JP2016194055A - 接着剤組成物、フィルム状接着材、接着層、接着シート、樹脂付銅箔、銅張積層板、フレキシブル銅張積層板、プリント配線板、フレキシブルプリント配線板、多層配線板、プリント回路板、及びフレキシブルプリント回路板 - Google Patents
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Abstract
Description
芳香族テトラカルボン酸無水物(b1)及びダイマージアミン(b2)を含む単量体群(β)を反応成分とする短鎖ポリイミド(B)と、
熱硬化性架橋剤(C)と、
有機溶剤(D)とを含有し、
かつ、
(A)成分の重量平均分子量(M(A))が24000以上45000未満、及び(B)成分の重量平均分子量(M(B))が7000以上24000未満であり、
かつ、
下記条件(1)及び(2)を満たすことを特徴とする接着剤組成物。
1.1≦[M(A)/M(B)]≦3.7
1.5≦[(A)成分の含有量(W(A))/(B)成分の含有量(W(B))]≦9.5
M(A):24000以上45000未満
M(B):7000以上24000未満
M(A):24000以上44000未満
M(B):8000以上21000未満
M(A):24000以上43000未満
M(B):9000以上21000未満
M(A)μ=〔(M(A1)+M(A2)+…M(An))〕/n’
(式中、nは1以上の自然数である。)
M(B)μ=〔(M(B1)+M(B2)+…M(Bn))〕/n’
(式中、n’は1以上の自然数である。)
(1)1.1≦[M(A)/M(B)]≦3.7
(2)1.5≦[W(A)/W(B)]≦9.5
(1)1.2≦[M(A)/M(B)]≦3.5
(2)1.8≦[W(A)/W(B)]≦8.8
(1)1.4≦[M(A)/M(B)]≦3.2
(2)2.0≦[W(A)/W(B)]≦8.3
W(A)=W(A1)+W(A2)+…W(An)
W(B)=W(B1)+W(B2)+…W(Bn)
Sp(B):50℃以上200℃未満程度、好ましくは60℃以上180℃未満程度、一層好ましくは70℃以上150℃未満程度
製造例1
撹拌機、分水器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、市販の芳香族テトラカルボン酸二無水物(商品名「BTDA−PF」、エボニックジャパン(株)製;3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物)160.00g、シクロヘキサノン768.00g、及びメチルシクロヘキサン153.60gを仕込み、60℃まで加熱した。次いで、市販のポリジメチルシロキサン(商品名「KF−8010」、信越化学工業(株)製。)20.81g、ダイマージアミン(商品名「PRIAMINE1075」、クローダジャパン(株)製)242.60gを滴下した後、140℃で10時間かけてイミド化反応させることにより、軟化点約80℃及び重量平均分子量約25,000のポリイミド(A−1)の溶液(不揮発分30.1%)を得た。なお、酸成分/アミン成分のモル比は1.05であった。
製造例1と同様の反応容器に、市販の芳香族テトラカルボン酸二無水物(商品名「BTDA−PF」、エボニックジャパン(株)製;3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物)210.00g、シクロヘキサノン1000.80g、及びメチルシクロヘキサン201.60gを仕込み、60℃まで加熱した。次いでPRIAMINE1075 341.67gを滴下した後、140℃で10時間かけてイミド化反応させることにより、軟化点約80℃及び重量平均分子量約38,000のポリイミド(A−2)の溶液(不揮発分30.5%)を得た。なお、酸成分/アミン成分のモル比は1.03であった。
製造例1と同様の反応容器に、市販の芳香族テトラカルボン酸二無水物(商品名「BISDA1000」、エボニックジャパン(株)製;4,4‘−[プロパンー2,2−ジイルビス(1,4−フェニレンオキシ)]ジフタル酸二無水物)210.00g、シクロヘキサノン780.78g、及びメチルシクロヘキサン156.16gを仕込み、60℃まで加熱した。次いでPRIAMINE1075 211.73gを滴下した後、140℃で10時間かけてイミド化反応させることにより、軟化点約90℃及び重量平均分子量約42,000のポリイミド(A−3)の溶液(不揮発分31.0%)を得た。なお、酸成分/アミン成分のモル比は1.03であった。
製造例4
製造例1と同様の反応容器に、BTDA−PF 160.00g、シクロヘキサノン768.00g、及びメチルシクロヘキサン153.60gを仕込み、60℃まで加熱した。次いで、KF−8010 18.83g、PRIAMINE1075 219.59gを滴下した後、140℃で10時間かけてイミド化反応させることにより、軟化点約60℃及び重量平均分子量約10,000のポリイミド(B−1)の溶液(不揮発分30.7%)を得た。なお、酸成分/アミン成分のモル比は1.16であった。
製造例1と同様の反応容器に、BTDA−PF 160.00g、シクロヘキサノン768.00g、及びメチルシクロヘキサン153.60gを仕込み、60℃まで加熱した。次いで、KF−8010 18.92g、PRIAMINE1075 220.54gを滴下した後、140℃で10時間かけてイミド化反応させることにより、軟化点約60℃及び重量平均分子量約13,000のポリイミド(B−2)の溶液(不揮発分30.4%)を得た。なお、酸成分/アミン成分のモル比は1.16であった。
製造例1と同様の反応容器に、BTDA−PF 160.00g、シクロヘキサノン768.00g、及びメチルシクロヘキサン153.60gを仕込み、60℃まで加熱した。次いで、KF−8010 19.00g、PRIAMINE1075 221.50gを滴下した後、140℃で10時間かけてイミド化反応させることにより、軟化点約60℃及び重量平均分子量約15,000のポリイミド(B−3)の溶液(不揮発分30.8%)を得た。なお、酸成分/アミン成分のモル比は1.15であった。
製造例1と同様の反応容器に、BTDA−PF 210.00g、シクロヘキサノン976.50g、及びメチルシクロヘキサン195.30gを仕込み、60℃まで加熱した。次いでPRIAMINE1075 322.86gを滴下した後、140℃で10時間かけてイミド化反応させることにより、軟化点約80℃及び重量平均分子量約18,000のポリイミド(B−4)の溶液(不揮発分30.2%)を得た。なお、酸成分/アミン成分のモル比は1.09であった。
製造例1と同様の反応容器に、BISDA1000 300.00g、シクロヘキサノン960.00g、及びメチルシクロヘキサン120.00gを仕込み、60℃まで加熱した。次いでPRIAMINE1075 285.82gを滴下した後、140℃で10時間かけてイミド化反応させることにより、軟化点約90℃及び重量平均分子量約20,000のポリイミド(B−5)の溶液(不揮発分33.3%)を得た。なお、酸成分/アミン成分のモル比は1.09であった。
比較製造例1
製造例1と同様の反応容器に、BTDA−PF 200.00g、シクロヘキサノン960.00g、及びメチルシクロヘキサン192.00gを仕込み、60℃まで加熱した。次いで、KF−8010 520.18gを1時間かけて徐々に添加し、140℃で12時間かけてイミド化反応させることにより、酸無水物基末端ポリイミド(ア)の溶液(不揮発分38.0%)を得た。なお、該ポリイミド樹脂の酸成分/アミン成分のモル比は1.05であった。また、該(ア)成分の重量平均分子量は約30,000、軟化点は20℃であった。
実施例1
ポリイミド(A−1)の溶液100.00g(固形分30.1g)、 ポリイミド(B)−4)の溶液49.51g(固形分14.95g)、(C)成分としてN,N,N’,N’−テトラグリシジルキシレンジアミン(三菱ガス化学(株)、商品名「TETRAD−X」)2.39g、並びに有機溶剤としてトルエン6.23gを混合し、よく撹拌することによって、不揮発分30.0%の接着剤組成物を得た。
(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分及び添加剤の種類並びに使用量を表1に示すものに変更した他は実施例1と同様にして、接着剤組成物を得た。
ポリイミド(A−1)の溶液100.00g(固形分30.1g)、ポリイミド(A−3)の溶液41.61g(固形分12.90g)、 ポリイミド(B−5)の溶液32.28g(固形分10.75g)、(C)成分としてTETRAD−X 2.85g、並びに(D)成分としてトルエン11.67gを混合し、よく撹拌することによって、不揮発分30.0%の接着剤組成物を得た。
ポリイミド(A−1)の溶液100.00g(固形分30.1g)、ポリイミド(A−3)の溶液41.61g(固形分12.90g)、ポリイミド(B−5)の溶液20.98g(固形分6.99g)、(C)成分としてTETRAD−X 2.65g、並びに(D)成分としてトルエン10.25gを混合し、よく撹拌することによって、不揮発分30.0%の接着剤組成物を得た。
ポリイミド(A−1)の溶液100.00g(固形分30.10g)、ポリイミド(A−3)の溶液41.61g(固形分12.90g)、ポリイミド(B−4)の溶液53.39g(固形分16.13g)、(C)成分としてTETRAD−X 3.13g、並びに(D)成分としてトルエン9.31gを混合し、よく撹拌することによって、不揮発分30.0%の接着剤組成物を得た。
ポリイミド(A−1)の溶液100.00g(固形分30.10g)、ポリイミド(A−3)の溶液41.61g(固形分12.90g)、ポリイミド(B−3)の溶液24.20g(固形分7.45g)、(C)成分としてTETRAD−X 2.67g、並びに(D)成分としてトルエン7.58gを混合し、よく撹拌することによって、不揮発分30.0%の接着剤組成物を得た。
ポリイミド(A−3)の溶液141.61g(固形分43.90g)、 ポリイミド(B−5)の溶液19.77g(固形分6.58g)、ポリイミド(B−2)の溶液14.44g(固形分4.39g)、(C)成分としてTETRAD−X 2.91g、並びに(D)成分としてトルエン13.58gを混合し、よく撹拌することによって、不揮発分30.0%の接着剤組成物を得た。
(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分及び添加剤の種類並びに量を表4に示すものに変更した他は実施例1と同様にして、接着剤組成物を得た。
(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分及び添加剤の種類並びに量を表5に示すものに変更した他は実施例1と同様にして、接着剤組成物を得た。
(ア)成分、(C)成分、(D)成分及び添加剤の種類並びに量を表6に示すものに変更した他は実施例1と同様にして、接着剤組成物を得た。
実施例1の接着剤組成物を、ナフロンPTFEテープTOMBO No.9001(ニチアス(株))上に塗工し、室温で12時間乾燥させた後、200℃で1時間硬化させることによって、膜厚50μmの硬化物シートを得た。
実施例1の接着剤組成物を、ナフロンPTFEテープTOMBO No.9001(ニチアス(株))上に塗工し、180℃で5分乾燥させることによって、膜厚20μmの接着シートを得た。
実施例1の接着剤組成物を、18μm厚の電解銅箔(商品名「F2−WS」、古河電気工業株式会社製。幅25.4cmのロール状。)の鏡面に、乾燥後の厚みが5μmとなるようギャップコーターで塗布した後、200℃で3分間乾燥させた後、所定の長さで切りとり、樹脂付銅箔を得た。
次いで、該樹脂付銅箔の接着面に、80μm厚のエポキシプリプレグ(商品名「5100」、(株)寺岡製作所製)を重ね、その上に該樹脂付銅箔を更に重ねてから、圧力4.5MPa、200℃及び30分間の条件で加熱プレスすることにより、銅張積層板を作製した。
該銅張積層板について、JIS C 6481(プリント配線板用銅張積層板試験方法)に準じ、引き剥がし強さ(N/cm)を評価した。結果を表7に示す。
該銅張積層板を、23℃、50%RHの恒温室に4日間放置後、銅箔側を下にして、288℃のはんだ浴に浮かべた際の、発泡の有無を確認した。○が外観変化無し、×が発泡、膨れが見られたことを示す。結果を表7に示す。
実施例1に係る銅張積層板の両面の銅箔を濃度40%の塩化第二鉄水溶液への浸漬によってエッチングし、ライン/スペース=0.2(mm)/0.2(mm)の銅回路を形成することにより、プリント配線板が得られた。
得られたプリント配線板をコア材とし、その両面に、実施例1に係る樹脂付銅箔を重ね、圧力4.5MPa、200℃及び30分間の条件で圧着させた。次いで、外層の未処理銅箔を濃度40%の塩化第二鉄水溶液への浸漬によってエッチングし、ライン/スペース=0.2(mm)/0.2(mm)の銅回路を形成することにより、回路パターン層を4つ備える多層配線板が得られた。
Claims (18)
- 芳香族テトラカルボン酸無水物(a1)及びダイマージアミン(a2)を含む単量体群(α)を反応成分とする長鎖ポリイミド(A)と、
芳香族テトラカルボン酸無水物(b1)及びダイマージアミン(b2)を含む単量体群(β)を反応成分とする短鎖ポリイミド(B)と、
熱硬化性架橋剤(C)と、
有機溶剤(D)とを含有し、
かつ、
(A)成分の重量平均分子量(M(A))が24000以上45000未満、及び(B)成分の重量平均分子量(M(B))が7000以上24000未満であり、
かつ、
下記条件(1)及び(2)を満たすことを特徴とする接着剤組成物。
1.1≦[M(A)/M(B)]≦3.7
1.5≦[(A)成分の含有量(W(A))/(B)成分の含有量(W(B))]≦9.5 - (a1)成分及び(b1)成分のいずれか又は双方が、下記一般式で示されるものである、請求項1の接着剤組成物。
- (α)成分が、更に脂環式ジアミン(a3)及び/又はジアミノポリシロキサン(a4)を含む、請求項1又は2の接着剤組成物。
- (β)成分が、更に脂環式ジアミン(b3)及び/又はジアミノポリシロキサン(b4)を含む、請求項1〜3のいずれかの接着剤組成物。
- (C)成分が、エポキシ化合物、ベンゾオキサジン化合物、ビスマレイミド化合物及びシアネートエステル化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む、請求項1〜4のいずれかの接着剤組成物。
- エポキシ化合物が下記構造のジアミンを含む、請求項5の接着剤組成物。
- (C)成分の含有量が、(A)成分及び(B)成分の合計100重量部に対して1〜150重量部である、請求項1〜6のいずれかの接着剤組成物。
- 請求項1〜7のいずれかの接着剤組成物からなるフィルム状接着材。
- 請求項1〜7のいずれかの接着剤組成物又は請求項8のフィルム状接着材からなる接着層。
- 請求項9の接着層と基材シートを構成要素として含む接着シート。
- 請求項9の接着層と銅箔を構成要素として含む樹脂付銅箔(RCC)。
- 請求項11の樹脂付銅箔(RCC)とプリプレグシートを構成要素として含む銅張積層板(CCL)。
- 請求項11の樹脂付銅箔(RCC)及びポリイミドフィルムを構成要素として含むフレキシブル銅張積層板(FCCL)。
- 請求項12の銅張積層板(CCL)の銅箔に回路パターンを形成してなるプリント配線板(PWB)。
- 請求項13のフレキシブル銅張積層板(FCCL)の銅箔に回路パターンを形成してなるフレキシブルプリント配線板(FPWB)。
- 請求項14のプリント配線板(PWB)及び/又は15のフレキシブルプリント配線板(FPWB)を構成要素として含む多層配線板(MLB)。
- 請求項14のプリント配線板(PWB)又は前記項16の多層配線板(MLB)の回路上に半導体部品を実装してなるプリント回路板(PCB)。
- 請求項15のフレキシブルプリント配線板(FPWB)の回路上に半導体部品を実装してなるフレキシブルプリント回路板(FPCB)。
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