JP2021042433A - めっき処理装置、前処理装置、めっき装置、めっき処理方法および前処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記めっき槽を攪拌する攪拌器を備えるのが望ましい。
11 FOUP
12 アライナ
13 基板着脱台
14 SRD
15 搬送ロボット
2 めっき室
21 ストック槽
22 仮置き槽
23 前処理槽
24 めっき処理槽
25 水洗槽
26 ブロー槽
27 搬送機構
27a レール
27b,27c 搬送ロボット
27d ボディ
27e アーム
27f 基板ホルダ保持部
3 基板ホルダ
41 パターン
42,43 純水
51 前処理槽
52 オーバーフロー槽
53 循環ライン
53a 微小気泡供給ライン
54 ポンプ
55 微小気泡発生ノズル
61 めっき槽
62 アノード電極
63 中間マスク
64 パドル
65 オーバーフロー槽
66 循環ライン
67 ポンプ
68 恒温槽
69 微小気泡発生ノズル
6A 底板
Claims (13)
- 被めっき処理基板が内部に保持され、めっき液が入れられるめっき槽と、
前記めっき槽内において、前記被めっき処理基板が保持される位置と対向する位置に配置されるアノード電極と、
前記めっき槽から溢れためっき液を受け入れるオーバーフロー槽と、
前記オーバーフロー槽から前記めっき槽にめっき液を還流させるための循環ラインと、
前記循環ラインを流れるめっき液に微小気泡を発生させる微小気泡発生器と、を備えるめっき処理装置。 - 前記微小気泡は、直径500μm以下の気泡を含む、請求項1に記載のめっき処理装置。
- 前記被めっき処理基板が保持される位置の下方に配置され、複数の貫通孔が設けられた底板を備え、
前記循環ラインは、前記微小気泡を含んだめっき液を前記底板より下方から前記めっき槽に供給する、請求項1または2に記載のめっき処理装置。 - 前記循環ラインに設けられたポンプを備え、
前記ポンプが作動することにより、前記オーバーフロー槽のめっき液が前記めっき槽に還流され、
前記微小気泡発生器は、前記ポンプの下流側に設けられる、請求項1乃至3のいずれかに記載のめっき処理装置。 - 前記循環ラインに設けられ、めっき液を一定温度に保つ恒温槽を備え、
前記微小気泡発生器は、前記恒温槽の下流側に設けられる、請求項1乃至3のいずれかに記載のめっき処理装置。 - 前記めっき槽を攪拌する攪拌器を備える、請求項1乃至5のいずれかに記載のめっき処理装置。
- めっき処理の前処理を行う前処理装置であって、
被めっき処理基板が内部に保持され、前処理液が入れられる前処理槽と、
前記前処理槽から溢れた前処理液を受け入れるオーバーフロー槽と、
前記オーバーフロー槽から前記前処理槽に前処理液を還流させるための循環ラインと、
前記循環ラインを流れる前処理液に微小気泡を発生させる微小気泡発生器と、を備える前処理装置。 - 前記微小気泡は、直径50μm以下の気泡を含む、請求項7に記載の前処理装置。
- 前記微小気泡は、前記被めっき処理基板に形成されたパターンサイズより小さい気泡を含む、請求項7または8に記載の前処理装置。
- 前記循環ラインに設けられたポンプを備え、
前記ポンプが作動することにより、前記オーバーフロー槽の前処理液が前記前処理槽に還流され、
前記微小気泡発生器は、前記ポンプの下流側に設けられる、請求項7乃至9のいずれかに記載の前処理装置。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載のめっき処理装置と、
請求項7乃至10のいずれかに記載の前処理装置と、
前記前処理槽で前処理された前記被めっき処理基板を前記めっき処理槽に搬送する搬送手段と、を備えるめっき装置。 - めっき液が入れられためっき槽に被めっき処理基板を保持し、
前記被めっき処理基板と対向する位置に配置されたアノード電極にめっき電源の正電極を接続し、前記被めっき処理基板に前記めっき電源の負電極を接続し、
前記めっき槽から溢れためっき液をオーバーフロー槽で受け入れ、
循環ラインを介して前記オーバーフロー槽から前記めっき槽にめっき液を還流させ、
前記循環ラインを流れるめっき液に微小気泡を発生させ、
前記微小気泡を含むめっき液を用いて前記被めっき処理基板をめっきするめっき処理方法。 - めっき処理の前処理を行う前処理方法であって、
前処理液が入れられた前処理槽に被めっき処理基板を保持し、
前記前処理槽から溢れた前処理液をオーバーフロー槽で受け入れ、
循環ラインを介して前記オーバーフロー槽から前記前処理槽に前処理液を還流させ、
前記循環ラインを流れる前処理液に微小気泡を発生させ、
前記微小気泡を含む前処理液を用いて前記被めっき処理基板を前処理する前処理方法。
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