JP2016089271A - ネオジム鉄ボロン系磁石の表面真空コーティング方法及び真空コーティング装置 - Google Patents

ネオジム鉄ボロン系磁石の表面真空コーティング方法及び真空コーティング装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2016089271A
JP2016089271A JP2015209944A JP2015209944A JP2016089271A JP 2016089271 A JP2016089271 A JP 2016089271A JP 2015209944 A JP2015209944 A JP 2015209944A JP 2015209944 A JP2015209944 A JP 2015209944A JP 2016089271 A JP2016089271 A JP 2016089271A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
iron boron
neodymium iron
barrel
vacuum coating
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015209944A
Other languages
English (en)
Inventor
衆傑 彭
Zhongjie Peng
衆傑 彭
昆昆 楊
Kunkun Yang
昆昆 楊
道寧 賈
Daoning Jia
道寧 賈
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yantai Shougang Magnetic Materials Inc
Original Assignee
Yantai Shougang Magnetic Materials Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yantai Shougang Magnetic Materials Inc filed Critical Yantai Shougang Magnetic Materials Inc
Publication of JP2016089271A publication Critical patent/JP2016089271A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021—Cleaning or etching treatments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • C23C14/165—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon by cathodic sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/223—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating specially adapted for coating particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/0253—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
    • H01F41/026—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
  • Hard Magnetic Materials (AREA)

Abstract

【課題】主として小寸法のネオジム鉄ボロン系磁石の表面真空コーティング方法、及び当該方法実現するための装置を提供すること。【解決手段】脱脂酸洗浄後のネオジム鉄ボロン系磁石と金属球又は非金属球とをバレル内に投入し、炉ドアを閉じてバレル内を６〜９×１０−３ｐａまで真空排気し、バレルを５〜２０回転／分の速度で回転させてネオジム鉄ボロン系磁石と金属球又は非金属球とを均一に混合し、バレル内を３〜６×１０−３ｐａまで真空排気し、バレル内にアルゴンガスを注入して真空度を３〜６×１０−１ｐａとした後、ターゲットを開き、コーティングを開始する。【選択図】図１

Description

本発明はネオジム、鉄、ボロンを主原料とするネオジム鉄ボロン系磁石の表面処理分野に関し、具体的には、主として小寸法のネオジム鉄ボロン系磁石の表面真空コーティング方法及び当該真空コーティング方法を実施するための真空コーティング装置に関する。
ネオジム鉄ボロン系磁石はネオジムリッチ相とＮｄ２Ｆｅ１４Ｂ相との間に存在する電位差、及びネオジム鉄ボロン系磁石の水素吸着作用によって極めて容易に腐食や酸化が発生しやすい。そのため、ネオジム鉄ボロン系磁石の表面に、耐食性及び耐酸化性の向上を目的とした被膜を形成することが知られている。よく知られたネオジム鉄ボロン系磁石の表面処理方法としては、電気泳動、吹き付け、真空コーティング及び電気メッキ等である。
従来、小寸法のネオジム鉄ボロン系磁石は、通常の治具を用いて磁石を迅速に固定することが困難なことから、一般的にはローラー電気メッキ又はローラー吹き付け方法を用いてその表面に被膜を形成しているが、電気メッキ中の酸、アルカリの存在が磁石を損傷させ、また吹き付け工程においては人体及び環境に対し一定の害を与える恐れがあった。
また、リクライニング式マグネトロンマルチアークイオンプレーティング装置にバレルを取り付け、顆粒状の金属球や非金属球を用いてコーティングする例も存在するが、炉体の構造が複雑であり、磁石形状に対する要求もより厳しく、小寸法のネオジム鉄ボロン系磁石の真空コーティングにおける応用例もないのが現状である。
本発明は、上記した従来技術が有する課題を解決し、主として小寸法のネオジム鉄ボロン系磁石の表面真空コーティング方法を提供することを目的とする。
さらに本発明は、上記表面真空コーティング方法を実現するため、主として小寸法のネオジム鉄ボロン系磁石の表面真空コーティング装置を提供することを目的とする。
本発明は、ネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティング方法であって、脱脂酸洗浄後の前記ネオジム鉄ボロン系磁石と金属球又は非金属球とをバレル内に投入し、炉ドアを閉じて前記バレル内を６〜９×１０−３ｐａまで真空排気し、前記バレルを５〜２０回転／分の速度で回転させて前記ネオジム鉄ボロン系磁石と金属球又は非金属球とを均一に混合し、前記バレル内を３〜６×１０−３ｐａまで真空排気し、前記バレル内にアルゴンガスを注入して真空度を３〜６×１０−１ｐａとした後、ターゲットを開き、コーティングを開始する、ことを特徴とする。
コーティング対象とする前記ネオジム鉄ボロン系磁石の外形サイズは、長さ及び幅方向がいずれも１５ｍｍ未満であり、かつ３方向の寸法差は１０ｍｍ未満である、ことを特徴とする。
前記金属球又は非金属球の直径は２〜６ｍｍであり、投入する前記金属球又は非金属球の重量は前記ネオジム鉄ボロン系磁石の重量の０．２５〜１．５倍である、ことを特徴とする。
前記真空コーティング方法は、マルチアークイオンプレーティング、又はマグネトロンスパッタリングのいずれかである、ことを特徴とする。
また本発明は、上記したネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティング方法を実施するための装置であって、前記装置本体は、円筒形の炉壁を有する水平据え置き式であり、前記円筒形の炉壁の後方一端には後炉壁が設けられて炉体を構成し、前記炉体の下方には底フレームが設けられており、前記炉壁にはアルゴンガス吸気口と真空排気口が設けられ、前記炉壁の前記後炉壁と反対側には観察窓を有する炉ドアが設けられ、前記後炉壁にはバレルを回転駆動させるための回転軸が挿入されており、前記バレルは一端が密閉されたメッシュ構造であり、前記バレルは前記回転軸によって回転駆動し、前記バレルの内壁には攪拌フィンが設けられ、前記炉壁の左右両側には、そのターゲット面が前記バレルに正対する左ターゲット及び右ターゲットが設けられている、ことを特徴とする。
前記攪拌フィンは、二等辺三角形又は台形である、ことを特徴とする。
本発明のネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティング方法によれば、ネオジム鉄ボロン系磁石への損傷が少なく、かつ人体及び環境に対する害を小さくすることができる。
また、本発明のネオジム鉄ボロン系磁石の表面真空コーティング装置によれば、従来装置に比べて構造が簡単で、かつコーティング対象とする磁石の形状に対する要求が低く、コーティング作業効率を向上させることができる。
図１は、本発明に係る真空コーティング装置の正面構造図である。
図２は、本発明に係る真空コーティング装置の側面図である。
図３は、本発明によってコーティングされた磁石の外観図である。
図４は、本発明によってコーティングされた被膜の厚さを示す図である。
具体的実施態様
以下、本発明の各実施例について詳細に説明するが、各実施例は本発明の理解を容易にするために用いられるものであり、本発明の範囲を限定するものではない。
実施例１
図１、２は、本発明に係る真空コーティング装置の正面構造図及び側面図である。真空コーティング装置は、円筒形の炉壁９を有する水平据え置き式であり、円筒形の炉壁９の後端には後炉壁１０を有しており、炉壁９にはアルゴンガス吸気口８と真空排気口１が設けられている。
円筒形の炉壁９と後炉壁１０により炉体を構成し、後炉壁１０と反対側には炉ドア１１が取付けられ、当該炉ドア１１には観察窓７が取付けられている。また、後炉壁１０には、バレル３を駆動するための回転軸２が挿入されており、当該回転軸２にバレル３が固定されている。バレル３はメッシュ状のステンレスバレルであり、一端は密閉されている。バレル３の内壁には攪拌フィン４が取付けられており、当該攪拌フィン４の形状は二等辺三角形又は台形である。
バレル３の炉ドア１１の近傍には、ネオジム鉄ボロン系磁石と金属球又は非金属球の出し入れ用としての開閉可能な円形扉を有している（図示せず）。円筒形の炉壁９の左右両側方には、それぞれ２つの左ターゲット５と２つの右ターゲット６が設けられ、各左ターゲット５と各右ターゲット６とは相対応しており、各ターゲット面はバレル３に正対している。また炉体の下方には底フレーム１２が取付けられている。
上記した真空コーティング装置を用いて、小寸法のネオジム鉄ボロン系磁石の表面に真空コーティングする方法について説明する。
外形寸法が７ｍｍ×１．４６ｍｍ×０．８５ｍｍのネオジム鉄ボロン系磁石２ｋｇと、直径が２ｍｍの鋼球３ｋｇをバレル３内に投入し、８．５〜９×１０−３ｐａまで真空排気した後、バレル３を２０回転／分の速度で回転させる。
バレル３内の攪拌フィンによって磁石と鋼球を均一に攪拌した後、３〜３．５×１０−３ｐａまで真空排気し、アルゴンガス吸気弁をオンにして真空度を５．５〜６×１０−１ｐａにした後、アルミニウムターゲットを取付けたマルチアークイオンターゲットをオンにし、設定電圧を２０Ｖ、電流を６０Ａとしてアルミニウム膜のメッキを開始し、メッキ開始から３０分後にターゲットを閉じて冷却する。
図３は、上記の実施例１の装置及び方法によってアルミニウム膜がコーティングされたネオジム鉄ボロン系磁石の外観写真である。また図４、５は、当該磁石に施されたアルミニウム膜を光学顕微鏡を用いて断面を観察した写真である。図４、５に示す通り、アルミニウム膜が均一にコーティングされている様子が分かる。
実施例２
実施例１と同様の装置を用い、外形寸法が８ｍｍ×６ｍｍ×８ｍｍのネオジム鉄ボロン系磁石２ｋｇと、直径が６ｍｍの鋼球０．５ｋｇをバレル３内に投入し、６〜６．５×１０−３ｐａまで真空排気した後、バレル３を５回転／分の速度で回転させる。
バレル３内の攪拌フィンによって磁石と鋼球を均一に攪拌した後、５．５〜６×１０−３ｐａまで真空排気し、アルゴンガス吸気弁をオンにし真空度を３〜３．５×１０−１ｐａにした後、アルミニウムターゲットを取付けたマルチアークイオンターゲットをオンにし、設定電圧を２０Ｖ、電流を６０Ａとしてアルミニウム膜のメッキを開始し、メッキ開始から６０分後にターゲットを閉じて冷却する。
上記した実施例では、金属球として鋼球を使用した例を示したが、その他の金属球又は非金属球であっても良い。また、真空コーティング材料としてアルミニウムを採用した例を示したが、これに限らず、銅、チタン、ジスプロシウム、テルビウム、ネオジム又はその合金によるコーティングであっても良い。
以上、本発明によれば、主として小寸法のネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティングを、簡単な方法で、かつ簡素な装置によって実現し、ネオジム鉄ボロン系磁石への損傷が少なく、人体及び環境に対する害を小さくすることができる。またコーティング作業効率を向上させることもできる。
１ 真空排気口
２ 回転軸
３ バレル
４ 攪拌フィン
５ 左ターゲット
６ 右ターゲット
７ 観察窓
８ アルゴンガス吸気口
９ 円筒形炉壁
１０ 後炉壁
１１ 炉ドア
１２ 底フレーム

Claims (6)

  1. ネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティング方法であって、
    脱脂酸洗浄後の前記ネオジム鉄ボロン系磁石と金属球又は非金属球とをバレル内に投入し、
    炉ドアを閉じて前記バレル内を６〜９×１０−３ｐａまで真空排気し、
    前記バレルを５〜２０回転／分の速度で回転させて前記ネオジム鉄ボロン系磁石と前記金属球又は非金属球とを均一に混合し、
    前記バレル内を３〜６×１０−３ｐａまで真空排気し、
    前記バレル内にアルゴンガスを注入して真空度を３〜６×１０−１ｐａとした後、ターゲットを開き、コーティングを開始する、
    ことを特徴とするネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティング方法。
  2. コーティング対象とする前記ネオジム鉄ボロン系磁石の外形サイズは、
    長さ及び幅方向がいずれも１５ｍｍ未満であり、かつ３方向の寸法差は１０ｍｍ未満である、
    ことを特徴とする請求項１に記載のネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティング方法。
  3. 前記金属球又は非金属球の直径は２〜６ｍｍであり、投入する前記金属球又は非金属球の重量は前記ネオジム鉄ボロン系磁石の重量の０．２５〜１．５倍である、
    ことを特徴とする請求項１又は２に記載のネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティング方法。
  4. 前記真空コーティング方法は、マルチアークイオンプレーティング、又はマグネトロンスパッタリングのいずれかである、
    ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティング方法。
  5. 請求項１ないし４のいずれか１項に記載のネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティング方法を実施するための装置であって、
    前記装置は、円筒形の炉壁を有する水平据え置き式であり、前記円筒形の炉壁の後方一端には後炉壁が設けられて炉体を構成し、前記炉体の下方には底フレームが設けられており、
    前記炉壁にはアルゴンガス吸気口と真空排気口が設けられ、
    前記炉壁の前記後炉壁と反対側には観察窓を有する炉ドアが設けられ、
    前記後炉壁にはバレルを回転駆動させるための回転軸が挿入されており、前記バレルは一端が密閉されたメッシュ構造であり、
    前記バレルは前記回転軸によって回転駆動し、
    前記バレルの内壁には攪拌フィンが設けられ、
    前記炉壁の左右両側には、そのターゲット面が前記バレルに正対する左ターゲット及び右ターゲットが設けられている、
    ことを特徴とするネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティング装置。
  6. 前記攪拌フィンは、二等辺三角形又は台形である、
    ことを特徴とする請求項５に記載のネオジム鉄ボロン系磁石表面の真空コーティング装置。

JP2015209944A 2014-11-05 2015-10-26 ネオジム鉄ボロン系磁石の表面真空コーティング方法及び真空コーティング装置 Pending JP2016089271A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410612086.3A CN104480440A (zh) 2014-11-05 2014-11-05 小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法及专用镀膜设备
CN201410612086.3 2014-11-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016089271A true JP2016089271A (ja) 2016-05-23

Family

ID=52755039

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015209944A Pending JP2016089271A (ja) 2014-11-05 2015-10-26 ネオジム鉄ボロン系磁石の表面真空コーティング方法及び真空コーティング装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10208376B2 (ja)
EP (1) EP3020848B1 (ja)
JP (1) JP2016089271A (ja)
CN (1) CN104480440A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016122862A (ja) * 2015-08-28 2016-07-07 ティアンヘ （パオトウ） アドヴァンスト テック マグネット カンパニー リミテッド 希土類永久磁石材料及びその製造方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105301358A (zh) * 2015-11-09 2016-02-03 上海卫星装备研究所 用于真空卷绕镀膜设备上的膜层电阻在线检测装置
CN105821381A (zh) * 2016-04-20 2016-08-03 爱发科东方真空(成都)有限公司 磁性材料真空镀膜装置
CN106086790B (zh) * 2016-06-08 2018-10-12 宁波威霖住宅设施有限公司 一种锌合金仿古铜真空镀膜方法
CN107937879B (zh) * 2017-11-30 2020-08-25 金力永磁(宁波)科技有限公司 一种钕铁硼磁体及钕铁硼磁体表面镀层的方法
CN108774730B (zh) * 2018-09-05 2024-03-15 北京丹普表面技术有限公司 一种用于真空镀膜的可移出式滚筒装置
CN109750261A (zh) * 2018-12-01 2019-05-14 温州职业技术学院 一种基于多个回转滚筒的真空镀膜装置
CN114481047B (zh) * 2022-01-26 2022-09-27 广东省新兴激光等离子体技术研究院 小尺寸工件镀膜装置、真空镀膜机及其镀膜方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0644007U (ja) * 1992-11-12 1994-06-10 日新電機株式会社 イオン注入装置
JPH09108654A (ja) * 1995-10-16 1997-04-28 Nisshin Steel Co Ltd 浄水用活性炭
JP2002088468A (ja) * 2000-07-10 2002-03-27 Sumitomo Special Metals Co Ltd 金属蒸着被膜における突起物生成の抑制方法
JP2002088467A (ja) * 2000-07-13 2002-03-27 Sumitomo Special Metals Co Ltd 乾式表面処理用装置およびこの装置を用いた乾式表面処理方法
JP2011216674A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Hitachi Metals Ltd 表面にアルミニウムまたはその合金の蒸着被膜を有する希土類系永久磁石の製造方法

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0644007A (ja) 1992-07-24 1994-02-18 Oki Electric Ind Co Ltd ポインティングデバイスカーソルの移動制御方法
US6355146B1 (en) * 1996-04-03 2002-03-12 The Regents Of The University Of California Sputtering process and apparatus for coating powders
EP0969483A4 (en) * 1998-01-23 2002-06-05 Hitachi Metals Ltd BOUND MAGNET, MAGNETIC COIL AND POWDER FERRITE FOR USE IN THEIR PREPARATION AND THEIR PRODUCTION PROCESS
JP3192642B2 (ja) 1998-10-02 2001-07-30 住友特殊金属株式会社 表面処理用支持部材、表面処理用ホルダー、並びに表面処理方法
JP2000133541A (ja) * 1998-10-23 2000-05-12 Sumitomo Special Metals Co Ltd 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法
JP2000269016A (ja) * 1999-03-18 2000-09-29 Namiki Precision Jewel Co Ltd 磁性材料粉末の表面処理方法
JP3801418B2 (ja) 1999-05-14 2006-07-26 株式会社Ｎｅｏｍａｘ 表面処理方法
JP2001073198A (ja) 1999-07-01 2001-03-21 Sumitomo Special Metals Co Ltd 電気めっき用装置および該装置を用いた電気めっき方法
JP4560971B2 (ja) 2000-03-23 2010-10-13 日立金属株式会社 蒸着被膜形成装置
EP1136587B1 (en) 2000-03-23 2013-05-15 Hitachi Metals, Ltd. Deposited-film forming apparatus
MY128139A (en) 2000-03-31 2007-01-31 Neomax Co Ltd Blasting apparatus
US6866765B2 (en) 2000-07-07 2005-03-15 Hitachi Metals, Ltd. Electrolytic copper-plated R-T-B magnet and plating method thereof
US6861089B2 (en) 2000-07-10 2005-03-01 Neomax Co. Ltd. Method of inhibiting production of projections in metal deposited-film
EP1172177B1 (en) * 2000-07-13 2004-10-20 Neomax Co., Ltd. Dry surface treating apparatus and dry surface treating method using the same apparatus
JP2003100537A (ja) 2001-09-27 2003-04-04 Sumitomo Special Metals Co Ltd 希土類系永久磁石の製造方法
JP3897724B2 (ja) 2003-03-31 2007-03-28 独立行政法人科学技術振興機構 超小型製品用の微小、高性能焼結希土類磁石の製造方法
KR20040052533A (ko) 2004-02-19 2004-06-23 황운학 탄소강에 질화티타늄 박막제조시, 복합 grain(TiNx)의표면밀도를 이용한 최대미소경도 박막 제조 방법
CN100343416C (zh) * 2005-07-26 2007-10-17 北京航空航天大学 微颗粒表面真空镀金属膜工艺及其设备
KR100701267B1 (ko) 2005-11-18 2007-03-29 한국생산기술연구원 저전류 구동형 펄스 아크 발생장치
CN101443862B (zh) 2006-03-31 2011-08-31 日立金属株式会社 稀土类永久磁铁的制造方法
US8163106B2 (en) 2007-05-09 2012-04-24 Hitachi Metals, Ltd. R-Fe-B based sintered magnet having on the surface thereof vapor deposited film of aluminum or alloy thereof, and method for producing the same
JP5056267B2 (ja) 2007-08-24 2012-10-24 日立金属株式会社 Ｍｇを含むＡｌ被膜を表面に有する希土類系永久磁石およびその製造方法
CN100582290C (zh) 2008-01-28 2010-01-20 河南理工大学 钕铁硼磁体表面磁控电弧离子镀不锈钢防护层的方法
JP4591631B2 (ja) 2008-07-30 2010-12-01 日立金属株式会社 耐食性磁石およびその製造方法
JP5381577B2 (ja) 2009-09-30 2014-01-08 日立金属株式会社 耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法
JP5423438B2 (ja) 2010-01-29 2014-02-19 日立金属株式会社 蒸着形成される金属被膜の緻密性を向上させる方法
CN101805893B (zh) * 2010-03-22 2012-05-16 北京航空航天大学 滚筒式样品台以及用其进行粉体颗粒的磁控溅射镀膜方法
US8480815B2 (en) * 2011-01-14 2013-07-09 GM Global Technology Operations LLC Method of making Nd-Fe-B sintered magnets with Dy or Tb
CN103160795A (zh) * 2011-12-19 2013-06-19 北京有色金属研究总院 用于粉体颗粒表面镀膜的对靶磁控溅射装置及镀膜方法
CN103854819B (zh) 2014-03-22 2016-10-05 沈阳中北通磁科技股份有限公司 一种钕铁硼稀土永磁器件的混合镀膜方法
CN103820765A (zh) * 2014-03-22 2014-05-28 沈阳中北真空设备有限公司 一种钕铁硼稀土永磁器件的复合镀膜设备及制造方法
CN103839641B (zh) * 2014-03-22 2016-10-05 沈阳中北真空设备有限公司 一种钕铁硼稀土永磁器件的混合镀膜设备及制造方法
CN204198844U (zh) * 2014-11-05 2015-03-11 烟台首钢磁性材料股份有限公司 小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜设备

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0644007U (ja) * 1992-11-12 1994-06-10 日新電機株式会社 イオン注入装置
JPH09108654A (ja) * 1995-10-16 1997-04-28 Nisshin Steel Co Ltd 浄水用活性炭
JP2002088468A (ja) * 2000-07-10 2002-03-27 Sumitomo Special Metals Co Ltd 金属蒸着被膜における突起物生成の抑制方法
JP2002088467A (ja) * 2000-07-13 2002-03-27 Sumitomo Special Metals Co Ltd 乾式表面処理用装置およびこの装置を用いた乾式表面処理方法
JP2011216674A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Hitachi Metals Ltd 表面にアルミニウムまたはその合金の蒸着被膜を有する希土類系永久磁石の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016122862A (ja) * 2015-08-28 2016-07-07 ティアンヘ （パオトウ） アドヴァンスト テック マグネット カンパニー リミテッド 希土類永久磁石材料及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP3020848B1 (en) 2018-07-11
CN104480440A (zh) 2015-04-01
US10208376B2 (en) 2019-02-19
EP3020848A1 (en) 2016-05-18
US20160122864A1 (en) 2016-05-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016089271A (ja) ネオジム鉄ボロン系磁石の表面真空コーティング方法及び真空コーティング装置
JP2016149536A (ja) Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面のアルミニウムめっき方法
CN104018133B (zh) 烧结钕铁硼磁体表面多弧离子镀制备多层复合防护涂层的工艺
ES2526658T3 (es) Proceso para la formación de capas de protección frente a la corrosión sobre superficies metálicas
CN105386000B (zh) 钕铁硼永磁材料的表面处理方法及其制品
TWI426144B (zh) Sputtering apparatus and sputtering film forming method
CN101736304B (zh) 钕铁硼永磁体表面真空镀铝方法
JP2016149535A (ja) 複合被膜を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石、及びＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面の複合被膜形成方法
CN102808168B (zh) 一种微弧氧化多孔膜改性镁基表面室温化学镀镍的方法
CN101845653B (zh) 一种磁场作用下微弧氧化膜层的制备方法
JP2016089270A (ja) ネオジム鉄ボロン系磁石表面への硬質アルミニウム被膜の形成方法、及び当該硬質アルミニウム被膜を有するネオジム鉄ボロン系磁石
CN104651779A (zh) 一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备及镀膜工艺
CN204198844U (zh) 小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜设备
CN110965034B (zh) 一种高熵合金靶材制备装置
CN108231394B (zh) 一种高矫顽力钕铁硼磁体的低温制备方法
MX2013012200A (es) Metodo de pulverizacion catódica por magnetron de impulso de alta potencia que proporciona la ionizacion mejorada de las particulas obtenidas por pulverización catódica y aparato para su implementacion.
JP2011153373A5 (ja) 薄膜形成装置
CN107799291A (zh) 一种具有电镀层的锰铋永磁材料的制备方法
TWI481734B (zh) A sputtering film forming method for a workpiece having a three-dimensional shape, and a device for use therefor
CN106947950A (zh) 一种利用率高的新型靶材系统及其使用方法
CN110484887A (zh) 一种稀土永磁体表面快速真空镀铝方法
WO2023070645A1 (zh) 一种石墨烯-硅烷处理剂、制备方法及其应用
CN210176945U (zh) 一种真空磁控旋转双面镀膜夹具
CN110983334A (zh) 一种钕铁硼磁体复合镀镍方法
CN204474746U (zh) 一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160908

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160915

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161208

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170322