JP4826756B2 - 電気めっき方法 - Google Patents
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Description
[1] めっき槽内の電気めっき液中に凹陥部又は貫通孔を有する被めっき物を浸漬して上記被めっき物を電気めっきする方法であって、アノード周囲のめっき液を連続的にエア攪拌すると共に、このエア攪拌により生じたエア気泡が被めっき物周囲に移行して該周囲のめっき液に巻き込まれないように上記アノードと被めっき物との配置を設定し、上記めっき槽にめっき液のオーバーフロー槽を連設し、かつ上記被めっき物の表面及び裏面に対向して噴流ノズルを近接して設けて、被めっき物に対して、エア攪拌によるエア気泡を巻き込まないように、上記オーバーフロー槽に貯液されためっき液を、噴流ノズルから被めっき物の表裏両面に対して、垂直に衝突するように又は垂直より低角度方向から衝突するように噴出させて、被めっき物周囲のめっき液を、エア気泡を随伴させることなく噴流攪拌しながら電気めっきすることを特徴とする電気めっき方法、
[2] 上記オーバーフロー槽に貯液されためっき液を、噴流ノズルから被めっき物の表裏両面に対して、垂直に衝突するように噴出させる[1]記載の電気めっき方法、
[3] エア攪拌用のエアノズルをアノードの配置位置の直下又はこれと近接する位置に配置した[1]又は[2]記載の電気めっき方法、
[4] 電気めっき液が電気銅めっき液である[1]乃至[3]のいずれかに記載の電気めっき方法、及び
[5] 被めっき物がプリント配線基板又はウェーハである[1]乃至[4]のいずれかに記載の電気めっき方法
を提供する。
本発明の電気めっき方法は、電気めっき液内にビアホール等の凹陥部、又はスルーホールなどの貫通孔を有する被めっき物を浸漬して被めっき物を電気めっきする方法であり、アノード周囲のめっき液を連続的にエア攪拌すると共に、このエア攪拌により生じたエア気泡が被めっき物周囲に移行して該周囲のめっき液に巻き込まれないように上記アノードと被めっき物との配置を設定して、被めっき物周囲のめっき液を、エア気泡を随伴させることなく噴流攪拌及び/又は機械攪拌しながら電気めっきするものである。
図1は、本発明の電気めっき方法に好適なめっき槽の一例を示す平面図、図2は図1のX−X線に沿った断面図、図3は図1のY−Y線に沿った断面図で、この例はエア攪拌と噴流攪拌を併用し、被めっき物としてプリント配線基板を用いてその両面にめっきを行う場合の例を示す。なお、図中、被めっき物(カソード)とアノードとの間に電流を流すための電源及び導線は図示を省略している。
下記の硫酸銅めっき液を用い、図1〜3に示されるように被めっき物(プリント配線基板)及びアノードを配置し、図1〜3に示されるように噴流ノズル及びエアノズルを配置して噴流攪拌及びエア攪拌によりめっき液を攪拌しながら径150μm、深さ95μmのビアホールを有する基板を電気めっきした。なお、めっき条件は下記のとおりである。めっき評価は、建浴直後と、ダミー板でのダミーめっきを10時間実施した後の2点を実施した。
硫酸銅(CuSO4・5H2O) 80g/L
硫酸 200g/L
添加剤 スルカップETN(上村工業(株)製)
なお、添加剤濃度はCVSで分析し、添加剤を補給しながらETN−1−A液=1ml/L、ETN−1−B液=10ml/Lに調整しながらめっきした。
陰極電流密度(ASD):3.0A/cm2
めっき温度:25℃
めっき時間:38分
図6に示されるようにビアホール及びその周囲の断面を切出し、断面観察によりa,b及びcで示される部分の各々のめっき皮膜の膜厚を測定し、その結果から下記式により算出した。
TP(%)=(c×2)/(a+b)×100
なお、図6中、41はビアホール、42はめっき皮膜、43は表面積層銅箔、44は樹脂層、45は内部銅箔である。
陰極電流密度(ASD):3.0A/cm2
めっき温度:25℃
めっき時間:75分
SUS板を研磨材(スコッチブライト:3M社製)で軽く研磨した後、酸洗浄処理して電気銅めっきを行い、膜厚50±5μmのめっき皮膜を成膜した。めっき後、めっき皮膜をSUS板より剥がし、120℃で2時間熱処理した。皮膜を図7に示されるサイズのダンベル形状の試験片に打ち抜き、蛍光X線膜厚計で膜厚を測定し、オートグラフによりチャック間距離40mm、引っ張り速度4mm/minとして、皮膜が破断するまでの伸び率と抗張力を以下の式により算出して評価した。
T[kgf/mm2]=F[kgf/mm2]/(10[mm]×d[mm])
T:抗張力 F:最大引張応力 d:試験片中央部の膜厚
E[%]=△L[mm]/20[mm]×100
E:伸び率 △L:皮膜が破断するまでに伸びた長さ
実施例1と同様の位置に基板及びアノードを配置し、噴流ノズルを配置しないで噴流攪拌を実施せずに、エアノズルは基板の直下に配置してエア攪拌のみ実施した。この場合、エア攪拌による気泡が基板に常時接触する状態で電気めっきされる。めっきを実施例1と同様の方法で評価した結果を表1に示す。
実施例1と同様の位置に基板及びアノードを配置し、実施例1と同様の位置に噴流ノズルを配置して噴流攪拌を実施し、エアノズルは基板の直下に配置してエア攪拌を実施した。この場合、エア攪拌による気泡が基板に常時接触する状態で電気めっきされる。めっきを実施例1と同様の方法で評価した結果を表1に示す。
実施例1と同様の位置に基板及びアノードを配置し、エアノズルを配置しないでエア攪拌を実施せずに、実施例1と同様の位置に噴流ノズルを配置して噴流攪拌のみを実施した。めっきを実施例1と同様の方法で評価した結果を表1に示す。
2 めっき液
11 被めっき物
12 噴流ノズル
13 噴流口
21 アノード
22 エアノズル
23 空気口
31 機械攪拌具
Claims (5)
- めっき槽内の電気めっき液中に凹陥部又は貫通孔を有する被めっき物を浸漬して上記被めっき物を電気めっきする方法であって、アノード周囲のめっき液を連続的にエア攪拌すると共に、このエア攪拌により生じたエア気泡が被めっき物周囲に移行して該周囲のめっき液に巻き込まれないように上記アノードと被めっき物との配置を設定し、上記めっき槽にめっき液のオーバーフロー槽を連設し、かつ上記被めっき物の表面及び裏面に対向して噴流ノズルを近接して設けて、被めっき物に対して、エア攪拌によるエア気泡を巻き込まないように、上記オーバーフロー槽に貯液されためっき液を、噴流ノズルから被めっき物の表裏両面に対して、垂直に衝突するように又は垂直より低角度方向から衝突するように噴出させて、被めっき物周囲のめっき液を、エア気泡を随伴させることなく噴流攪拌しながら電気めっきすることを特徴とする電気めっき方法。
- 上記オーバーフロー槽に貯液されためっき液を、噴流ノズルから被めっき物の表裏両面に対して、垂直に衝突するように噴出させる請求項1記載の電気めっき方法。
- エア攪拌用のエアノズルをアノードの配置位置の直下又はこれと近接する位置に配置した請求項1又は2記載の電気めっき方法。
- 電気めっき液が電気銅めっき液である請求項1乃至3のいずれか1項記載の電気めっき方法。
- 被めっき物がプリント配線基板又はウェーハである請求項1乃至4のいずれか1項記載の電気めっき方法。
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