JP2003100537A - 希土類系永久磁石の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ピックアップ用部品などに使用される小型
の希土類系永久磁石に対しても磁気特性の減少などを招
くことなく、優れた特性を持った耐食性被膜としての金
属蒸着被膜をその表面に形成することができる希土類系
永久磁石の製造方法を提供すること。 【解決手段】 面と面とで形成される角部を曲率半径が
３０μｍ〜３００μｍのＲ面状とした多面体の希土類系
永久磁石に対して蒸着処理を行い、その表面に金属蒸着
被膜を形成することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ピックアップ用
部品などに使用される小型の希土類系永久磁石に対して
も磁気特性の減少などを招くことなく、優れた特性を持
った耐食性被膜としての金属蒸着被膜をその表面に形成
することができる希土類系永久磁石の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に代表される
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石などの希土類系永久磁石は、高
い磁気特性を有していることから、今日様々な分野で使
用されている。しかしながら、希土類系永久磁石は、大
気中で酸化腐食されやすい希土類元素：Ｒを含む。それ
故、表面処理を行わずに使用した場合には、わずかな酸
やアルカリや水分などの影響によって表面から腐食が進
行して錆が発生し、それに伴って、磁気特性の劣化やば
らつきを招くことになる。さらに、磁気回路などの装置
に組み込んだ磁石に錆が発生した場合、錆が飛散して周
辺部品を汚染する恐れがある。そこで、上記の点に鑑
み、希土類系永久磁石に耐食性を付与することを目的と
して、各種の耐食性被膜をその表面に形成する方法が提
案され、既に実用に供されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】希土類系永久磁石の表
面に形成される耐食性被膜の代表的なものとしては樹脂
被膜と金属めっき被膜が挙げられる。これらは希土類系
永久磁石に一定の耐食性を付与することができる点にお
いて優れたものである。しかしながら、希土類系永久磁
石の表面に樹脂被膜を形成する場合、一般にはスプレー
塗装法やディップ塗装法が採用されるが、このような方
法では面と面とで形成される角部に十分な膜厚の被膜を
形成することができない。かなりの程度（例えば曲率半
径にして５００μｍ程度）の角部除去を行えば、この問
題を解消することも可能であるが、これ程の角部除去を
行うと磁極面（磁石の着磁方向に垂直な面）の面積が自
ずと減少することになるので小型の磁石に適用した場合
には無視し得ないほどの磁気特性の減少を招くことにな
り望ましくない。また、希土類系永久磁石の表面に電気
めっき処理によって金属めっき被膜を形成する場合、面
と面とで形成される角部に電流密度が集中してその部分
でめっき太りを起してしまい、磁石の平面性を損なう結
果を招くことがある。磁石の平面性が損なわれている
と、磁石と磁石が組み込まれる部品とを接着剤を使用し
て固定しようとした場合、接着剤層の厚みが厚くなりす
ぎたり、接着剤が十分に硬化しなかったりして、結果と
して満足な接着強度が得られないことにつながる。従っ
て、磁石の角部除去は必須の工程であるが、小型の磁石
の角部をかなりの程度に除去した場合、前述の通り、無
視し得ないほどの磁気特性の減少を招くことになり望ま
しくない。また、小型の磁石の表面に金属めっき被膜を
形成する場合には、通常、バレルめっき法が採用される
が、磁石に対して適度な角部除去を行ったとしても、バ
レルめっき法によって角部のめっき太りを抑制して磁石
の平面性を損なわない金属めっき被膜を形成することは
条件設定などの点において必ずしも容易なことではな
い。従って、特許第２６１２４９４号公報には角部を除
去して曲率半径が１００μｍ以上の曲面状にしたプラス
チック磁石に金属めっき被膜を形成する方法が記載され
ているが、この方法を採用した場合においてもバレルめ
っき法による場合は満足した結果を得ることは困難であ
る。そこで本発明は、光ピックアップ用部品などに使用
される小型の希土類系永久磁石に対しても磁気特性の減
少などを招くことなく、優れた特性を持った耐食性被膜
としての金属蒸着被膜をその表面に形成することができ
る希土類系永久磁石の製造方法を提供することを目的と
する。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の点
に鑑みて種々の検討を行った結果、面と面とで形成され
る角部が所定の寸法で除去された希土類系永久磁石に対
して真空蒸着法やイオンプレーティング法などによる蒸
着処理を行い、その表面に密着性に優れた金属蒸着被膜
を形成することで、上記の目的を達成することができる
ことを見出した。

【０００５】本発明は、上記の知見に基づいてなされた
ものであり、本発明の希土類系永久磁石の製造方法は、
請求項１記載の通り、面と面とで形成される角部を曲率
半径が３０μｍ〜３００μｍのＲ面状とした多面体の希
土類系永久磁石に対して蒸着処理を行い、その表面に金
属蒸着被膜を形成することを特徴とする。また、請求項
２記載の製造方法は、請求項１記載の製造方法におい
て、曲率半径が１００μｍ以下であることを特徴とす
る。また、請求項３記載の製造方法は、請求項１または
２記載の製造方法において、金属蒸着被膜の膜厚が１μ
ｍ〜１５μｍであることを特徴とする。また、請求項４
記載の製造方法は、請求項１乃至３のいずれかに記載の
製造方法において、金属蒸着被膜がアルミニウム蒸着被
膜であることを特徴とする。また、請求項５記載の製造
方法は、請求項１乃至４のいずれかに記載の製造方法に
おいて、形成された金属蒸着被膜に対してピーニング処
理を行うことを特徴とする。また、請求項６記載の製造
方法は、請求項１乃至５のいずれかに記載の製造方法に
おいて、希土類系永久磁石の磁極面の面積が１ｍｍ²〜
２５０ｍｍ²であることを特徴とする。また、本発明の
金属蒸着被膜をその表面に有する希土類系永久磁石は、
請求項７記載の通り、請求項１乃至６のいずれかに記載
の方法で製造されたことを特徴とする。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明の希土類系永久磁石の製造
方法は、面と面とで形成される角部を曲率半径が３０μ
ｍ〜３００μｍのＲ面状とした多面体の希土類系永久磁
石に対して蒸着処理を行い、その表面に金属蒸着被膜を
形成することを特徴とするものである。

【０００７】本発明の希土類系永久磁石の製造方法は、
面と面とで形成される角部を有する多面体の希土類系永
久磁石、例えば、立方状、板状、弓状、円柱状、円盤
状、リング状などの希土類系永久磁石に対して適用する
ことができる。

【０００８】本発明において、角部除去の程度を曲率半
径にして３０μｍ以上と規定するのは、角部除去の程度
が３０μｍ未満であると角部除去の効果が発揮されず、
角部に十分な膜厚の金属蒸着被膜を形成することができ
ない恐れがあるからである。一方、角部除去の程度を曲
率半径にして３００μｍ以下と規定するのは、磁極面の
面積が小さい磁石（例えば１ｍｍ²〜２５０ｍｍ²程度）
に対して３００μｍを超える角部除去を行った場合、無
視し得ないほどの磁気特性の減少を招く恐れがあるから
である。磁気特性の減少の問題を優先して考慮した場
合、角部除去の程度は曲率半径にして１００μｍ以下と
することがより望ましい。

【０００９】面と面とで形成される角部を曲率半径が３
０μｍ〜３００μｍのＲ面状とする具体的な方法として
は、バレル装置の処理室に、希土類系永久磁石と、適
宜、研磨剤や研磨メディアを収容し、これらに振動およ
び／または攪拌を加える方法が挙げられる。この方法に
よれば一度に大量の磁石の処理が可能となるので都合が
よい。バレル装置は、回転式をはじめ、振動式や、遠心
式など、公知の装置を使用することができる。処理条件
はバレル装置の種類や大きさ、磁石の形状や大きさ、研
磨剤や研磨メディアの使用の有無、使用する場合にはそ
の材質や大きさなどを考慮して適宜設定される。なお、
処理時間に関しては、処理室内での磁石同士の衝突に起
因する磁石の割れ欠けをできる限り抑制するために、１
０時間以内とすることが望ましく、５時間以内とするこ
とがより望ましい。なお、角部除去の方法は上記の方法
に限定されるものではなく、個々の希土類系永久磁石に
対して切削を行う方法などであってもよい。

【００１０】バレル装置を使用して希土類系永久磁石の
角部除去を行う際、処理時の磁石の発錆を抑制するため
に、有機酸塩やアルカノールアミンなどを成分として含
む防錆剤を処理室内に添加する場合がある。このような
防錆剤を使用して磁石の角部除去を行った後は、磁石表
面に付着している有機成分などを除去するためにブラス
ト処理を行うことが望ましい。有機成分などは角部除去
がされたＲ面状部分に特に残存しやすく、後の工程でこ
れらを洗浄により除去しようとしても除去しきれないこ
とがあり、これらが付着したままの状態で蒸着処理を行
った場合、付着成分が気化して金属蒸着被膜の形成に悪
影響を及ぼし、均一かつ密着性に優れた金属蒸着被膜を
形成することができなくなる恐れがあるからである。な
お、このブラスト処理は磁石表面を清浄化するために通
常行われる条件に従って行えばよいが、投射材の投射に
よって所定のＲ面状部分が損傷を受けることがないよう
に、投射材としては粒径２５０μｍ以下の不定形セラミ
ックス粒子からなるものを使用することが望ましい。

【００１１】以上のようにして角部除去の処理がなされ
た希土類系永久磁石に対して蒸着処理を行い、その表面
に金属蒸着被膜を形成する。蒸着処理方法としては、形
成される金属蒸着被膜の緻密性、膜厚の均一性、被膜形
成速度などの観点から、真空蒸着法やイオンプレーティ
ング法を採用することが望ましい。なお、金属蒸着被膜
を形成する前工程として、磁石表面に対してスパッタリ
ングなどによる自体公知の表面清浄化処理を施してもよ
い。

【００１２】蒸着処理条件に特段の制限はないが、被膜
形成時の磁石の温度は１００℃〜５００℃に設定するこ
とが望ましく、１５０℃〜３５０℃に設定することがよ
り望ましい。１００℃未満では磁石表面に対して優れた
密着性を有する金属蒸着被膜が形成されない恐れがある
一方、５００℃を超えると被膜形成後の冷却過程で金属
蒸着被膜に亀裂が発生してしまって被膜が磁石から剥離
する恐れや、磁気特性の劣化を招く恐れがあるからであ
る。また、形成された被膜表面に突起物が生成したり傷
がついたりして磁石の平面性が損なわれたり、耐食性に
悪影響を及ぼしたりする恐れがあるからである。特に、
アルミニウムや亜鉛などの軟質金属からなる蒸着被膜を
バレル内に磁石を収容してその表面に形成する場合、磁
石が必要以上に加熱されて高温となると形成された蒸着
被膜が軟化し易くなるとともに、磁石がバレル内で攪拌
されることにより、その角部に形成された蒸着被膜が優
先的に衝撃を受けて損傷を受けやすくなる。従って、磁
石の温度の管理は重要である。

【００１３】以上のような方法によって形成される金属
蒸着被膜の膜厚は、１μｍ未満であると被膜自体が優れ
た耐食性を発揮できない恐れがある一方、１５μｍを越
えると、製造コストの上昇を招く恐れがあるだけでな
く、磁石の有効体積が小さくなる恐れがあり、特に小型
の磁石の場合において、所望する磁気特性が得られなく
なる恐れがある。従って、その膜厚は１μｍ〜１５μｍ
が望ましく、３μｍ〜１０μｍがより望ましい。

【００１４】以上のような方法によって形成される金属
蒸着被膜としては、希土類系永久磁石中の希土類元素と
強固な結合層を形成し、優れた密着性を有するアルミニ
ウム、チタン、これらの金属成分を含む合金（例えば、
アルミニウム−マグネシウム合金、チタン−ニッケル合
金、チタン−銅合金など）からなる蒸着被膜が望まし
く、中でも、部品組み込み時に必要とされる接着剤との
接着信頼性に優れている（接着剤が本質的に有する破壊
強度に達するまでに被膜と接着剤との間で剥離が生じに
くい）アルミニウム蒸着被膜がより望ましい。

【００１５】金属蒸着被膜を形成した後、金属蒸着被膜
に対して自体公知のピーニング処理を行い、角部に形成
された金属蒸着被膜の硬度の向上を図ることが望まし
い。特に、金属蒸着被膜としてアルミニウム蒸着被膜を
形成した場合、ピーニング処理は有益である。なぜな
ら、アルミニウム蒸着被膜は硬度が高くないので、光ピ
ックアップ用部品などに組み込まれる際の取扱によって
は角部における被膜損傷が起りやすく、その結果、角部
から発錆を招くこともあるので、このような事態が起ら
なくするために被膜硬度の向上を図ることは重要である
からである。なお、金属蒸着被膜をピーニング処理する
ことよって形成されるピーニング層の厚みは十分な被膜
硬度を確保するためには１μｍ以上とすることが望まし
い。

【００１６】

【実施例】本発明を以下の実施例によってさらに詳細に
説明するが、本発明は以下の記載に何ら限定されるもの
ではない。

【００１７】実験Ａ： （１）サンプル１の製造 １２．３Ｎｄ−７３．３Ｆｅ−７．３Ｂ−３．９Ｃｏ−
２．２Ｄｙ−０．２Ｃｕ−０．７Ａｌ組成（ａｔ％）の
鋳造インゴットを粉砕した後、さらに微粉砕して得られ
る合金粉末を磁界中で加圧成形して成形体とし、これを
焼結、熱処理、切断加工して直径１１ｍｍ×高さ２ｍｍ
の円盤状の磁石体（磁極面の面積は９５ｍｍ²）を得
た。この磁石体をタンブラー型ブラスト加工装置の開口
部を有するドラム内に投入し、投射材としてアランダム
Ａ♯１８０（商品名：新東ブレーター社製でＪＩＳ粒度
♯１８０相当）を使用し、ドラムを回転させながら２０
分間ブラスト処理を行って磁石体表面を清浄化した。蒸
着装置（真空槽内容積が２．２ｍ³で、内部に直径３５
５ｍｍ×長さ１２００ｍｍのステンレス製メッシュ金網
で作製された円筒形バレルを真空槽内に左右平行に２個
有し、円筒形バレルを回転させるとともに、ワイヤー状
金属蒸着材料を溶融蒸発部に連続供給しながら蒸着処理
が行えるもの：特開２００１−３２０６２号公報の図１
と同様の構成）の各円筒形バレルに磁石体を９０００個
ずつ、２個の円筒形バレルで磁石体を合計１８０００個
収容し、真空槽内を全圧が１．０×１０^-3Ｐａ以下にな
るまで真空排気した後、アルゴンガスを真空槽内の全圧
が１Ｐａになるように導入した。その後、バレルの回転
軸を１．５ｒｐｍで回転させながら、バイアス電圧−５
００Ｖの条件下、１５分間グロー放電によるスパッタリ
ングを行って磁石体表面を清浄化した。続いて、バレル
の回転軸を１．５ｒｐｍで回転させながら、アルゴンガ
ス圧１Ｐａ、バイアス電圧−１００Ｖの条件下、蒸着材
料としてアルミニウムワイヤーを用い、これを加熱して
イオン化し、２０分間イオンプレーティング法にて磁石
体表面に膜厚が７μｍのアルミニウム蒸着被膜を形成し
た。以上のようにして得られたアルミニウム蒸着被膜を
表面に有する磁石体をブラスト加工装置に投入し、Ｎ₂
ガスからなる加圧気体とともに、投射材としてのガラス
ビーズ（新東ブレーター社製：ＧＢ−ＡＧ）を、投射圧
０．２ＭＰａにて１５分間噴射して、ピーニング処理を
行った。こうして得られたピーニング処理が行われたア
ルミニウム蒸着被膜を表面に有する磁石体をサンプル１
とした。

【００１８】（２）サンプル２の製造 サンプル１を得るために使用した直径１１ｍｍ×高さ２
ｍｍの円盤状の磁石体と同じ磁石体を処理室内容積が１
２０Ｌの回転式バレル装置に収容するとともに、ＪＩＳ
粒度♯１５０相当の研磨剤と研磨メディアとして１０φ
アルミナ製ボールも収容し、バレル回転数を２５ｒｐｍ
とし、研磨時間を適宜設定することで磁石体の角部除去
を行い、角部を曲率半径が４０μｍのＲ面状とした磁石
体を得た（角部の曲率半径は磁石体断面の光学顕微鏡観
察を行うことにより求めた）。この際、防錆剤として有
機酸塩、アルカノールアミンなどを成分として含むＴＫ
Ｘコンパウンド♯８０７Ｂ（共栄社化学社製）の１０重
量％水溶液を使用した。以上のようにして得られた磁石
体を回転式バレル装置から取り出した後、バレルめっき
などで使用される回転バレル処理室に収容してバレルを
洗浄液に浸漬し、バレルを回転させることによって磁石
体を攪拌しながら洗浄した。この際、洗浄液としてエタ
ノールアミンなどを成分として含むＰＣ−１２０（扶桑
化学工業社製）の２容量％水溶液を使用した。その後、
乾燥温度１００℃、最大回転数５００ｒｐｍの遠心乾燥
条件下で磁石体を乾燥させた。以上のようにして得られ
た磁石体をタンブラー型ブラスト加工装置の開口部を有
するドラム内に投入し、投射材としてアランダムＡ♯１
８０（商品名：新東ブレーター社製でＪＩＳ粒度♯１８
０相当）を使用し、ドラムを回転させながら２０分間ブ
ラスト処理を行って磁石体表面を清浄化した。以上のよ
うにして得られた磁石体に対してサンプル１を得る方法
と同様の方法にて蒸着処理とピーニング処理を行い、そ
の表面に膜厚が７μｍのアルミニウム蒸着被膜を形成し
た後、アルミニウム蒸着被膜に対してピーニング処理を
行った。こうして得られたピーニング処理が行われたア
ルミニウム蒸着被膜を表面に有する磁石体をサンプル２
とした。

【００１９】（３）サンプル３の製造 角部を曲率半径が１００μｍのＲ面状としたこと以外は
サンプル２を得る方法と同様の方法にてピーニング処理
が行われたアルミニウム蒸着被膜を表面に有する磁石体
を得、これをサンプル３とした。

【００２０】（４）サンプル４の製造 角部を曲率半径が３００μｍのＲ面状としたこと以外は
サンプル２を得る方法と同様の方法にてピーニング処理
が行われたアルミニウム蒸着被膜を表面に有する磁石体
を得、これをサンプル４とした。

【００２１】（５）サンプル５の製造 角部を曲率半径が６００μｍのＲ面状としたこと以外は
サンプル２を得る方法と同様の方法にてピーニング処理
が行われたアルミニウム蒸着被膜を表面に有する磁石体
を得、これをサンプル５とした。

【００２２】（６）評価試験 サンプル１〜サンプル５について、温度８０℃×相対湿
度９０％の高温高湿度条件下に５００時間放置して発錆
の有無を観察するという耐食性試験を行った（ｎ＝１
０）。また、パルス磁場により着磁した各サンプルから
発生する磁束（ΦＯｐｅｎ）を測定してその平均値を求
めた（ｎ＝１０）。結果を表１に示す。

【００２３】

【表１】

【００２４】表１から明らかなように、サンプル１は角
部除去を行っていないので磁気特性の減少は見られなか
ったが、角部に十分な膜厚のアルミニウム蒸着被膜を形
成することができなかったことから１０個中８個のサン
プルにおいて角部からの発錆が認められた。一方、サン
プル５は十分な角部除去を行ったことから全てのサンプ
ルが耐食性試験を合格したが、磁極面の面積が小さくな
りすぎて磁気特性の減少が顕著であった。以上の結果か
ら、角部除去の程度は曲率半径にして３０μｍ〜３００
μｍとするのが適切であることがわかった。

【００２５】実施例１：１４Ｎｄ−７９Ｆｅ−６Ｂ−１
Ｃｏ組成（ａｔ％）の鋳造インゴットを粉砕した後、さ
らに微粉砕して得られる合金粉末を磁界中で加圧成形し
て成形体とし、これを焼結、熱処理、切断加工して直径
９ｍｍ×高さ３ｍｍの円盤状の磁石体（磁極面の面積は
６４ｍｍ²）を得た。この磁石体を処理室内容積が１２
０Ｌの回転式バレル装置に収容するとともに、ＪＩＳ粒
度♯１５０相当の研磨剤と研磨メディアとして１０φア
ルミナ製ボールも収容し、バレル回転数を２５ｒｐｍと
し、研磨時間を適宜設定することで磁石体の角部除去を
行い、角部を曲率半径が１００μｍのＲ面状とした磁石
体を得た。この際、防錆剤として有機酸塩、アルカノー
ルアミンなどを成分として含むＴＫＸコンパウンド♯８
０７Ｂ（共栄社化学社製）の１０重量％水溶液を使用し
た。以上のようにして得られた磁石体を回転式バレル装
置から取り出した後、バレルめっきなどで使用される回
転バレル処理室に収容してバレルを洗浄液に浸漬し、バ
レルを回転させることによって磁石体を攪拌しながら洗
浄した。この際、洗浄液としてエタノールアミンなどを
成分として含むＰＣ−１２０（扶桑化学工業社製）の２
容量％水溶液を使用した。その後、乾燥温度１００℃、
最大回転数５００ｒｐｍの遠心乾燥条件下で磁石体を乾
燥させた。以上のようにして得られた磁石体をタンブラ
ー型ブラスト加工装置の開口部を有するドラム内に投入
し、投射材としてアランダムＡ♯１８０（商品名：新東
ブレーター社製でＪＩＳ粒度♯１８０相当）を使用し、
ドラムを回転させながら２０分間ブラスト処理を行って
磁石体表面を清浄化した。蒸着装置（真空槽内容積が
２．２ｍ³で、内部に直径３５５ｍｍ×長さ１２００ｍ
ｍのステンレス製メッシュ金網で作製された円筒形バレ
ルを真空槽内に左右平行に２個有し、円筒形バレルを回
転させるとともに、ワイヤー状金属蒸着材料を溶融蒸発
部に連続供給しながら蒸着処理が行えるもの：特開２０
０１−３２０６２号公報の図１と同様の構成）の各円筒
形バレルに磁石体を９０００個ずつ、２個の円筒形バレ
ルで磁石体を合計１８０００個収容し、真空槽内を全圧
が１．０×１０^-3Ｐａ以下になるまで真空排気した後、
アルゴンガスを真空槽内の全圧が１Ｐａになるように導
入した。その後、バレルの回転軸を１．５ｒｐｍで回転
させながら、バイアス電圧−５００Ｖの条件下、１５分
間グロー放電によるスパッタリングを行って磁石体表面
を清浄化した。続いて、バレルの回転軸を１．５ｒｐｍ
で回転させながら、アルゴンガス圧１Ｐａ、バイアス電
圧−１００Ｖの条件下、蒸着材料としてアルミニウムワ
イヤーを用い、これを加熱してイオン化し、３０分間イ
オンプレーティング法にて磁石体表面にアルミニウム蒸
着被膜を形成した。以上のようにして得られたアルミニ
ウム蒸着被膜を表面に有する磁石体をブラスト加工装置
に投入し、Ｎ₂ガスからなる加圧気体とともに、投射材
としてのガラスビーズ（新東ブレーター社製：ＧＢ−Ａ
Ｇ）を、投射圧０．２ＭＰａにて１５分間噴射して、ピ
ーニング処理を行い、ピーニング処理が行われたアルミ
ニウム蒸着被膜を表面に有する磁石体を得た。ピーニン
グ処理が行われたアルミニウム蒸着被膜についてその膜
厚を電子顕微鏡による断面観察によって測定してその平
均値を求めたところ（ｎ＝１０）、円盤状の平面部分に
形成された被膜の膜厚は１０．５μｍであり、角部に形
成された被膜の膜厚は１０．１μｍであった。また、ピ
ーニング処理により形成されたピーニング層の厚みはい
ずれの部分においても４μｍ〜５μｍであった。以上の
結果から、アルミニウム蒸着被膜は磁石体全面に均一な
膜厚で形成されていることがわかった。

【００２６】比較例１：実施例１と同様にして直径９ｍ
ｍ×高さ３ｍｍの円盤状の磁石体の角部を曲率半径が１
００μｍのＲ面状とし、洗浄を行った後、遠心乾燥条件
下で乾燥させた。断面形状が一辺が４５ｍｍの正六角形
で長さが１６ｃｍの耐熱プラスチック製バレル治具に磁
石体２００個と見かけ容量０．４Ｌの直径２ｍｍのスチ
ールボールを収容した。このバレル治具を硝酸ナトリウ
ム０．２ｍｏｌ／Ｌと硫酸１．５ｖｏｌ％を含んだ液温
３０℃の酸洗液に浸漬し、５ｒｐｍの回転速度で回転さ
せながら４分間酸洗した。その後、直ちに導電率が１μ
Ｓ／ｃｍ以下のイオン交換水で３０秒間超音波洗浄して
から速やかにニッケルめっき被膜形成工程に移った。硫
酸ニッケル・６水和物１５０ｇ／Ｌ、クエン酸アンモニ
ウム５０ｇ／Ｌ、ホウ酸１５ｇ／Ｌ、塩化アンモニウム
８ｇ／Ｌ、サッカリン３ｇ／Ｌを含み、アンモニア水で
ｐＨを６．５に調整した液温５０℃のめっき浴を使用
し、バレルを５ｒｐｍの回転速度で回転させながら電流
密度０．２Ａ／ｄｍ²で１５分間処理をして磁石体表面
に第一層ニッケルめっき被膜を形成した。次に、硫酸ニ
ッケル・６水和物２４０ｇ／Ｌ、塩化ニッケル・６水和
物４５ｇ／Ｌ、ホウ酸３０ｇ／Ｌ、２−ブチン−１，４
−ジオール０．２ｇ／Ｌ、サッカリン１ｇ／Ｌを含み、
炭酸ニッケルでｐＨを４．２に調整した液温５０℃のめ
っき浴を使用し、バレルを５ｒｐｍの回転速度で回転さ
せながら電流密度０．２Ａ／ｄｍ²で８５分間処理をし
て第一層ニッケルめっき被膜表面に第二層ニッケルめっ
き被膜を形成した。以上の積層ニッケルめっき被膜形成
工程を行った後、導電率が１μＳ／ｃｍでｐＨが７．１
の純水にバレルを浸漬して表面に積層ニッケルめっき被
膜が形成された磁石体を十分に水洗した。その後、これ
をバレル治具から取り出し、さらに導電率が１μＳ／ｃ
ｍでｐＨが７．１の純水で９０秒間超音波洗浄してから
遠心乾燥機に収容し、温度８０℃で回転数６００ｒｐｍ
という条件下で遠心乾燥を６分間行って積層ニッケルめ
っき被膜を表面に有する磁石体を得た。形成された積層
ニッケルめっき被膜についてその膜厚を電子顕微鏡によ
る断面観察によって測定してその平均値を求めたところ
（ｎ＝１０）、円盤状の平面部分に形成された積層めっ
き被膜全体の膜厚は１０．５μｍであり、角部に形成さ
れた積層めっき被膜全体の膜厚は３６．２μｍであっ
た。以上の結果から、角部除去を曲率半径にして１００
μｍ程度行っただけでは角部への電流密度の集中を抑制
することができず、その部分でめっき太りを起してしま
うことがわかった。

【００２７】比較例２：実施例１と同様にして直径９ｍ
ｍ×高さ３ｍｍの円盤状の磁石体の角部を曲率半径が１
００μｍのＲ面状とし、洗浄を行った後、遠心乾燥条件
下で乾燥させた。以上のようにして得られた磁石体を金
属網の上に載せ、トルエンを溶剤とするエポキシ樹脂塗
料を磁石体の片面ずつスプレー塗装した後、１５０℃で
２時間加熱処理を行い、エポキシ樹脂塗装被膜を表面に
有する磁石体を得た。形成されたエポキシ樹脂塗装被膜
についてその膜厚を電子顕微鏡による断面観察によって
測定してその平均値を求めたところ（ｎ＝１０）、円盤
状の平面部分に形成された被膜の膜厚は１０．８μｍで
あり、角部に形成された被膜の膜厚は４．８μｍであっ
た。以上の結果から、角部除去を曲率半径にして１００
μｍ程度行っただけでは角部に十分な膜厚の被膜を形成
することができないことがわかった。

【００２８】評価試験：実施例１の磁石体と比較例１の
磁石体と比較例２の磁石体について、温度８０℃×相対
湿度９０％の高温高湿度条件下に５００時間放置して発
錆の有無を観察するという耐食性試験を行った（ｎ＝１
０）。また、各々の磁石体について、接着強度を次のよ
うに測定してその平均値を求めた（ｎ＝１０）。接着面
をＪＩＳＲ６００１規定の♯１００の砥粒を有するダイ
ヤモンド砥石を用いて研磨した鋳鉄（Ｓ４５Ｃ）製の４
０ｍｍ×５０ｍｍ×６０ｍｍ寸法の治具に磁石体を次の
ようにして接着した。即ち、接着面にシアノアクリレー
ト系接着剤（ロックタイト４０６：ヘンケルジャパン社
製）を塗布した磁石体を治具の接着面の上に載置し、磁
石体の上から４ｋｇｆ（３９．２Ｎ）の加重を１０秒間
かけて両者を圧着した。なお、磁石体の接着面への接着
剤の塗布は圧着時に圧着部分周囲から接着剤がはみ出る
程度にまで行い、室温（２５℃）にて２４時間放置する
ことにより接着剤を硬化させた。以上のようにして治具
に接着させた磁石体を万能試験機（ＡＵＴＯ ＧＲＡＰ
Ｈ ＡＧ−１０ＴＢ：島津製作所社製）にセットし、せ
ん断強度２ｍｍ／分の条件下にて磁石体が治具から脱離
する時の加重を測定し、この値を磁石体の接着面の表面
積（６４ｍｍ²）で除することによりせん断接着強度を
求め、この値を接着強度とした。結果を表２に示す。

【００２９】

【表２】

【００３０】表２から明らかなように、実施例１の磁石
体は耐食性の点においても接着強度の点においても優れ
た特性を示した。しかしながら、比較例１の磁石体は耐
食性の点においては優れていたものの、角部における電
流密度の集中によるめっき太りによって磁石の平面性が
損なわれてしまった結果、接着剤が十分に硬化しなかっ
たことから接着強度が劣っていた。比較例２の磁石体は
角部に十分な膜厚の被膜を形成することができなかった
ことから１０個中３個の磁石体において角部からの発錆
が認められた。また、接着強度も実施例１の磁石体に比
して劣っていた。

【００３１】

【発明の効果】本発明の希土類系永久磁石の製造方法に
よれば、光ピックアップ用部品などに使用される小型の
希土類系永久磁石に対しても磁気特性の減少などを招く
ことなく、優れた特性を持った耐食性被膜としての金属
蒸着被膜をその表面に形成することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4K029 AA02 AA22 BA03 BC01 CA03 EA01 GA00 5E040 AA04 CA01 HB14 HB17 NN01 NN05 5E062 CD04 CG07

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 面と面とで形成される角部を曲率半径が
   ３０μｍ〜３００μｍのＲ面状とした多面体の希土類系
   永久磁石に対して蒸着処理を行い、その表面に金属蒸着
   被膜を形成することを特徴とする希土類系永久磁石の製
   造方法。
2. 【請求項２】 曲率半径が１００μｍ以下であることを
   特徴とする請求項１記載の製造方法。
3. 【請求項３】 金属蒸着被膜の膜厚が１μｍ〜１５μｍ
   であることを特徴とする請求項１または２記載の製造方
   法。
4. 【請求項４】 金属蒸着被膜がアルミニウム蒸着被膜で
   あることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載
   の製造方法。
5. 【請求項５】 形成された金属蒸着被膜に対してピーニ
   ング処理を行うことを特徴とする請求項１乃至４のいず
   れかに記載の製造方法。
6. 【請求項６】 希土類系永久磁石の磁極面の面積が１ｍ
   ｍ²〜２５０ｍｍ²であることを特徴とする請求項１乃至
   ５のいずれかに記載の製造方法。
7. 【請求項７】 請求項１乃至６のいずれかに記載の方法
   で製造されたことを特徴とする金属蒸着被膜をその表面
   に有する希土類系永久磁石。