JP7355566B2 - めっき処理装置、前処理装置、めっき装置、めっき処理方法および前処理方法 - Google Patents
めっき処理装置、前処理装置、めっき装置、めっき処理方法および前処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7355566B2 JP7355566B2 JP2019165046A JP2019165046A JP7355566B2 JP 7355566 B2 JP7355566 B2 JP 7355566B2 JP 2019165046 A JP2019165046 A JP 2019165046A JP 2019165046 A JP2019165046 A JP 2019165046A JP 7355566 B2 JP7355566 B2 JP 7355566B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- tank
- substrate
- microbubbles
- plated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
前記めっき槽を攪拌する攪拌器を備えるのが望ましい。
11 FOUP
12 アライナ
13 基板着脱台
14 SRD
15 搬送ロボット
2 めっき室
21 ストック槽
22 仮置き槽
23 前処理槽
24 めっき処理槽
25 水洗槽
26 ブロー槽
27 搬送機構
27a レール
27b,27c 搬送ロボット
27d ボディ
27e アーム
27f 基板ホルダ保持部
3 基板ホルダ
41 パターン
42,43 純水
51 前処理槽
52 オーバーフロー槽
53 循環ライン
53a 微小気泡供給ライン
54 ポンプ
55 微小気泡発生ノズル
61 めっき槽
62 アノード電極
63 中間マスク
64 パドル
65 オーバーフロー槽
66 循環ライン
67 ポンプ
68 恒温槽
69 微小気泡発生ノズル
6A 底板
Claims (9)
- 被めっき処理基板が内部に保持され、めっき液が入れられるめっき槽と、
前記めっき槽内において、前記被めっき処理基板が保持される位置と対向する位置に配置されるアノード電極と、
前記めっき槽から溢れためっき液を受け入れるオーバーフロー槽と、
前記オーバーフロー槽から前記めっき槽にめっき液を還流させるための循環ラインと、
前記循環ラインを流れるめっき液に微小気泡を発生させる微小気泡発生器と、
前記被めっき処理基板が保持される位置の下方かつ前記アノード電極の下方まで延びており、複数の貫通孔が設けられた平板状の底板と、を備え、
前記循環ラインは、前記微小気泡を含んだめっき液を前記底板より下方から前記めっき槽に供給する、めっき処理装置。 - 前記微小気泡は、直径500μm以下の気泡を含む、請求項1に記載のめっき処理装置。
- 前記循環ラインに設けられたポンプを備え、
前記ポンプが作動することにより、前記オーバーフロー槽のめっき液が前記めっき槽に還流され、
前記微小気泡発生器は、前記ポンプの下流側に設けられる、請求項1または2に記載のめっき処理装置。 - 前記循環ラインに設けられ、めっき液を一定温度に保つ恒温槽を備え、
前記微小気泡発生器は、前記恒温槽の下流側に設けられる、請求項1または2に記載のめっき処理装置。 - 前記めっき槽を攪拌する攪拌器を備える、請求項1乃至4のいずれかに記載のめっき処理装置。
- 前記アノード電極は、その第1面が前記被めっき処理基板が保持される位置と対向し、前記第1面と反対側の第2面が前記めっき槽の内面と対向し、
前記アノード電極の下方まで延びている底床が、前記循環ラインからの微小気泡を前記アノード電極の第2面と前記めっき槽の内面との間に行き渡らせる、請求項1乃至5のいずれかに記載のめっき処理装置。 - めっき処理の前処理を行う前処理装置と、
請求項1乃至6のいずれかに記載のめっき処理装置と、
前記前処理槽で前処理された前記被めっき処理基板を前記めっき処理槽に搬送する搬送手段と、を備えるめっき装置。 - めっき液が入れられためっき槽に被めっき処理基板を保持し、
前記被めっき処理基板と対向する位置に配置されたアノード電極にめっき電源の正電極を接続し、前記被めっき処理基板に前記めっき電源の負電極を接続し、
前記めっき槽から溢れためっき液をオーバーフロー槽で受け入れ、
循環ラインを介して前記オーバーフロー槽から前記めっき槽にめっき液を還流させ、
前記循環ラインを流れるめっき液に微小気泡を発生させ、
前記めっき槽には、前記被めっき処理基板が保持される位置の下方かつ前記アノード電極の下方まで延びており、複数の貫通孔が設けられた平板状の底板が配置されており、前記循環ラインは、前記微小気泡を含んだめっき液を前記底板より下方から前記めっき槽に還流させ、
前記微小気泡を含むめっき液を用いて前記被めっき処理基板をめっきするめっき処理方法。 - 前記アノード電極は、その第1面が前記被めっき処理基板が保持される位置と対向し、前記第1面と反対側の第2面が前記めっき槽の内面と対向し、
前記アノード電極の下方まで延びている底床が、前記循環ラインからの微小気泡を前記アノード電極の第2面と前記めっき槽の内面との間に行き渡らせる、請求項8に記載のめっき処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019165046A JP7355566B2 (ja) | 2019-09-11 | 2019-09-11 | めっき処理装置、前処理装置、めっき装置、めっき処理方法および前処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019165046A JP7355566B2 (ja) | 2019-09-11 | 2019-09-11 | めっき処理装置、前処理装置、めっき装置、めっき処理方法および前処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021042433A JP2021042433A (ja) | 2021-03-18 |
JP7355566B2 true JP7355566B2 (ja) | 2023-10-03 |
Family
ID=74862930
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019165046A Active JP7355566B2 (ja) | 2019-09-11 | 2019-09-11 | めっき処理装置、前処理装置、めっき装置、めっき処理方法および前処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7355566B2 (ja) |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3029131U (ja) | 1996-03-19 | 1996-09-27 | 住友精密工業株式会社 | 半導体洗浄装置 |
JP2006111976A (ja) | 2006-01-19 | 2006-04-27 | Ebara Udylite Kk | 酸性銅めっき方法および酸性銅めっき装置 |
JP2006147617A (ja) | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置およびパーティクル除去方法 |
JP2006179765A (ja) | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置およびパーティクル除去方法 |
JP2008171956A (ja) | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Tokyo Electron Ltd | 半導体装置の製造方法、半導体製造装置及び記憶媒体 |
JP2009155725A (ja) | 2007-12-04 | 2009-07-16 | Ebara Corp | めっき装置及びめっき方法 |
JP2009167496A (ja) | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Kanto Auto Works Ltd | 電着塗装の前処理水洗装置 |
JP2011195926A (ja) | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 電解析出装置および電解析出方法 |
JP2014011463A (ja) | 2012-06-29 | 2014-01-20 | Taiwan Uyemura Co Ltd | 微細気泡式処理装置 |
JP2014224300A (ja) | 2013-05-14 | 2014-12-04 | 株式会社ハイビック平田 | ワークの表面処理装置及び処理方法 |
JP2015137374A (ja) | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置およびめっき方法 |
CN106167913A (zh) | 2015-05-20 | 2016-11-30 | 台湾先进系统股份有限公司 | 电镀槽装置 |
JP2017014539A (ja) | 2015-06-26 | 2017-01-19 | 臼井 博明 | 電気めっき方法 |
CN208632687U (zh) | 2018-06-22 | 2019-03-22 | 先丰通讯股份有限公司 | 电镀系统的气体搅拌装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2733771B2 (ja) * | 1988-07-29 | 1998-03-30 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | 液体による処理装置 |
JPH03145793A (ja) * | 1989-10-31 | 1991-06-20 | Fujitsu Ltd | プリント配線板の電解めっき用気泡撹拌装置 |
-
2019
- 2019-09-11 JP JP2019165046A patent/JP7355566B2/ja active Active
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3029131U (ja) | 1996-03-19 | 1996-09-27 | 住友精密工業株式会社 | 半導体洗浄装置 |
JP2006147617A (ja) | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置およびパーティクル除去方法 |
JP2006179765A (ja) | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置およびパーティクル除去方法 |
JP2006111976A (ja) | 2006-01-19 | 2006-04-27 | Ebara Udylite Kk | 酸性銅めっき方法および酸性銅めっき装置 |
JP2008171956A (ja) | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Tokyo Electron Ltd | 半導体装置の製造方法、半導体製造装置及び記憶媒体 |
JP2009155725A (ja) | 2007-12-04 | 2009-07-16 | Ebara Corp | めっき装置及びめっき方法 |
JP2009167496A (ja) | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Kanto Auto Works Ltd | 電着塗装の前処理水洗装置 |
JP2011195926A (ja) | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 電解析出装置および電解析出方法 |
JP2014011463A (ja) | 2012-06-29 | 2014-01-20 | Taiwan Uyemura Co Ltd | 微細気泡式処理装置 |
JP2014224300A (ja) | 2013-05-14 | 2014-12-04 | 株式会社ハイビック平田 | ワークの表面処理装置及び処理方法 |
JP2015137374A (ja) | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置およびめっき方法 |
CN106167913A (zh) | 2015-05-20 | 2016-11-30 | 台湾先进系统股份有限公司 | 电镀槽装置 |
JP2017014539A (ja) | 2015-06-26 | 2017-01-19 | 臼井 博明 | 電気めっき方法 |
CN208632687U (zh) | 2018-06-22 | 2019-03-22 | 先丰通讯股份有限公司 | 电镀系统的气体搅拌装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021042433A (ja) | 2021-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI498451B (zh) | 鍍覆裝置 | |
JP6829645B2 (ja) | 電気めっき装置および電気めっき装置における洗浄方法 | |
CN108588800B (zh) | 电镀装置及电镀方法 | |
JP4434948B2 (ja) | めっき装置及びめっき方法 | |
JP5795965B2 (ja) | めっき装置 | |
TW201527607A (zh) | 電鍍用鹼前處理 | |
US20240209542A1 (en) | Plating method and plating apparatus | |
JP2018174217A (ja) | めっき方法及びめっき装置 | |
JP4365143B2 (ja) | めっき用処理液の撹拌方法及びめっき用処理装置 | |
TW201331412A (zh) | 無電解鍍敷裝置及無電解鍍敷方法 | |
KR20190101278A (ko) | 도금 장치 | |
KR20180092271A (ko) | 도금 장치 및 도금 장치와 함께 사용되는 기판 홀더 | |
JP7355566B2 (ja) | めっき処理装置、前処理装置、めっき装置、めっき処理方法および前処理方法 | |
US20030051995A1 (en) | Plating device and plating method | |
CN114981485A (zh) | 镀覆装置以及镀覆液的搅拌方法 | |
JP2023084067A (ja) | めっき方法及びめっき装置 | |
JP2006117966A (ja) | めっき装置及びめっき方法 | |
JP2535278B2 (ja) | プリント配線基板のメッキ方法及びその装置 | |
WO2022180780A1 (ja) | 基板ホルダの保管方法、めっき装置 | |
JP2004339590A (ja) | 表面処理装置 | |
KR102494058B1 (ko) | 도금 처리 방법 | |
US20180282895A1 (en) | Plating method | |
TWI787703B (zh) | 鍍覆裝置及鍍覆液之攪拌方法 | |
JP2004172437A (ja) | 薬液処理装置および薬液処理方法ならびにそれを用いた半導体デバイスの製造方法 | |
JP2021116467A (ja) | 水洗装置、水洗方法およびめっき装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220324 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230131 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230310 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230606 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230622 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230829 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230921 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7355566 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |