JP6371716B2 - 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents
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Description
10 基板液処理部
11 制御部
13 処理液供給機構
14 処理液貯留部
15 第1貯留タンク
16 第2貯留タンク
17 第1薬液供給部
18 第2薬液供給部
51 薬液清浄部
Claims (12)
- 基板を処理液で処理する基板液処理部と、
前記処理液を貯留する処理液貯留部と、
前記処理液貯留部から前記基板液処理部に前記処理液を供給する処理液供給部と、
前記処理液貯留部に第1の薬液を供給する第1薬液供給部と、
前記処理液貯留部に第2の薬液を供給する第2薬液供給部と、
前記処理液貯留部に貯留された薬液を循環させながら清浄する薬液清浄部と、
前記処理液貯留部に貯留された薬液を加熱する加熱手段と、
前記処理液供給部と第1薬液供給部と第2薬液供給部と薬液清浄部と加熱手段とを制御する制御部と、
を有し、
前記第1の薬液として、第2の薬液よりも含有されるパーティクルの量が多く、前記第2の薬液との反応によって劣化する有機薬液を用い、
前記制御部は、前記第1薬液供給部から前記処理液貯留部に前記第1の薬液を供給する第1薬液供給工程を行い、その後、前記第1の薬液を前記薬液清浄部で清浄する第1薬液清浄工程を行い、その後、前記第2薬液供給部から前記処理液貯留部に前記第2の薬液を供給する第2薬液供給工程を行い、その後、第1の薬液と第2の薬液とで混合された処理液を前記処理液供給部から前記基板液処理部に供給する処理液供給工程を行い、
前記第2薬液供給工程と前記処理液供給工程との間に前記第1の薬液と前記第2の薬液とを混合して処理液を生成する処理液生成工程を行い、その処理液生成工程の途中で前記加熱手段を駆動することを特徴とする基板液処理装置。 - 前記制御部は、前記加熱手段を駆動するタイミングを基準とし、前記タイミングよりも第1所定時間前に第1薬液供給工程を行うとともに、前記タイミングよりも第2所定時間前に第2薬液供給工程を行い、前記処理液生成工程で処理液が所定温度に達したときに前記処理液供給工程を開始することを特徴とする請求項1に記載の基板液処理装置。
- 前記制御部は、前記第2薬液供給工程の開始から前記処理液供給工程の開始までの間の時間よりも長く前記第1薬液清浄工程を行うことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板液処理装置。
- 前記処理液貯留部は、第1及び第2貯留タンクを有し、
前記制御部は、前記第1貯留タンクを用いて前記処理液供給工程を行っている間に、前記第2貯留タンクを用いて前記第1薬液供給工程、第1薬液清浄工程、第2薬液供給工程を行い、前記第1貯留タンクを用いた前記処理液供給工程を終了した後に前記第2貯留タンクを用いて前記処理液供給工程を行うことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の基板液処理装置。 - 前記薬液清浄部は、前記第1及び第2貯留タンクに直結した共通の第1薬液清浄流路と、前記第1及び第2貯留タンクと前記処理液供給部との間に設けた第2薬液清浄流路とを有し、
前記制御部は、前記第1貯留タンクを用いて前記処理液供給工程を行っている間に、前記第1薬液清浄流路で前記第2貯留タンクに貯留した第1の薬液の清浄を行うとともに、前記第2薬液清浄流路で前記第1貯留タンクに貯留した処理液の清浄を行うことを特徴とする請求項4に記載の基板液処理装置。 - 前記制御部は、
前記第1貯留タンクを用いて前記処理液供給工程を行い、
前記第1貯留タンクを用いた前記処理液供給工程の後に、前記第1貯留タンクに貯留された処理液を排出する処理液排出工程を行い、その後、前記第1貯留タンクを用いて前記第1薬液供給工程を行い、
前記第1貯留タンクを用いた前記処理液供給工程の所定時間前に、前記第1貯留タンクを用いて前記第2薬液供給工程を行うことを特徴とする請求項4に記載の基板液処理装置。 - 貯留タンクに第1の薬液を供給する第1薬液供給工程を行い、その後、第1の薬液を清浄する第1薬液清浄工程を行い、その後、前記貯留タンクに第2の薬液を供給する第2薬液供給工程を行い、その後、第1の薬液と第2の薬液とで混合された処理液を供給する処理液供給工程を行って前記処理液で基板を液処理し、
前記第2薬液供給工程と前記処理液供給工程との間に前記第1の薬液と前記第2の薬液とを混合して処理液を生成する処理液生成工程を行い、その処理液生成工程の途中で前記処理液を加熱することを特徴とする基板液処理方法。 - 前記処理液を加熱するタイミングを基準として、前記タイミングよりも第1所定時間前に第1薬液供給工程を行うとともに、前記タイミングよりも第2所定時間前に第2薬液供給工程を行い、前記処理液生成工程で処理液が所定温度に達したときに前記処理液供給工程を開始することを特徴とする請求項7に記載の基板液処理方法。
- 前記第2薬液供給工程の開始から前記処理液供給工程の開始までの間の時間よりも長く前記第1薬液清浄工程を行うことを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の基板液処理方法。
- 前記貯留タンクとして第1及び第2貯留タンクを用い、前記第1貯留タンクを用いて前記処理液供給工程を行っている間に、前記第2貯留タンクを用いて前記第1薬液供給工程、第1薬液清浄工程、第2薬液供給工程を行い、前記第1貯留タンクを用いた前記処理液供給工程を終了した後に前記第2貯留タンクを用いて前記処理液供給工程を行うことを特徴とする請求項7〜請求項9のいずれかに記載の基板液処理方法。
- 前記第1貯留タンクを用いて前記処理液供給工程を行い、
前記第1貯留タンクを用いた前記処理液供給工程の後に、前記第1貯留タンクに貯留された処理液を排出する処理液排出工程を行い、その後、前記第1貯留タンクを用いて前記第1薬液供給工程を行い、
前記第1貯留タンクを用いた前記処理液供給工程の所定時間前に、前記第1貯留タンクを用いて前記第2薬液供給工程を行う
ことを特徴とする請求項7〜請求項10のいずれかに記載の基板液処理方法。 - 基板液処理装置に基板の液処理を実行させる基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体において、
貯留タンクに第1の薬液を供給する第1薬液供給工程を行わせ、その後、第1の薬液を清浄する第1薬液清浄工程を行わせ、その後、前記貯留タンクに第2の薬液を供給する第2薬液供給工程を行わせ、その後、第1の薬液と第2の薬液とで混合された処理液を供給する処理液供給工程を行わせて前記処理液で基板を液処理させ、
前記第2薬液供給工程と前記処理液供給工程との間に前記第1の薬液と前記第2の薬液とを混合して処理液を生成する処理液生成工程を行わせ、その処理液生成工程の途中で前記処理液を加熱させることを特徴とする基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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