のうちのいずれかの流体)の流量を連続的に測定(流量測定工程)すると共に、測定結果に関するデータをリアルタイムで制御部63に送信する。
この状態(バッファタンク42に液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aを供給している状態)において、液体流量計61は、第1の液体材料供給ライン23を流れる流体(気体を含まない液体材料A、気体を含む液体材料A、気体のうちのいずれかの流体)の流量を連続的に測定(流量測定工程)すると共に、測定結果に関するデータをリアルタイムで制御部63に送信する。
次いで、液体材料有無検知工程では、第1の液体材料供給ライン23を流れる流体の流量が予め設定した閾値を超えるか或いは下回った際、流体に気体が含まれると判定し、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知する。
このとき、先に説明したように、気体(ガス)が混入された液体材料Aの流量が、気体(ガス)が含まれていない液体材料Aの変動よりも大きくなることを利用して、液体材料Aが残り少ないことを検知する。
また、液体材料有無検知工程では、第1の液体材料供給ライン23を流れる流体の流量が予め設定した閾値(液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知するための閾値とは別の閾値)を超えるか或いは下回った際、流体が気体(ガス)であると判定し、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無いことを検知する。
具体的には、気体(ガス)のみの流量は、気体(ガス)が含まれている液体材料Aの変動よりも大きくなることを利用して、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知する。
なお、予め設定した範囲を流体の変動が超えた際に、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知させてもよい。
さらに、液体材料有無検知工程では、予め設定した閾値(この場合、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知するための閾値)に基づき、流体が液体であると判定された際、液体材料貯蔵容器21内に液体材料Aが十分有ることを検知する。
本実施の形態の液体材料有無検知方法によれば、使用先11に液体材料Aを供給時において、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aをバッファタンク42に供給する第1の液体材料供給ライン23に配置された液体流量計61を用いて、第1の液体材料供給ライン23を流れる流体の流量を連続的に測定する流量測定工程と、液体流量計61が測定する流体の流量の変動に基づき、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aの有無を検知する液体材料有無検知工程と、を有することにより、液体材料Aの粘性に依存することなく、流体の流量の変動が大きくなった際(流体が気体の場合)、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知することが可能になると共に、流体の流量の変動が安定し、流体の流量の変動が小さい場合(流体が気体を含まない液体材料Aの場合)、液体材料貯蔵容器21内に液体材料Aが有ることを検知することが可能となる。
これにより、液体材料Aの粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器21内に貯蔵された液体材料Aの有無を確実に検知することができる。
これにより、液体材料Aの粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器21内に貯蔵された液体材料Aの有無を確実に検知することができる。
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
(実施例1)
図1に示す装置を用いて、実施例1の液体材料有無検知方法を行い、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aがほとんど無くなったことを検知可能か否かの確認実験を行った。
使用先11としては、プラズマCVD装置を用いた。また、該プラズマCVD装置と第9のバルブ47との間に位置する第2の液体材料供給ライン44に、気化器及び気体用マスフローコントローラー(共に図1に図示せず)を配置した。
また、第2の液体材料供給ライン44上で、気化器及び気体用マスフローコントローラーの配設位置よりも前段に位置する部分に、液体用マスフローコントローラー(図示せず)を設けた。
図1に示す装置を用いて、実施例1の液体材料有無検知方法を行い、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aがほとんど無くなったことを検知可能か否かの確認実験を行った。
使用先11としては、プラズマCVD装置を用いた。また、該プラズマCVD装置と第9のバルブ47との間に位置する第2の液体材料供給ライン44に、気化器及び気体用マスフローコントローラー(共に図1に図示せず)を配置した。
また、第2の液体材料供給ライン44上で、気化器及び気体用マスフローコントローラーの配設位置よりも前段に位置する部分に、液体用マスフローコントローラー(図示せず)を設けた。
始めに、液体材料貯蔵容器21(容積1500cm3)内に、液体材料AとしてSi(OC2H5)4(=TEOS)を500g充填した。また、バッファタンク42(容積1500cm3)内に、液体材料AとしてSi(OC2H5)4(=TEOS)を500g充填した。つまり、液体材料貯蔵容器21及びバッファタンク42に、十分な量のTEOSを充填した。
また、気体用マスフローコントローラーがプラズマCVD装置に供給するTEOSの供給量を0.5g/minに設定し、プラズマCVD装置を用いて半導体基板上にシリコン酸化膜(SiO2膜)を成膜した。このとき、圧送ガスとしては、ヘリウム(He)を用いた。
液体材料貯蔵容器21及びバッファタンク42からTEOSを供給して、シリコン酸化膜の成膜を開始したところ、液体流量計61が示す流体の流量は、液体用マスフローコントローラーが示す流体の流量と一致していた。このことから、バッファタンク42内から使用先11に気体(ガス)が含まれていないTEOSが供給されていることが確認できた。
液体材料貯蔵容器21及びバッファタンク42からのTEOSの供給を継続して、シリコン酸化膜の成膜を継続させたところ、液体用マスフローコントローラーの指示値が0.5g/minのままであったにも関わらず、液体流量計61の指示値が0〜2.0g/minの間で変動するようになった。
ここで、第7のバルブ43を閉じて、第10のバルブ52及び第12のバルブ57を開き、第2の圧送ガス供給ライン55を介して、バッファタンク42内の気相に圧送ガス(ヘリウム(He))を供給し、液体材料A(TEOS)の液面a2を押圧することで、第2の液体材料供給ライン44を介して、プラズマCVD装置に液体材料A(TEOS)を供給して、成膜プロセスを継続させた。
並行して、第1及び第3のバルブ24,31を閉じ、第1のベントライン27を用いて、第1の液体材料供給ライン23をパージし、液体材料貯蔵容器21の交換を行った。
次いで、取り外した液体材料貯蔵容器21の重量計測を行った結果、液体材料貯蔵容器21内のTEOSが残り少ないことが確認できた。
その後、十分な量のTEOSが充填された液体材料貯蔵容器21を取り付け、接続部分のパージを十分に行った。
次いで、取り外した液体材料貯蔵容器21の重量計測を行った結果、液体材料貯蔵容器21内のTEOSが残り少ないことが確認できた。
その後、十分な量のTEOSが充填された液体材料貯蔵容器21を取り付け、接続部分のパージを十分に行った。
次いで、成膜プロセスが中断している間に、液体材料貯蔵容器21からバッファタンク42にTEOSを供給できる状態とした。具体的には、液体材料貯蔵容器21内及びバッファタンク42内の圧力調整を行った後、第1のバルブ24、第2のバルブ25、第7のバルブ43を開けた。
この状態で、交換した液体材料貯蔵容器21、及び、バッファタンク42からTEOSを再び供給したところ、液体流量計61が示す流体の流量の指示値が液体用マスフローコントローラーの指示値に追従していることが確認できた。
この状態で、交換した液体材料貯蔵容器21、及び、バッファタンク42からTEOSを再び供給したところ、液体流量計61が示す流体の流量の指示値が液体用マスフローコントローラーの指示値に追従していることが確認できた。
(実施例2)
図1に示す装置を用いて、実施例2の液体材料有無検知方法を行い、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aがほとんど無くなったことを検知可能か否かの確認実験を行った。
使用先11としては、熱CVD装置を用いた。また、該熱CVD装置と第9のバルブ47との間に位置する第2の液体材料供給ライン44に、気化器及び気体用マスフローコントローラー(共に図1に図示せず)を配置した。
また、第2の液体材料供給ライン44上で、気化器及び気体用マスフローコントローラーの配設位置よりも前段に位置する部分に、液体用マスフローコントローラー(図示せず)を設けた。
図1に示す装置を用いて、実施例2の液体材料有無検知方法を行い、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aがほとんど無くなったことを検知可能か否かの確認実験を行った。
使用先11としては、熱CVD装置を用いた。また、該熱CVD装置と第9のバルブ47との間に位置する第2の液体材料供給ライン44に、気化器及び気体用マスフローコントローラー(共に図1に図示せず)を配置した。
また、第2の液体材料供給ライン44上で、気化器及び気体用マスフローコントローラーの配設位置よりも前段に位置する部分に、液体用マスフローコントローラー(図示せず)を設けた。
始めに、液体材料貯蔵容器21(容積1500cm3)内に、液体材料AとしてSiH(N(CH3)2)3(=3DMAS)を500g充填した。また、バッファタンク42(容積1500cm3)内に、液体材料AとしてSiH(N(CH3)2)3(=3DMAS)を500g充填した。つまり、液体材料貯蔵容器21及びバッファタンク42に、十分な量の3DMASを充填した。
気体用マスフローコントローラーが熱CVD装置に供給する3DMASの供給量を0.2g/minに設定し、熱CVD装置を用いて半導体基板上にシリコン酸化膜(SiO2膜)を成膜した。このとき、圧送ガスとしては、窒素(N2)を用いた。
気体用マスフローコントローラーが熱CVD装置に供給する3DMASの供給量を0.2g/minに設定し、熱CVD装置を用いて半導体基板上にシリコン酸化膜(SiO2膜)を成膜した。このとき、圧送ガスとしては、窒素(N2)を用いた。
液体材料貯蔵容器21及びバッファタンク42から3DMASを供給して、シリコン酸化膜の成膜を開始したところ、液体流量計61が示す流体の流量は、液体用マスフローコントローラーが示す流体の流量と一致していた。このことから、バッファタンク42内から使用先11に気体(ガス)が含まれていない3DMASが供給されていることが確認できた。
液体材料貯蔵容器21及びバッファタンク42からの3DMASの供給を継続して、シリコン酸化膜の成膜を継続させたところ、液体用マスフローコントローラーの指示値が0.2g/minのままであったにも関わらず、液体流量計61の指示値が0〜1.5g/minの間で変動するようになった。
ここで、第7のバルブ43を閉じて、第10のバルブ52及び第12のバルブ57を開き、第2の圧送ガス供給ライン55を介して、バッファタンク42内の気相に圧送ガス(ヘリウム(He))を供給し、液体材料A(3DMAS)の液面a2を押圧することで、第2の液体材料供給ライン44を介して、熱CVD装置に液体材料A(3DMAS)を供給して、成膜プロセスを継続させた。
並行して、第1及び第3のバルブ24,31を閉じ、第1のベントライン27を用いて、第1の液体材料供給ライン23をパージし、液体材料貯蔵容器21の交換を行った。
次いで、取り外した液体材料貯蔵容器21の重量計測を行った結果、液体材料貯蔵容器21内の3DMASが残り少ないことが確認できた。
次いで、取り外した液体材料貯蔵容器21の重量計測を行った結果、液体材料貯蔵容器21内の3DMASが残り少ないことが確認できた。
本発明は、液体材料の粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器内に貯蔵された液体材料の有無を確実に検知可能で、かつ使用先への液体材料の供給不良(供給不足)に起因するプロセス不良を抑制可能な液体材料有無検知方法に適用できる。
10…液体材料供給装置、11…使用先、12…第1の圧送ガス供給源、13…第1の排気設備、15…第2の圧送ガス供給源、16…第2の排気設備、17…液体材料有無検知装置、21…液体材料貯蔵容器、21A,42A…蓋体、23…第1の液体材料供給ライン、23A,27A,35A,44A,49A,55A…一端、23B,27B,35B,44B,49B,55B…他端、24…第1のバルブ、25…第2のバルブ、27…第1のベント用ライン、31…第3のバルブ、32…第4のバルブ、35…第1の圧送ガス供給ライン、37…第5のバルブ、38…第6のバルブ、42…バッファタンク、43…第7のバルブ、44…第2の液体材料供給ライン、46…第8のバルブ、47…第9のバルブ、49…第2のベント用ライン、52…第10のバルブ、53…第11のバルブ、55…第2の圧送ガス供給ライン、57…第12のバルブ、58…第13のバルブ、61…液体流量計、63…制御部、66…検知部、71…操作パネル、72…スピーカー、A…液体材料、a1,a2…液面
Claims (5)
- バッファタンクを介して、液体材料貯蔵容器に充填された液体材料を使用先に供給する際、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料の有無を検知する液体材料有無検知方法であって、
前記使用先に前記液体材料を供給時において、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料を前記バッファタンクに供給する液体材料供給ラインに配置された液体流量計を用いて、前記液体材料供給ラインを流れる流体の流量を連続的に測定する流量測定工程と、
前記液体流量計が測定する前記流体の流量に基づき、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料の有無を検知する液体材料有無検知工程と、
を含むことを特徴とする液体材料有無検知方法。 - 前記液体材料有無検知工程では、前記流体の流量の変動の大きさに基づき、前記流体が気体であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料が無くなったことを検知し、前記流体が前記気体を含まない前記液体材料であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内に前記液体材料が有ることを検知することを特徴とする請求項1記載の液体材料有無検知方法。
- 前記液体材料有無検知工程では、前記流体の流量の変動の大きさに基づき、前記流体が気体を含む前記液体材料であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料が残り少ないことを検知することを特徴とする請求項1または2記載の液体材料有無検知方法。
- 前記使用先として、成膜装置または分析装置を用いることを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の液体材料有無検知方法。
- 前記液体材料として、前記成膜装置が使用する成膜材料を用いることを特徴とする請求項4記載の液体材料有無検知方法。
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