JP2014006150A - 液体材料有無検知方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、液体材料貯蔵容器内に貯蔵された液体材料の有無を確実に検知可能な液体材料有無検知方法を提供することを目的とする。
【解決手段】使用先11に液体材料Aを供給時において、液体流量計41を用いて、液体材料供給ライン23を流れる流体の流量を連続的に測定する流量測定工程と、液体流量計41が測定する流体の流量に基づき、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aの有無を検知する液体材料有無検知工程と、を含む。
【選択図】図1
【解決手段】使用先11に液体材料Aを供給時において、液体流量計41を用いて、液体材料供給ライン23を流れる流体の流量を連続的に測定する流量測定工程と、液体流量計41が測定する流体の流量に基づき、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aの有無を検知する液体材料有無検知工程と、を含む。
【選択図】図1
Description
本発明は、液体材料供給ラインを介して、使用先に液体材料を供給する液体材料貯蔵容器内の液体材料の有無を検知する液体材料有無検知方法に関する。
半導体集積デバイスや液晶パネル等の電子デバイスを製造するためには、基板上に様々な材質の膜を成膜する必要がある。
このような膜の成膜方法としては、例えば、PVD法(物理気相成長法)やCVD法(化学気相成長法)等が広く知られている。
このような膜の成膜方法としては、例えば、PVD法(物理気相成長法)やCVD法(化学気相成長法)等が広く知られている。
CVD法を用いた成膜プロセスでは、Si(OC2H5)4(=テオス(TEOS))、TiCl4(=四塩化チタン)、SiH(N(CH3)2)3(=トリスジメチルアミノシラン(3DMAS))、Ga(CH3)3(=トリメチルガリウム)等を始めとする様々な液体材料が使用される。
上記液体材料の供給方法としては、例えば、液体材料を充填した液体材料貯蔵容器の液相側から搬送ガスである不活性ガス(窒素やヘリウム等)を供給して液体材料中を通す、すなわちバブリングすることによって、蒸気圧相当の気相成分を搬送ガスと共にチャンバに供給する方法が古くから行われている。
他の液体材料の供給方法としては、液体材料貯蔵容器の気相側から圧送ガス(例えば、窒素やヘリウム等の不活性ガス)を導入し、液体材料貯蔵容器内を加圧状態として、液相側から液体の状態で液体材料を圧送する方法がある。上記液体の状態で液体材料を圧送する方法としては、大きく分けて2つの方法がある。
1つの方法としては、液相側から圧送した液体材料を液体用マスフローコントローラーで液体として流量制御し、その下流側で気化器等によって気化させながら供給する方法(以下、「液体流量制御気化方法」という)である。
もう1つの方法としては、液体材料を気化させてから気体用マスフローコントローラーで気体として流量制御しながら供給する方法(以下、「気化後流量制御方法」という)である。
もう1つの方法としては、液体材料を気化させてから気体用マスフローコントローラーで気体として流量制御しながら供給する方法(以下、「気化後流量制御方法」という)である。
液体流量制御気化方法は、現在最も一般的な液体材料供給方法である。この方法では、使用先に供給される直前まで高温に晒されることがないため、気化後流量制御方式と比較して、液体材料の変質が抑制される。
一方、気化後流量制御方法は、気化器の下流側に配置された気体用マスフローコントローラーにより、液体材料を気体として流量制御するため、液体流量制御気化方法と比較して材料の流量の制御精度に優れている。
一方、気化後流量制御方法は、気化器の下流側に配置された気体用マスフローコントローラーにより、液体材料を気体として流量制御するため、液体流量制御気化方法と比較して材料の流量の制御精度に優れている。
上記説明した液体流量制御気化方法、及び気化後流量制御方法のどちらの方法を使用する場合でも、液体材料を使用する使用先が、例えば、半導体製造装置(例えば、成膜装置)である場合、液体材料が無くなると、プロセス不良が発生するため、液体材料貯蔵容器内の液体材料の有無を検知することは重要である。
そのため、従来、液体材料貯蔵容器の残量を検知する方法が広く検討されている。
特許文献1には、容器内部にセンサプローブを挿入して液面レベルを検知する方法が開示されている。
また、特許文献2には、容器の内部及び外部に電極を設け、液体充填量とキャパシタンスの関係から液残量を検知する方法が開示されている。
特許文献1には、容器内部にセンサプローブを挿入して液面レベルを検知する方法が開示されている。
また、特許文献2には、容器の内部及び外部に電極を設け、液体充填量とキャパシタンスの関係から液残量を検知する方法が開示されている。
しかし、特許文献1,2の方法では、容器内部の液体材料にセンサプローブ或いは電極を接触させるため、液体材料の物性によってはセンサプローブ及び電極の劣化が早くなる恐れがあった。
上記特許文献1,2の問題を解決可能な方法として、特許文献3には、液体材料貯蔵容器に対向式の窓を設け、光学式に液面を検知する方法が開示されている。
具体的には、特許文献3には、一方の窓の外側に投光器を設け、容器反対側の窓の外側に設けた受光器で、投光器から放出された光の強度を検知する構成が開示されている。
また、特許文献3の方法では、光が通過する間に液体が存在するかどうかで受光強度が異なることを利用している。
具体的には、特許文献3には、一方の窓の外側に投光器を設け、容器反対側の窓の外側に設けた受光器で、投光器から放出された光の強度を検知する構成が開示されている。
また、特許文献3の方法では、光が通過する間に液体が存在するかどうかで受光強度が異なることを利用している。
しかしながら、特許文献3の方法では、粘性の高い液体材料を液体材料貯蔵容器に充填し、液体材料貯蔵容器から使用先に液体材料を供給した場合、液体材料の液面が窓位置よりも低くなっていても、窓表面に液体材料が付着する場合があるため、液体材料の検知不良を起こす恐れがあった。
そこで、本発明は、液体材料の粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器内に貯蔵された液体材料の有無を確実に検知可能な液体材料有無検知方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、請求項1に係る発明によれば、圧送ガスが供給された際、液体材料供給ラインを介して、使用先に液体材料を供給する液体材料貯蔵容器内に貯蔵された前記液体材料の有無を検知する液体材料有無検知方法であって、前記使用先に前記液体材料を供給時において、液体流量計を用いて、前記液体材料供給ラインを流れる流体の流量を連続的に測定する流量測定工程と、前記液体流量計が測定する前記流体の流量に基づき、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料の有無を検知する液体材料有無検知工程と、を含むことを特徴とする液体材料有無検知方法が提供される。
また、請求項2に係る発明によれば、前記液体材料有無検知工程では、前記流体の流量の変動の大きさに基づき、前記流体が気体であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料が無くなったことを検知し、前記流体が前記気体を含まない前記液体材料であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内に前記液体材料が有ることを検知することを特徴とする請求項1記載の液体材料有無検知方法が提供される。
また、請求項3に係る発明によれば、前記液体材料有無検知工程では、前記流体の流量の変動の大きさに基づき、前記流体が気体を含む前記液体材料であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料が残り少ないことを検知することを特徴とする請求項1または2記載の液体材料有無検知方法が提供される。
また、請求項4に係る発明によれば、前記使用先として、成膜装置または分析装置を用いることを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の液体材料有無検知方法が提供される。
また、請求項5に係る発明によれば、前記液体材料として、前記成膜装置が使用する成膜材料を用いることを特徴とする請求項4記載の液体材料有無検知方法が提供される。
本発明の液体材料有無検知方法によれば、使用先に液体材料を供給時において、液体流量計を用いて、液体材料供給ラインを流れる流体の流量を連続的に測定することにより、該流体の流量の変動に基づいて、流体が気体であると判定された際、液体材料貯蔵容器内の液体材料が無くなったことを検知することが可能になると共に、流体が気体を含まない液体材料であると判定された際、液体材料貯蔵容器内に液体材料が有ることを検知することが可能となる。
これにより、液体材料の粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器内に貯蔵された液体材料の有無を確実に検知することができる。
これにより、液体材料の粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器内に貯蔵された液体材料の有無を確実に検知することができる。
以下、図面を参照して本発明を適用した実施の形態について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、本発明の実施形態の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の液体材料供給装置の寸法関係とは異なる場合がある。
(実施の形態)
図1は、本発明の実施の形態に係る液体材料有無検知方法を実施する際に使用する液体材料供給装置の概略構成を示す図である。
図1は、本発明の実施の形態に係る液体材料有無検知方法を実施する際に使用する液体材料供給装置の概略構成を示す図である。
ここで、本実施の形態に係る液体材料有無検知方法を説明する前に、本実施の形態に係る液体材料有無検知方法を実施する際に使用する液体材料供給装置10の構成について説明する。
図1を参照するに、液体材料供給装置10は、液体材料有無検知装置を含んでおり、液体材料貯蔵容器21と、液体材料供給ライン23と、第1乃至第6のバルブ24,25,31,32,37,38と、ベント用ライン27と、圧送ガス供給ライン35と、液体流量計41と、制御部43と、を有する。液体材料有無検知装置は、液体流量計41と、制御部43と、を有する。
液体材料貯蔵容器21は、液体材料Aが充填された容器である。液体材料貯蔵容器21は、蓋体21Aと、第1及び第2の貫通部(共に図示せず)と、を有する。
該第1及び第2の貫通部は、蓋体21Aを貫通している。第1の貫通部には、ベント用ライン27の一端27Aが装着されている。第2の貫通部は、液体材料供給ライン23の一部が装着されている。
該第1及び第2の貫通部は、蓋体21Aを貫通している。第1の貫通部には、ベント用ライン27の一端27Aが装着されている。第2の貫通部は、液体材料供給ライン23の一部が装着されている。
液体材料貯蔵容器21は、液体材料供給ライン23を介して、使用先11に液体材料Aを供給可能な状態で、使用先11と接続されている。使用先11としては、例えば、半導体製造装置(例えば、成膜装置(例えば、PVD装置やCVD装置等))や分析装置(例えば、FT−IR)等を用いることができる。
使用先11としてCVD装置を用いた場合、液体材料貯蔵容器21内に貯蔵される液体材料Aとしては、例えば、Si(OC2H5)4(=テオス(TEOS))、TiCl4(=四塩化チタン)、SiH(N(CH3)2)3(=トリスジメチルアミノシラン(3DMAS))、Ga(CH3)3(=トリメチルガリウム)等を用いることができる。これらの液体材料Aは、大気中に存在する酸素や水分と反応しやすい性質を有する。
液体材料Aとして、上記材料のように、大気中に存在する酸素や水分と反応しやすい材料を用い、蓋体21Aに対して、液体材料供給ライン23の一端23A及びベント用ライン27を取り付けたり、取り外したりする場合、蓋体21Aと液体材料供給ライン23及びベント用ライン27との接続部分を十分にパージする必要ある。
液体材料貯蔵容器21の材質としては、充填する液体材料と反応せず、かつ気密性を保てる材質であればよい。具体的な液体材料貯蔵容器21の材質としては、例えば、ステンレスやテフロン(登録商標)などを用いることができる。液体材料貯蔵容器21の容量は、使用量に応じた液体材料を貯蔵できる容量であればよいが、例えば、数十〜数千cm3とすることができる。
液体材料供給ライン23は、その一端23Aが液体材料貯蔵容器21の底部に配置され、他端23Bが使用先11と接続されている。液体材料供給ライン23の一端23Aは、液体材料貯蔵容器21の底面に対して近接して配置されている。
このように、液体材料貯蔵容器21の底面に対して近接するように、液体材料供給ライン23の一端23Aを配置することで、液体材料貯蔵容器21に充填されたほとんどの液体材料Aを供給することが可能となる。
このように、液体材料貯蔵容器21の底面に対して近接するように、液体材料供給ライン23の一端23Aを配置することで、液体材料貯蔵容器21に充填されたほとんどの液体材料Aを供給することが可能となる。
液体材料貯蔵容器21内に十分な量の液体材料Aが存在する場合、液体材料供給ライン23は、液体流量計41に気体(ガス)を含まない液体材料Aを供給する。また、液体材料貯蔵容器21内に残存する液体材料Aが少なくなって、液体材料Aに気体(ガス)が含まれる段階(液体材料Aが無くなる手前の段階)では、液体材料供給ライン23は、液体流量計41に気体(ガス)が含まれた液体材料Aを供給する。
さらに、液体材料貯蔵容器21内に液体材料Aが無くなると、液体材料供給ライン23は、液体流量計41に気体(ガス)を供給する。
さらに、液体材料貯蔵容器21内に液体材料Aが無くなると、液体材料供給ライン23は、液体流量計41に気体(ガス)を供給する。
なお、図1には、図示していないが、使用先11が成膜装置の場合、液体材料供給ライン23には、使用先11の前段に配置された液体流量制御気化部、または液体流量計41と使用先11との間に配置された気化後流量制御部を設けるとよい。
液体流量制御気化部(図示せず)を用いる場合、使用先11の直前で液体材料Aを加熱して気化させるため、液体材料Aの変質を抑制できる。
液体流量制御気化部(図示せず)に替えて気化後流量制御部(図示せず)を用いる場合、液体材料Aを気体として流量制御するため、液体流量制御気化部を用いた場合と比較して、気体とされた液体材料Aの流量制御を精度良く行うことができる。
液体流量制御気化部(図示せず)に替えて気化後流量制御部(図示せず)を用いる場合、液体材料Aを気体として流量制御するため、液体流量制御気化部を用いた場合と比較して、気体とされた液体材料Aの流量制御を精度良く行うことができる。
第1のバルブ24は、液体材料貯蔵容器21の外側で、かつ蓋体21Aの近傍に位置する液体材料供給ライン23に設けられている。第1のバルブ24は、制御部43と電気的に接続されている。
第2のバルブ25は、第1のバルブ24の後段に位置する液体材料供給ライン23に設けられている。第2のバルブ25は、制御部43と電気的に接続されている。
第2のバルブ25は、第1のバルブ24の後段に位置する液体材料供給ライン23に設けられている。第2のバルブ25は、制御部43と電気的に接続されている。
ベント用ライン27は、蓋体21Aと液体材料供給ライン23及びベント用ライン27との接続部分をパージするためのラインである。ベント用ライン27は、圧送ガス供給ライン35と接続されている。これにより、圧送ガス供給ライン35の接続位置と蓋体21Aとの間に位置するベント用ライン27は、液体材料貯蔵容器21内に圧送ガスを供給する圧送ガス供給ラインとして機能する。
ベント用ライン27は、その一端27Aが蓋体23Aに設けられた第1の貫通部(図示せず)に装着されており、他端27Bが制御部43と電気的に接続された排気設備13と接続されている。ベント用ライン27の一端27Aは、液体材料Aの液面aよりも上方に配置されている。
このように、液体材料Aの液面aよりも上方に、ベント用ライン27の一端27Aを配置させることにより、圧送ガスが液体材料Aに供給されることを抑制可能となるため、気泡(気体)を含んだ液体材料Aが使用先11に供給されることを抑制できる。
このように、液体材料Aの液面aよりも上方に、ベント用ライン27の一端27Aを配置させることにより、圧送ガスが液体材料Aに供給されることを抑制可能となるため、気泡(気体)を含んだ液体材料Aが使用先11に供給されることを抑制できる。
第3のバルブ31は、圧送ガス供給ライン35とベント用ライン27との接続位置と蓋体21Aとの間に位置するベント用ライン27に設けられている。第3のバルブ31は、制御部43と電気的に接続されている。
第4のバルブ32は、圧送ガス供給ライン35とベント用ライン27との接続位置と排気設備13との間に位置するベント用ライン27に設けられている。第4のバルブ32は、制御部43と電気的に接続されている。
第4のバルブ32は、圧送ガス供給ライン35とベント用ライン27との接続位置と排気設備13との間に位置するベント用ライン27に設けられている。第4のバルブ32は、制御部43と電気的に接続されている。
圧送ガス供給ライン35は、その一端35Aが第1及び第2のバルブ24,25間に位置する液体材料供給ライン23と接続されており、他端35Bが制御部43と電気的に接続された圧送ガス供給源12と接続されている。
また、一端35Aと他端35Bとの間に位置する圧送ガス供給ライン35は、ベント用ライン27と接続されている。
圧送ガス供給ライン35は、液体材料Aの液面aと蓋体21Aとの間に位置する液体材料貯蔵容器21内の空間(言い換えれば、気相)に、圧送ガス供給源12から供給された圧送ガスを供給する。
また、一端35Aと他端35Bとの間に位置する圧送ガス供給ライン35は、ベント用ライン27と接続されている。
圧送ガス供給ライン35は、液体材料Aの液面aと蓋体21Aとの間に位置する液体材料貯蔵容器21内の空間(言い換えれば、気相)に、圧送ガス供給源12から供給された圧送ガスを供給する。
上記圧送ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン等の希ガスを用いることが可能であるが、使用する液体材料Aと反応しないガスであれば希ガスに限定されることなく、様々なガスを使用できる。
なお、図示していないが、圧送ガス供給ライン35に圧送ガスの流量を測定する気体用流量計を設けてもよい。該気体用流量計としては、気密性の高い流量計を用いるとよい。該気体用流量計としては、市販されている浮き子式流量計や気体用マスフローメーター等を用いることができる。
第5のバルブ37は、ベント用ライン27と圧送ガス供給ライン35との接続位置と圧送ガス供給源12との間に位置する圧送ガス供給ライン35に設けられている。第5のバルブ37は、制御部43と電気的に接続されている。
第6のバルブ38は、ベント用ライン27と圧送ガス供給ライン35との接続位置と、液体材料供給ライン23と圧送ガス供給ライン35との接続位置と、の間に位置する圧送ガス供給ライン35に設けられている。第6のバルブ38は、制御部43と電気的に接続されている。
第6のバルブ38は、ベント用ライン27と圧送ガス供給ライン35との接続位置と、液体材料供給ライン23と圧送ガス供給ライン35との接続位置と、の間に位置する圧送ガス供給ライン35に設けられている。第6のバルブ38は、制御部43と電気的に接続されている。
液体流量計41は、第2のバルブ25と液体流量制御気化部または気化後流量制御部(共に図示せず)との間に位置する液体材料供給ライン23に設けられている。液体流量計41は、制御部43と電気的に接続されている。
液体流量計41は、使用先11に液体材料Aを供給時(言い換えれば、例えば、成膜時)において、液体材料供給ライン23を流れる流体(具体的には、液体である液体材料A、気体(ガス)を含む液体材料A、及び気体(ガス)のうちのいずれか)の流量を連続的に測定する。
液体流量計41は、測定した流体の流量に関するデータをリアルタイムで制御部43に送信する。
液体流量計41は、測定した流体の流量に関するデータをリアルタイムで制御部43に送信する。
正常に気体(ガス)が含まれていない液体材料Aが供給されている場合、液体流量計41では、使用先11で消費された液体材料Aの消費量に応じた流量が計測される。この場合、液体材料Aの流量は、略一定である。このため、液体材料Aの流量の変動は、ほとんどない。
液体材料貯蔵容器21に充填された液体材料Aが少なくなり、液体材料貯蔵容器21内から気体(ガス)が含まれた液体材料Aが供給されると、液体流量計41では、該気体(ガス)が混入された液体材料Aの流量が計測される。
この場合、気体(ガス)が含まれた液体材料Aの流量は、気体の影響により、変動が大きくなる。このため、液体流量計41が測定する流体の流量の変動が大きくなった際、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知することができる。
この場合、気体(ガス)が含まれた液体材料Aの流量は、気体の影響により、変動が大きくなる。このため、液体流量計41が測定する流体の流量の変動が大きくなった際、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知することができる。
また、液体材料貯蔵容器21に充填された液体材料Aが無くなり、液体材料貯蔵容器21内から気体(ガス)が供給されると、液体流量計41では、該気体(ガス)の流量が計測される。
この場合、気体(ガス)の流量は、液体流量計41で測定することが困難なため、流量の変動はさらに大きくなる。このため、液体流量計41が測定する流体の流量の変動がさらに大きくなった際、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知することができる。
この場合、気体(ガス)の流量は、液体流量計41で測定することが困難なため、流量の変動はさらに大きくなる。このため、液体流量計41が測定する流体の流量の変動がさらに大きくなった際、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知することができる。
液体流量計41としては、気密性が高く、液体材料Aと接触する部分が液体材料Aに対する反応性の低い材質であることが好ましい。このような材質としては、例えば、SUSを用いることができる。液体流量計41としては、市販されている液体用マスフローメーターを使用することができる。
また、液体流量計41としては、流量情報或いは接点信号を電気信号として出力できるものが望ましい。
また、液体流量計41としては、流量情報或いは接点信号を電気信号として出力できるものが望ましい。
制御部43は、第1乃至第6のバルブ24,25,31,32,37,38、圧送ガス供給源12、及び排気設備13を制御する。つまり、制御部43は、液体材料供給装置10の制御全般を行う。
制御部43は、使用先11と電気的に接続されている。制御部43は、検知部46を有する。検知部46は、液体流量計41から送信される流体の流量の変動が、予め制御部43に記憶された流量の閾値を越えるか、或いは、下回った際に、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知する。
また、予め設定した範囲を流体の変動が超えた際に、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知させてもよい。
上記閾値の他にも閾値を設定することで、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知することが可能となる。
上記閾値の他にも閾値を設定することで、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知することが可能となる。
制御部43は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知した際、及び液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知した際に、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aの残量に関するデータを送信する。
図2は、使用先のうち、操作パネル及びスピーカーが設けられた部分を拡大した図である。
図2を参照するに、使用先11は、操作パネル51及びスピーカー52を有する。操作パネル51としては、例えば、使用先11である半導体製造装置(例えば、成膜装置)または分析装置の動作を制御するためのタッチパネルを用いることができる。
図2を参照するに、使用先11は、操作パネル51及びスピーカー52を有する。操作パネル51としては、例えば、使用先11である半導体製造装置(例えば、成膜装置)または分析装置の動作を制御するためのタッチパネルを用いることができる。
図2に示すように、使用先11は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを制御部43が検知し、液体材料Aの有無に関するデータを受信した際、「液体材料貯蔵容器内の液体材料が無くなりました!」というメッセージを操作パネル51に表示する。このとき、スピーカー52からは、大きなアラーム音を流す。
これにより、作業者は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを認識することができる。
これにより、作業者は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを認識することができる。
なお、図2に図示してはいないが、使用先11は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを制御部43が検知し、液体材料Aの残量に関するデータを受信した際、「液体材料貯蔵容器内の液体材料が残り少なくなりました!」というメッセージを操作パネル51に表示する。
このとき、スピーカー52からは、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなった際に流すアラーム音とは異なるアラーム音を流す。
これにより、作業者は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少なくなったことを認識できる。
これにより、作業者は、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少なくなったことを認識できる。
次に、図1に示す液体材料供給装置10を用いた本実施の形態の液体材料有無検知方法について説明する。
始めに、第4のバルブ32及び第6のバルブ38を閉じ、第1のバルブ24、第2のバルブ25、第3のバルブ31、及び第5のバルブ37を開く。
次いで、圧送ガス供給ライン35、及びベント用ライン27の一部を介して、液体材料貯蔵容器21の気相に、圧送ガス供給源12から所定の流量で圧送ガスを供給する。
始めに、第4のバルブ32及び第6のバルブ38を閉じ、第1のバルブ24、第2のバルブ25、第3のバルブ31、及び第5のバルブ37を開く。
次いで、圧送ガス供給ライン35、及びベント用ライン27の一部を介して、液体材料貯蔵容器21の気相に、圧送ガス供給源12から所定の流量で圧送ガスを供給する。
これにより、液体材料Aの液面aが押圧され、液体材料供給ライン23を介して、液体流量計41に液体材料Aが供給される。
この状態(使用先11に液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aを供給している状態)において、液体流量計41は、液体材料供給ライン23を流れる流体(気体を含まない液体材料A、気体を含む液体材料A、気体のうちのいずれかの流体)の流量を連続的に測定(流量測定工程)すると共に、測定結果に関するデータをリアルタイムで制御部43に送信する。
この状態(使用先11に液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aを供給している状態)において、液体流量計41は、液体材料供給ライン23を流れる流体(気体を含まない液体材料A、気体を含む液体材料A、気体のうちのいずれかの流体)の流量を連続的に測定(流量測定工程)すると共に、測定結果に関するデータをリアルタイムで制御部43に送信する。
次いで、液体材料有無検知工程では、液体材料供給ライン23を流れる流体の流量が予め設定した閾値を超えるか或いは下回った際、流体に気体が含まれると判定し、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知する。
具体的には、先に説明したように、気体(ガス)が混入された液体材料Aの流量が、気体(ガス)が含まれていない液体材料Aの変動よりも大きくなることを利用して、液体材料Aが残り少ないことを検知する。
また、液体材料有無検知工程では、液体材料供給ライン23を流れる流体の流量が予め設定した閾値(液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知するための閾値とは別の閾値)を超えるか或いは下回った際、流体が気体(ガス)であると判定し、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無いことを検知する。
具体的には、気体(ガス)のみの流量は、気体(ガス)が含まれている液体材料Aの変動よりも大きくなることを利用して、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知する。
具体的には、気体(ガス)のみの流量は、気体(ガス)が含まれている液体材料Aの変動よりも大きくなることを利用して、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知する。
なお、予め設定した範囲を流体の変動が超えた際に、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知させてもよい。
さらに、液体材料有無検知工程では、予め設定した閾値(この場合、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが残り少ないことを検知するための閾値)に基づき、流体が液体であると判定された際、液体材料貯蔵容器21内に液体材料Aが十分有ることを検知する。
本実施の形態の液体材料有無検知方法によれば、使用先11に液体材料Aを供給時において、液体流量計41を用いて、液体材料供給ライン23を流れる流体の流量を連続的に測定する流量測定工程と、液体流量計41が測定する流体の流量の変動に基づき、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aの有無を検知する液体材料有無検知工程と、を有することにより、流体の流量の変動に基づいて、流体が気体であると判定された際、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知することが可能になると共に、流体が気体を含まない液体材料Aであると判定された際、液体材料貯蔵容器21内に液体材料Aが有ることを検知することが可能となる。
これにより、液体材料Aの粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器21内に貯蔵された液体材料Aの有無を確実に検知することができる。
これにより、液体材料Aの粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器21内に貯蔵された液体材料Aの有無を確実に検知することができる。
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
例えば、図1に示す液体材料供給装置10と使用先11との間に、液体流体制御気化部を設ける場合、液体流量計41、液体流量制御気化部を構成する液体流量制御器(図示せず)、液体流量制御気化部を構成する気化器(図示せず)という順番で配置されることになるため、液体流量計41に液体流量制御器の役割を持たせることで、構成機器を省略することができる。
(実施例)
図1に示す装置構成を用いて、実施例の液体材料有無検知方法を行い、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知可能か否かの確認実験を行った。
使用先11としては、フーリエ変換赤外分光光度計(以下、単に「FT−IR」という)を用いた。また、FT−IRと液体流量計41との間に、気化器及び気体用マスフローコントローラー(共に図1に図示せず)を配置した。
図1に示す装置構成を用いて、実施例の液体材料有無検知方法を行い、液体材料貯蔵容器21内の液体材料Aが無くなったことを検知可能か否かの確認実験を行った。
使用先11としては、フーリエ変換赤外分光光度計(以下、単に「FT−IR」という)を用いた。また、FT−IRと液体流量計41との間に、気化器及び気体用マスフローコントローラー(共に図1に図示せず)を配置した。
始めに、液体材料貯蔵容器21(容積1500cm3)内に、液体材料AとしてSiH(N(CH3)2)3(=3DMAS)を500g充填した。また、圧送ガスとしては、窒素を用いた。
気体用マスフローコントローラーがFT−IRに供給する3DMASの供給量を4sccmに設定し、FT−IRを用いて3DMASの濃度を分析した。
気体用マスフローコントローラーがFT−IRに供給する3DMASの供給量を4sccmに設定し、FT−IRを用いて3DMASの濃度を分析した。
分析開始から3DMASの濃度が安定しているまでの期間において、気体用マスフローコントローラーの指示流量は、4sccmのままであった。また、液体流量計41が示す3DMASの流量は、0.03g/minで安定していた。
引き続き3DMASの供給を継続したところ、気体用マスフローコントローラーの指示流量が4sccmのままであるにもかかわらず、液体流量計41の指示値が0〜0.15g/minの間で変動するようになった。
同時に、FT−IRで検知される3DMASの濃度の数値が減少したため、3DMASの濃度分析を中止し、FT−IRへの3DMASの供給を停止した。
同時に、FT−IRで検知される3DMASの濃度の数値が減少したため、3DMASの濃度分析を中止し、FT−IRへの3DMASの供給を停止した。
液体材料供給ライン23及びベント用ライン27と液体材料貯蔵容器21との接続部分を十分にパージした後、液体材料供給ライン23及びベント用ライン27から液体材料貯蔵容器21を取り外し、液体材料貯蔵容器21の重量を測定した。
これにより、液体材料貯蔵容器21内には、ほとんど3DMASが残っていないことが確認できた。
つまり、液体流量計41の指示値の変動により、液体材料貯蔵容器21内の3DMASの有無が分かることが確認できた。
これにより、液体材料貯蔵容器21内には、ほとんど3DMASが残っていないことが確認できた。
つまり、液体流量計41の指示値の変動により、液体材料貯蔵容器21内の3DMASの有無が分かることが確認できた。
本発明は、液体材料の粘性に依存することなく、液体材料貯蔵容器内に貯蔵された液体材料の有無を確実に検知可能な液体材料有無検知方法に適用できる。
10…液体材料供給装置、11…使用先、12…圧送ガス供給源、13…排気設備、21…液体材料貯蔵容器、21A…蓋体、23…液体材料供給ライン、23A,27A,35A…一端、23B,27B、35B…他端、24…第1のバルブ、25…第2のバルブ、27…ベント用ライン、31…第3のバルブ、32…第4のバルブ、35…圧送ガス供給ライン、37…第5のバルブ、38…第6のバルブ、41…液体流量計、43…制御部、46…検知部、51…操作パネル、52…スピーカー
Claims (5)
- 圧送ガスが供給された際、液体材料供給ラインを介して、使用先に液体材料を供給する液体材料貯蔵容器内に貯蔵された前記液体材料の有無を検知する液体材料有無検知方法であって、
前記使用先に前記液体材料を供給時において、液体流量計を用いて、前記液体材料供給ラインを流れる流体の流量を連続的に測定する流量測定工程と、
前記液体流量計が測定する前記流体の流量に基づき、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料の有無を検知する液体材料有無検知工程と、
を含むことを特徴とする液体材料有無検知方法。 - 前記液体材料有無検知工程では、前記流体の流量の変動の大きさに基づき、前記流体が気体であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料が無くなったことを検知し、前記流体が前記気体を含まない前記液体材料であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内に前記液体材料が有ることを検知することを特徴とする請求項1記載の液体材料有無検知方法。
- 前記液体材料有無検知工程では、前記流体の流量の変動の大きさに基づき、前記流体が気体を含む前記液体材料であると判定された際、前記液体材料貯蔵容器内の前記液体材料が残り少ないことを検知することを特徴とする請求項1または2記載の液体材料有無検知方法。
- 前記使用先として、成膜装置または分析装置を用いることを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の液体材料有無検知方法。
- 前記液体材料として、前記成膜装置が使用する成膜材料を用いることを特徴とする請求項4記載の液体材料有無検知方法。
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JP2012141943A JP2014006150A (ja) | 2012-06-25 | 2012-06-25 | 液体材料有無検知方法 |
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