JP2016075562A - 力学量センサおよび力学量測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の実施形態における圧力センサは、導電性を有し、外力に応じて撓む可撓部と、可撓部に対向して配置され、可撓部と容量を形成する固定電極と、可撓部の固定電極側に配置されたストッパと、を備え、ストッパおよび固定電極は、ビッカース硬さが0.5GPa以上の金属が表面に配置されていることを特徴とする。また、別の実施形態における圧力センサは、導電性を有し、外力に応じて撓む可撓部と、可撓部に対向して配置され、可撓部と容量を形成する固定電極と、固定電極の可撓部側に配置されたストッパと、を備え、ストッパは、ビッカース硬さが0.5GPa以上の金属が表面に配置されていることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の第1実施形態に係る圧力センサについて、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本発明の実施形態の一例であって、本発明はこれらの実施形態に限定して解釈されるものではない。なお、本実施形態で参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号(数字の後にA、B等を付しただけの符号)を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なったり、構成の一部が図面から省略されたりする場合がある。
図1は、本発明の第1実施形態に係る圧力センサの構造および外部圧力に応じた動作を説明するための断面構造の模式図である。圧力センサ1は、第1基板10および第2基板20を組み合わせて形成されている。この例では、第1基板10はSOI(Silicon on Insulator)基板である。第2基板20はガラス基板である。
続いて、スティッキング現象について、図2を用いて説明する。
圧力センサ1は、第1基板10と第2基板20とが接合されて形成される。第1基板10および第2基板20のそれぞれは、以下に説明する所定の製造工程を経てから接合される。
図5は、本発明の第1実施形態に係る圧力センサの第1基板の製造方法を説明するための断面構造の模式図である。まず、図5(a)に示す第1基板10を準備する。第1基板10は、シリコンの活性層15および支持層17を備え、さらに、これらに挟まれた酸化シリコンのBOX層13を備えるSOI基板である。少なくとも活性層15は導電性を有している。
図6は、本発明の第1実施形態に係る圧力センサの第2基板の製造方法を説明するための断面構造の模式図である。図6(a)に示すように、第2基板20には、導電材料(例えば、タングステン等)の貫通電極213、215が形成されている。この貫通電極213、215は、ガラス基板に貫通孔を形成し、導電材料を貫通孔に埋め込むことにより形成される。
このように形成された第1基板10と第2基板20とは、第1基板10のストッパ155と第2基板20の電極255とを、真空雰囲気下で対向させて接合される。第1基板10がシリコンであり、第2基板20がガラスであるため、この接合は、例えば、陽極接合が用いられる。この接合によって、導電部155と電極255とが接触する。
図7は、本発明の第1実施形態に係る第1基板10と第2基板20とが接合された後の圧力センサ1の製造方法を説明するための断面図である。図7(a)は、第1基板10と第2基板20とが接合された後の圧力センサ1を示している。電極253は、活性層15と接触し導通している。電極255とストッパ155とは対向して配置されている。キャビティ1501が第2基板20で覆われて、内部空間110が形成される。
続いて、圧力センサ1を用いて外部空間1000の圧力を測定する圧力測定装置100について図8を用いて説明する。
第2実施形態においては、ストッパが第2基板20側に配置されている圧力センサ1Aについて説明する。
第3実施形態では、第1、第2実施形態をまとめ、第1基板10側および第2基板20側の双方にストッパが設けられている圧力センサ1Bについて説明する。
第4実施形態では、可撓部151に配置されるストッパの位置関係が、第1実施形態とは異なっている圧力センサ1Cについて説明する。
第5実施形態では、可撓部151に配置されるストッパの位置関係が、第1実施形態とは異なっている圧力センサ1Dについて説明する。
第6実施形態においては、ストッパの大きさ(この例では、可撓部と接触する面積、以下、設置面積という)が異なっている圧力センサ1Eについて説明する。
第7実施形態においては、第6実施形態の構成のストッパの形状を円弧状に変更した圧力センサ1Fについて説明する。
第8実施形態においては、ストッパの断面形状の例を説明する。
上記の各実施形態において、ストッパの平面形状(ストッパと可撓部とが接触する部分の形状)は、円、長方形、円弧形を例として説明したが、他の形状であってもよい。例えば、楕円であってもよいし、三角形、正方形、台形、ひし形等の多角形であってもよいし、曲線と直線とで囲まれた図形であればどのような形状であってもよい。
Claims (12)
- 導電性を有し、外力に応じて撓む可撓部と、
前記可撓部に対向して配置され、前記可撓部と容量を形成する固定電極と、
前記可撓部の前記固定電極側に配置されたストッパと、
を備え、
前記ストッパおよび前記固定電極は、ビッカース硬さが0.5GPa以上の金属が表面に配置されていることを特徴とする力学量センサ。 - 導電性を有し、外力に応じて撓む可撓部と、
前記可撓部に対向して配置され、前記可撓部と容量を形成する固定電極と、
前記固定電極の前記可撓部側に配置されたストッパと、
を備え、
前記ストッパは、ビッカース硬さが0.5GPa以上の金属が表面に配置されていることを特徴とする力学量センサ。 - 前記ストッパは、前記可撓部の前記固定電極側にさらに配置され、
前記固定電極に配置された前記ストッパと、前記可撓部に配置された前記ストッパとは、前記可撓部が前記固定電極側に所定量以上に撓んだ場合に、互いに接触することを特徴とする請求項2に記載の力学量センサ。 - 前記可撓部は、円の形状の膜であり、
前記ストッパは、前記円の同心円の接線に沿った形状であり、
前記ストッパは、前記可撓部が所定量で撓むときに第1変位量となる位置に対応して配置された第1ストッパ、および第2変位量となる位置に対応して配置された第2ストッパを含み、
前記第1変位量が前記第2変位量よりも小さく、
前記第1ストッパは、前記第2ストッパよりも設置面積が大きいことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の力学量センサ。 - 前記可撓部は、円の形状の膜であり、
前記ストッパは、前記円の同心円の円弧に沿った形状であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の力学量センサ。 - 前記ストッパは、前記可撓部が撓むときの最大変位量となる位置側において、面取りされた表面を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の力学量センサ。
- 前記ストッパは、高さが異なる複数の領域を有し、前記可撓部が撓むときの最大変位量となる位置側ほど、高さが低くなっていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の力学量センサ。
- 前記可撓部は、周囲を固定された膜であり、
前記外力は、前記膜の両面の圧力差によって生じることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の力学量センサ。 - 前記ストッパは、単層構造であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の力学量センサ。
- 前記ストッパは、2層以上の構造であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の力学量センサ。
- 複数の前記ストッパは、当該複数のストッパの分布の中心と可撓部の重心とが異なる位置になるように配置されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の力学量センサ。
- 請求項1乃至請求項11のいずれかに記載の力学量センサと、
前記可撓部と前記固定電極とが前記ストッパを挟んだ状態において、前記可撓部と前記固定電極とに前記ストッパを介して流れる電流が抑制されるように制御する制御部と、
を備えることを特徴とする力学量測定装置。
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