JP2016180144A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置は、処理液を貯留する外槽3、および基板ホルダ1に保持された基板を囲むように配置された内槽4を備えた処理槽2と、一端が内槽4の底部に接続され、他端が外槽3に接続された液移送管10と、液移送管10を通じて内槽4から処理液を吸い込み、液移送管10を通じて処理液を外槽3に送るポンプPと、基板ホルダ1が挿入可能な通孔11aを有するガイドカバー11とを備える。ガイドカバー11は、外槽3内の処理液の表面よりも下方であって、かつ内槽4の上方に配置されている。
【選択図】図1
Description
本発明の好ましい態様は、前記基板ホルダは、前記通孔を塞ぐつば部を有していることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記複数の処理液ノズルを揺動させるノズル揺動装置をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記基板ホルダを上下方向に往復運動させるホルダ揺動装置をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記基板ホルダを上下方向に揺動させるホルダ揺動装置をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記複数の邪魔板を揺動させる邪魔板揺動装置をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記少なくとも1つのパドルは、前記基板ホルダに保持された基板の両側に配置された複数のパドルであることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記少なくとも1つのパドルは、前記基板ホルダに保持された基板を水平に横切る複数のパドルであることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記弾性膜は、流体が内部に供給される流体室の少なくとも一部を構成することを特徴とする。
以下に説明するエッチング装置は、ウェハなどの基板を処理する基板処理装置の一例である。基板処理装置の他の例として、電解めっき装置、無電解めっき装置、電解エッチング装置が挙げられる。以下、基板処理装置の一実施形態であるエッチング装置について説明する。
2 エッチング槽(処理槽)
3 外槽
4 内槽
10 液移送管
11 ガイドカバー
12 つば部
13 突出部
14 支持アーム
15 保持アーム
15a 第1のスリット
15b 第2のスリット
15c 第3のスリット
16 エッチング液ノズル(処理液ノズル)
18 ノズル揺動装置
20 邪魔板
21 邪魔板揺動装置
22 ホルダ揺動装置
25,26 パドル
27 絶縁層
28 導電層
29 レジスト
30 金属
31 不活性ガス供給装置
32 不活性ガス供給ノズル
35 多孔体
35a 貫通孔
35b 上面
35c 下面
40 弾性膜
41 箱体
42 流体室
43 流体ポート
Claims (15)
- 基板を保持する基板ホルダと、
前記基板を処理する処理液を貯留する外槽、および前記外槽内に収容され、前記基板ホルダに保持された基板を囲むように配置された内槽を備えた処理槽と、
一端が前記内槽の底部に接続され、他端が前記外槽に接続された液移送管と、
前記液移送管に接続され、前記液移送管を通じて前記内槽から前記処理液を吸い込み、前記液移送管を通じて前記処理液を前記外槽に送るポンプと、
前記基板ホルダが挿入可能な通孔を有するガイドカバーとを備え、
前記ガイドカバーは、前記外槽内の前記処理液の表面よりも下方であって、かつ前記内槽の上方に配置されていることを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板ホルダは、前記通孔を塞ぐつば部を有していることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 基板を保持する基板ホルダと、
前記基板を処理する処理液を貯留し、前記基板ホルダが内部に配置される処理槽と、
前記処理槽内に配置され、かつ前記基板ホルダに保持された基板を向いて配置された複数の処理液ノズルと、
一端が前記処理槽の底部に接続され、他端が前記複数の処理液ノズルに接続された液移送管と、
前記液移送管に接続され、前記液移送管を通じて前記処理槽の底部から前記処理液を吸い込み、前記液移送管を通じて前記処理液を前記複数の処理液ノズルに送るポンプとを備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記複数の処理液ノズルを揺動させるノズル揺動装置をさらに備えたことを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記基板ホルダを上下方向に往復運動させるホルダ揺動装置をさらに備えたことを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
- 基板を保持する基板ホルダと、
前記基板を処理する処理液を貯留し、前記基板ホルダが内部に配置される処理槽と、
一端が前記処理槽の底部に接続され、他端が前記処理槽の内部に連通する液移送管と、
前記液移送管に接続され、前記液移送管を通じて前記処理槽の底部から前記処理液を吸い込み、前記液移送管を通じて前記処理液を前記処理槽に戻すポンプと、
前記処理槽内に配置され、かつ前記基板ホルダに保持された基板に隣接して配置された複数の邪魔板とを備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板ホルダを上下方向に揺動させるホルダ揺動装置をさらに備えたことを特徴とする請求項6に記載の基板処理装置。
- 前記複数の邪魔板を揺動させる邪魔板揺動装置をさらに備えたことを特徴とする請求項6に記載の基板処理装置。
- 基板を保持する基板ホルダと、
前記基板を処理する処理液を貯留し、前記基板ホルダが内部に配置される処理槽と、
一端が前記処理槽の底部に接続され、他端が前記処理槽の内部に連通する液移送管と、
前記液移送管に接続され、前記液移送管を通じて前記処理槽の底部から前記処理液を吸い込み、前記液移送管を通じて前記処理液を前記処理槽に戻すポンプと、
前記基板ホルダを上下方向に揺動させるホルダ揺動装置とを備え、
前記基板ホルダは、前記処理液を撹拌する少なくとも1つのパドルを有していることを特徴とする基板処理装置。 - 前記少なくとも1つのパドルは、前記基板ホルダに保持された基板の両側に配置された複数のパドルであることを特徴とする請求項9に記載の基板処理装置。
- 前記少なくとも1つのパドルは、前記基板ホルダに保持された基板を水平に横切る複数のパドルであることを特徴とする請求項9に記載の基板処理装置。
- 基板を保持する基板ホルダと、
前記基板を処理する処理液を貯留し、前記基板ホルダが内部に配置される処理槽と、
一端が前記処理槽の底部に接続され、他端が前記処理槽の内部に連通する液移送管と、
前記液移送管に接続され、前記液移送管を通じて前記処理槽の底部から前記処理液を吸い込み、前記液移送管を通じて前記処理液を前記処理槽に戻すポンプと、
前記処理槽内に配置され、かつ前記基板ホルダに保持された基板を向いて配置された複数の不活性ガス供給ノズルとを備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 基板を保持する基板ホルダと、
前記基板を処理する処理液を貯留し、前記基板ホルダが内部に配置される処理槽と、
前記処理槽の上部に配置された多孔体と、
一端が前記処理槽の底部に接続され、他端が前記多孔体の上方に位置する液移送管と、
前記液移送管に接続され、前記液移送管を通じて前記処理槽の底部から前記処理液を吸い込み、前記液移送管を通じて前記処理液を前記多孔体に供給するポンプとを備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 基板を保持する基板ホルダと、
前記基板を処理する処理液を貯留し、前記基板ホルダが内部に配置される処理槽と、
一端が前記処理槽の底部に接続され、他端が前記処理槽の内部に連通する液移送管と、
前記液移送管に接続され、前記液移送管を通じて前記処理槽の底部から前記処理液を吸い込み、前記液移送管を通じて前記処理液を前記処理槽に戻すポンプと、
前記処理槽の側壁に組み込まれた弾性膜とを備え、
前記弾性膜は、前記基板ホルダに保持された基板の表面に対向して配置されていることを特徴とする基板処理装置。 - 前記弾性膜は、流体が内部に供給される流体室の少なくとも一部を構成することを特徴とする請求項14に記載の基板処理装置。
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