JP5665483B2 - 表面処理方法及び表面処理装置 - Google Patents
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Description
従来、めっき処理バレルに電子部品などの被処理部品を投入し、めっき液中で回転させながら電解めっきを行ういわゆるバレルめっき法が広く用いられている。この場合、一度に大量の物品をめっき処理できるという利点がある。
このように、被めっき部品102が容器101内において十分に攪拌できないことや、容器101内の部位によってめっき液の流動に差が生じることは、被めっき部品102へのめっき膜厚のバラツキ、めっきムラや密着性の悪化につながる恐れがある。特に電子部品において、製品の電気特性等に悪影響を及ぼす可能性がある。
なお、本発明は、以上に述べた実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の構成または実施形態を取ることができる。
2 開口部
3 被処理部品
4 ドレイン
5 カソード電極
6 めっき槽
7 搬送手段
8 リザーブタンク
9 処理液
10 噴射口
11 アノード電極
12 ポンプ
13 垂直部
14 折り返し部
15 供給管
16 電源部
20 めっき処理装置
Claims (5)
- めっき処理される対象となる被処理物を収納する処理容器と、前記処理容器にめっき処理のための処理液を供給する噴射口を有する供給管と、を備えるめっき処理装置によるめっき処理方法であって、
球体または楕円体状の中空構造を有する前記処理容器の上部に開口部が形成され、前記処理容器の内部の曲面に沿って第1の電極が設けられ、
前記処理容器の前記開口部から底部に向けて配置される噴射口より前記処理液を噴射し、
前記処理液が前記処理容器の前記底部に当った後に、前記曲面に沿うように前記開口部に向かって循環する液流によって被処理物を流動攪拌させて、前記第1の電極に被処理物を接触させるように前記噴射口より噴射される前記処理液の流量または流圧を調整し、
第2の電極を、前記処理容器に加えた処理液に浸漬させ、
前記第1の電極と前記第2の電極とに通電することにより電解処理を行う
ことを特徴とするめっき処理方法。 - 前記噴射口の中心軸を、前記処理容器の前記開口部の中心軸に対して水平方向へ所定の範囲で相対的に動的に移動させる
ことを特徴とする請求項1に記載のめっき処理方法。 - めっき処理される対象となる被処理物を収納する処理容器であって、球体または楕円体状の中空構造を有する前記処理容器の上部に開口部が形成された該処理容器と、
前記処理容器の内部の曲面に沿って設けられた第1の電極と、
前記処理容器にめっき処理のための処理液を供給する噴射口を有し、該噴射口が前記処理容器の前記開口部から底部に向けて配置される供給管と、
前記第1の電極と接触していない第2の電極と、
前記噴射口より噴射された前記処理液が前記処理容器の前記底部に当った後に、前記曲面に沿うように前記開口部に向かって循環する液流によって被処理物を流動攪拌させて、前記第1の電極に被処理物を接触させるように、前記噴射口より噴射される前記処理液の流量または流圧を調整する調整部と、
前記処理容器に加えた処理液に接した前記第2の電極と、前記第1の電極とに通電する電源部と、
を備えることを特徴とするめっき処理装置。 - 前記第2の電極は、前記供給管に設けられている、または前記供給管とは分離している
ことを特徴とする請求項3に記載のめっき処理装置。 - 前記開口部の縁は、前記開口部の縁は、所定の厚さを有する、または前記処理容器の内側へ曲げられている
ことを特徴とする請求項3に記載のめっき処理装置。
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