JP2016072445A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置は、処理ユニットに処理液を供給する第1タンクと、処理ユニットで使用された処理液を交互に回収する第2および第3タンクと、第2および第3タンク内に回収された低温の処理液を交互に加熱循環する処理液循環系と、第2および第3タンク内の処理液を処理ユニットに補充する処理液補充系とを備えている。処理液循環系に介挿されたヒータは低温の処理液を昇温する必要があり高出力を備えている。処理液循環系に介挿されたヒータは第2および第3タンクで切り替えて使用することができるため、高出力のヒータを第2および第3タンクの両方に装備する必要がなく装置のコストダウンが実現できる。
【選択図】図2
Description
図1は、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の構成を示す模式図である。図1に示すように、基板処理装置100は、主として処理部1、第1のタンク5、第2のタンク6、第3のタンク7、新液供給装置8および制御部9を含む。また、処理部1は、スピンチャック2、処理液ノズル3、加熱装置4およびカップCUを含む。処理部1では複数の基板Wが一枚ずつ順番に基板処理される。
処理部1により複数の基板Wが処理される際の基板処理装置100の一連の動作を説明する。図2は、図1の第1、第2および第3のタンク5,6,7にそれぞれ関連する動作内容を示すタイムチャートである。図3〜図8は、各時点における基板処理装置100の動作を示す模式図である。
本発明の一実施の形態に係る基板処理装置100では処理部1で使用されたリン酸水溶液を回収して再利用している。基板処理装置100は使用済みのリン酸水溶を回収するためのタンクを2個(第2、第3のタンク6、7)有しており、これら2個のタンク6、7を切り替えて使用済みのリン酸水溶液を回収している。前記した通り、使用済みのリン酸水溶液(処理液)は基板処理に適した温度よりもかなり低温になるため回収中のタンクからは第1タンク5に向けてリン酸水溶液(処理液)を補充することができない。しかし、この基板処理装置100では使用済みのリン酸水溶液を回収していない側のタンク6または7から第1のタンク5に向けてリン酸水溶液を補充することができる。したがって、使用済みのリン酸水溶液の回収と並行して第1のタンク5にリン酸水溶液を補充することができる。
2 スピンチャック
2a スピンモータ
2b スピンベース
2c チャックピン
3 処理液ノズル
4 加熱装置
5 第1のタンク
5a,6a,7a 循環槽
5b,6b,7b 貯留槽
6 第2のタンク
7 第3のタンク
8 新液供給装置
9 制御部
10 第1の供給配管
11,14,23,33 ヒータ
12,17,21,25、26、28、29a、31、32、37、38、41、42、51、52 バルブ
13,22,32 フィルタ
15,24,34 ポンプ
20 処理液補充系
30 処理液循環系
40 第2の供給配管
50 回収配管
91 DIW供給系
92 窒素ガス供給系
93 リン酸水溶液供給系
94 シリコン濃縮液供給系
100 基板処理装置
CU カップ
S1 リン酸濃度計
S21 シリコン濃度計
S3 液面センサ
W 基板
Claims (2)
- 基板に処理液を供給する処理液ノズルを含む処理ユニットと、
前記処理液ノズルに向けて処理液を供給する供給用タンクと、
前記供給用タンクに向けて処理液を補充するための第1補充用タンクおよび第2補充用タンクと、
前記処理ユニットで使用された使用済み処理液を回収し、前記第1補充用タンクと前記第2補充用タンクとに交互に切り替えて前記使用済み処理液を供給する処理液回収部と、
前記供給用タンクを、前記第1補充用タンクと前記第2補充用タンクとに交互に切り替えて接続することにより、第1補充用タンクおよび前記第2補充用タンクから前記供給用タンクに向けて交互に処理液を補充する処理液補充部と、
処理液を加熱する処理液加熱部と、
前記第1補充用タンクおよび第2補充用タンク内の処理液を前記処理液加熱部を経由して循環させる処理液循環路であって、前記第1補充用タンクおよび第2補充用タンクとに交互に切り替えて接続することにより、第1補充用タンクおよび第2補充用タンク内の処理液を交互に加熱循環させる処理液循環部と、
前記処理液回収部が前記使用済み処理液を前記第1補充用タンクに供給している期間は、前記第2補充用タンクが前記処理液補充部に接続されるとともに、前記第1補充用タンクが前記処理液循環部に接続されるように、かつ、前記処理液回収部が前記使用済み処理液を前記第2補充用タンクに供給している期間は、前記第1補充用タンクが前記処理液補充部に接続されるとともに、前記第2補充用タンクが前記処理液循環部に接続されるように、前記処理液補充部と前記処理液循環部とを制御する制御部とを有する、基板処理装置。 - 前記処理液補充部は前記第1補充用タンクおよび前記補充用タンク内の処理液を循環させつつ前記処理ユニットへの処理液の補充を待機させる処理液循環路と、前記循環する処理液を温調する温調部とを備え、
前記温調部は前記処理液加熱部よりも低出力を有する、請求項1記載の基板処理装置。
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