JP2014224300A - ワークの表面処理装置及び処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
そこで本発明は処理槽内の処理液をより均一に撹拌することができることによりワークの表面に皮膜を効率的に作ることができ、しかもワークを吊り下げている場合でもワークがハンガーから落下することのないワークの表面処理装置及び処理方法を提供することを目的とする。
また、前記気体を過剰にマイクロバブル発生体に供給する手段を設けたことを特徴とする。
また、前記処理槽に電極を設置し、前記電極と前記ワークの間に直流電源より直流を印加して、電気めっきを行うことを特徴とする。
また、無電解めっきにより前記ワークに皮膜を作ることを特徴とする。
また、化成処理により前記ワークに皮膜を作ることを特徴とする。
また、前記マイクロバブル発生体の前記処理槽内の噴射手段の噴射角度を前記処理槽の底面に対し鋭角としたことを特徴とする。
本発明のワークの表面処理方法は、処理槽に入れられた処理液にワークを浸漬し、マイクロバブル発生体からマイクロバブルを前記処理液中に噴出して、前記処理液を撹拌し前記ワークの表面に皮膜を作ることを特徴とする。
また、前記処理液の一部と気体をマイクロバブル発生体に供給してマイクロバブルを前記処理液中に発生させるに際し、気体を前記処理液の一部に対し過剰にマイクロバブル発生体に供給することを特徴とする。
さらに、マイクロバブル発生体に供給する前記気体は前記マイクロバブル発生体に供給される処理液の10〜80%であることを特徴とする。
また、マイクロバブルを作る気体として窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスを用いると、空気を使用する場合に比べ、不純物が処理液に混ざらないので、より良好な皮膜を作ることができる。
また、ワークをハンガーで吊るして処理を行う場合でも、ワークに過大な力が加わらないのでワークがハンガーから落下することはない。
また、ワークを網目のかごに入れて処理する場合、従来のエアーバブリングでは、かごの網が邪魔をして処理液がワークまで十分に循環しない。ところが本発明ではマイクロバブルを用いているので、かごの網を容易に処理液が通過しワークにまで循環する。
さらに、マイクロバブル発生体から出るマイクロバブルを処理槽の底面に鋭角で当たるようにすれば、マイクロバブルによる処理液の撹拌が良好に行える。
図1に於いて、1はめっき用の処理槽、2はこの処理槽1に入れられためっき液である。このめっき液2は亜鉛めっきを例にとると、苛性ソーダと水の溶液に薬剤と亜鉛を溶かしこんだものである。3、4は処理槽1内の対向する壁面近くに設置された電極である。5は導電性のハンガー、6はこのハンガーに吊り下げられたワーク(被めっき製品)である。このワーク6は例えば電気製品などの部品として使用される鉄板であるとすると、電極3,4の間に位置するように配置される。そして、電極3,4は直流電源7のプラス電源端子に接続され、ハンガー5は直流電源7の−電源端子に接続される。
12はこれらの系全体の制御装置である。ポンプ9、エアーポンプ11及び制御装置12は処理槽1の外部に設けられた一つのボックスに収納される。13は処理槽1内に設置されたマイクロバブル発生体である。このマイクロバブル発生体13にポンプ9からの処理液と、エアーポンプからの空気が供給される。
ポンプ9、エアーポンプ11、制御装置12、取出口8及びマイクロバブル発生体13を含めてマイクロバブル発生装置が構成されている。
この実施例では気液二相流旋回方式を用いている。図2に簡単な原理図を示す。箱体14が設けられ、その内壁面に沿うようにポンプ9からの処理液が図2のAより注入される。処理液は箱体14の内壁面に沿って旋回し、高速の旋回流となり、遠心力により、円筒中心部に負圧が発生する。同時に、円筒の左側壁面の中心部に設けられた穴Bより、窒素ガスが送り込まれ、比重の軽い気体が、円筒内中心部に集まり、竜巻状の渦流14aが形成される。気体の渦流を伴った旋回流は、出口C方向に移動し、出口Cで液体とともに回転しながら噴出されるが、このとき出口Cの周囲の液体14bにより、回転速度が急速に減衰するため、回転速度差が発生する。この回転速度差により、気体の渦流にせん断が発生し、渦流が連続的に切断され、微小な気泡つまりマイクロバブルが発生する。
マイクロバブル発生装置は上記のものに限られず、液体と気体の混合物を気体溶解室で液体を気体に溶解させてから、圧力を開放させることによりマイクロバブルを発生させる加圧溶解法によるものを用いてもよい。
次に、このめっき液2に漬けるこの状態で直流電源7から電極3、4及びワーク6に電圧がかけられ、ワーク6へのめっきが開始される。
マイクロバブル発生体13からマイクロバブル19が連続して大量に発生し、処理槽1全域に行き渡る。特にワーク6のめっきが施される面のめっき液2がマイクロバブル19によって新しいもの置き換えられるのでめっき効率が向上する。
また、主に金属素材をある種の溶液中に浸漬し、表面に処理剤を作用させて化学反応を起こさせることで金属塩皮膜を生成するクロメ−ト処理やりん酸塩処理・パーカライジングなどの化成処理にも適用することができる。
ワークをハンガーに吊り下げて処理することは一般的であるが、ワークを網目を有するかご、もしくはバレルと呼ばれる筐体に入れて処理することもある。この場合、従来のエアーバブリングでは、かご、もしくはバレルと呼ばれる筐体の網が邪魔になって処理液がワークに循環しにくい。ところがマイクロバブルはかご、もしくはバレルと呼ばれる筐体の網を何の抵抗もなく通過するので、処理液をワークに容易に循環させることができる。
2: めっき液
3: 電極
4: 電極
5: ハンガー
6: ワーク
7: 直流電源
8: 取出口
9: ポンプ
11:エアーポンプ
12:制御装置
13:マイクロバブル発生体
19:マイクロバブル
Claims (11)
- 処理槽と、この処理槽に入れられるワークの表面に皮膜を作るために前記処理槽に入れられる処理液とを備え、前記処理槽に入れられた処理液を取出す取出手段と、この取出手段から取出された処理液と別途供給される気体とを用いてマイクロバブルを発生するマイクロバブル発生体を設け、前記マイクロバブル発生体から出るマイクロバブルによって前記処理液を撹拌し、前記ワーク表面に皮膜を作ることを特徴とするワークの表面処理装置。
- 前記気体を過剰にマイクロバブル発生体に供給する手段を設けたことを特徴とする請求項1記載のワークの表面処理装置。
- 前記気体は前記マイクロバブル発生体に供給される処理液の10〜80%であることを特徴とする請求項2記載のワークの表面処理装置。
- 前記処理槽に電極を設置し、前記電極と前記ワークの間に直流電源より直流を印加して、電気めっきを行うことを特徴とする請求項1記載のワークの表面処理装置。
- 無電解めっきにより前記ワークに皮膜を作ることを特徴とする請求項1記載のワークの表面処理装置。
- 化成処理により前記ワークに皮膜を作ることを特徴とする請求項1記載のワークの表面処理装置。
- 前記マイクロバブル発生体の前記処理槽内の噴射手段の噴射角度を前記処理槽の底面に対し鋭角としたことを特徴とする請求項1記載のワークの表面処理装置。
- 前記別途供給される気体を不活性ガスとしたことを特徴とする請求項1記載のワークの表面処理装置。
- 処理槽に入れられた処理液にワークを浸漬し、マイクロバブル発生体からマイクロバブルを前記処理液中に噴出して、前記処理液を撹拌し前記ワークの表面に皮膜を作ることを特徴とするワークの表面処理方法。
- 前記処理液の一部と気体をマイクロバブル発生体に供給してマイクロバブルを前記処理液中に発生させるに際し、気体を前記処理液の一部に対し過剰にマイクロバブル発生体に供給することを特徴とする特徴とする請求項10記載のワークの表面処理方法。
- マイクロバブル発生体に供給する前記気体は前記マイクロバブル発生体に供給される処理液の10〜80%であることを特徴とする請求項11記載のワークの表面処理方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016180144A (ja) * | 2015-03-24 | 2016-10-13 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置 |
KR20170028870A (ko) | 2015-07-29 | 2017-03-14 | 에어리어 디자인 컴퍼니 리미티드 | 석션 도금장치 |
JP2018165393A (ja) * | 2017-03-28 | 2018-10-25 | 上村工業株式会社 | 表面処理装置 |
JP2021042433A (ja) * | 2019-09-11 | 2021-03-18 | 株式会社荏原製作所 | めっき処理装置、前処理装置、めっき装置、めっき処理方法および前処理方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101861052B1 (ko) | 2018-01-05 | 2018-05-24 | 박상원 | 아노다이징 장치용 미세기포 공급부 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55119199A (en) * | 1979-03-07 | 1980-09-12 | Ngk Insulators Ltd | Surface treatment apparatus for metal, etc. |
JPH03226596A (ja) * | 1990-01-30 | 1991-10-07 | Toshiba Corp | 電気めっき装置 |
JPH05112898A (ja) * | 1991-10-21 | 1993-05-07 | Kobe Steel Ltd | めつき方法 |
JPH06158396A (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-07 | Sakae Denshi Kogyo Kk | 電解めっき液の撹拌方法 |
JP2000059006A (ja) * | 1998-08-05 | 2000-02-25 | Ibiden Co Ltd | プリント配線板の製造方法 |
JP2007177257A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-12 | Seiko Epson Corp | メッキ方法及びメッキ装置並びにシリコンデバイスの製造方法 |
JP2008163396A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Tdk Corp | 電解析出装置および電解析出方法、ならびに光電変換素子 |
JP2008171956A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Tokyo Electron Ltd | 半導体装置の製造方法、半導体製造装置及び記憶媒体 |
JP2013189959A (ja) * | 2012-03-15 | 2013-09-26 | Isuzu Motors Ltd | 遮熱膜の製造方法、遮熱膜、及び内燃機関 |
-
2013
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55119199A (en) * | 1979-03-07 | 1980-09-12 | Ngk Insulators Ltd | Surface treatment apparatus for metal, etc. |
JPH03226596A (ja) * | 1990-01-30 | 1991-10-07 | Toshiba Corp | 電気めっき装置 |
JPH05112898A (ja) * | 1991-10-21 | 1993-05-07 | Kobe Steel Ltd | めつき方法 |
JPH06158396A (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-07 | Sakae Denshi Kogyo Kk | 電解めっき液の撹拌方法 |
JP2000059006A (ja) * | 1998-08-05 | 2000-02-25 | Ibiden Co Ltd | プリント配線板の製造方法 |
JP2007177257A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-12 | Seiko Epson Corp | メッキ方法及びメッキ装置並びにシリコンデバイスの製造方法 |
JP2008163396A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Tdk Corp | 電解析出装置および電解析出方法、ならびに光電変換素子 |
JP2008171956A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Tokyo Electron Ltd | 半導体装置の製造方法、半導体製造装置及び記憶媒体 |
JP2013189959A (ja) * | 2012-03-15 | 2013-09-26 | Isuzu Motors Ltd | 遮熱膜の製造方法、遮熱膜、及び内燃機関 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016180144A (ja) * | 2015-03-24 | 2016-10-13 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置 |
TWI665750B (zh) * | 2015-03-24 | 2019-07-11 | 日商荏原製作所股份有限公司 | 基板處理裝置 |
US10468274B2 (en) | 2015-03-24 | 2019-11-05 | Ebara Corporation | Substrate processing apparatus |
US11024520B2 (en) | 2015-03-24 | 2021-06-01 | Ebara Corporation | Substrate processing apparatus |
KR20170028870A (ko) | 2015-07-29 | 2017-03-14 | 에어리어 디자인 컴퍼니 리미티드 | 석션 도금장치 |
JP2018165393A (ja) * | 2017-03-28 | 2018-10-25 | 上村工業株式会社 | 表面処理装置 |
JP2021042433A (ja) * | 2019-09-11 | 2021-03-18 | 株式会社荏原製作所 | めっき処理装置、前処理装置、めっき装置、めっき処理方法および前処理方法 |
JP7355566B2 (ja) | 2019-09-11 | 2023-10-03 | 株式会社荏原製作所 | めっき処理装置、前処理装置、めっき装置、めっき処理方法および前処理方法 |
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