JP2016035977A5 - ローラーインプリント用モールドとインプリント方法およびワイヤーグリッド偏光子とその製造方法 - Google Patents

ローラーインプリント用モールドとインプリント方法およびワイヤーグリッド偏光子とその製造方法 Download PDF

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このような目的を達成するために、本発明のローラーインプリント用モールドは、可撓性を有する基材と、該基材の一の面に設定された主パターン領域と計測パターン領域、を有し、前記主パターン領域には、ライン形状の主凸パターンあるいは主凹パターンが所望のスペースを介して複数配列され構成された主パターンが位置し、前記計測パターン領域には、ライン形状の単位凸パターンあるいは単位凹パターンが所望のスペースを介して複数配列され構成された計測パターンが位置し、個々の前記単位凸パターン、個々の前記単位凹パターンは、光学顕微鏡による観察が不可能であるが、前記計測パターンは、前記光学顕微鏡により観察可能な部位を有し、前記主パターンのライン方向と、前記計測パターンのライン方向とが等しいような構成とした。
本発明の他の態様として、前記主パターンを構成するライン形状の主凸パターンあるいは主凹パターンのライン幅と、前記計測パターンを構成するライン形状の単位凸パターンあるいは単位凹パターンのライン幅とが等しいような構成とした。
本発明の他の態様として、前記計測パターン領域は、前記主パターン領域の外郭線の内側に位置する領域を少なくとも有するような構成とした。
本発明のインプリント方法は、一方の面に凹凸構造を有する可撓性のローラーインプリント用モールドの前記凹凸構造を有する面を、前記凹凸構造が形成されていない面からローラーで加圧することにより、転写基板の一方の面に位置する被成形樹脂層に圧着させる圧着工程と、前記ローラーインプリント用モールドに圧着させた前記被成形樹脂層を硬化させることにより前記凹凸構造が転写された転写樹脂層とする硬化工程と、前記転写樹脂層と前記ローラーインプリント用モールドを引き離すことにより、前記転写樹脂層であるパターン構造体を前記転写基板上に位置させた状態とする離型工程と、を有し、前記ローラーインプリント用モールドは、上述の本発明のローラーインプリント用モールドを使用し、前記圧着工程では、前記ローラーインプリント用モールドの前記主パターンのライン方向に沿って、前記ローラーインプリント用モールドを前記被成形樹脂層に圧着させるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記離型工程では、前記ローラーインプリント用モールドの前記主パターンのライン方向に沿って、前記転写樹脂層と前記ローラーインプリント用モールドとを引き離すような構成とした。
本発明のワイヤーグリッド偏光子は、透明基板と、該透明基板の一の面に位置するワイヤーグリッド材料層と、該ワイヤーグリッド材料層に設定されたワイヤーグリッド領域と計測パターン領域と、を有し、前記ワイヤーグリッド材料層の前記ワイヤーグリッド領域には、ライン形状の主開口部が所望のスペースを介して複数配列され構成されたワイヤーグリッドが位置し、前記ワイヤーグリッド材料層の前記計測パターン領域には、ライン形状の単位開口部が所望のスペースを介して複数配列され構成された計測パターンが位置し、個々の前記単位開口部は、光学顕微鏡による観察が不可能であるが、前記計測パターンは、前記光学顕微鏡により観察可能な部位を有し、前記主開口部のライン方向と、前記単位開口部のライン方向とが等しく、また、前記主開口部のライン幅と、前記単位開口部のライン幅とが等しいような構成とした。
本発明の他の態様として、前記計測パターン領域は、前記ワイヤーグリッド領域の外郭線の内側に位置する領域を少なくとも有するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ワイヤーグリッド領域と前記計測パターン領域との距離が100μm以下であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記単位開口部の中心線と、該中心線の延長上に位置する前記主開口部の中心線との位置ずれが、前記単位開口部のライン幅の半分未満であるような構成とした。
本発明のワイヤーグリッド偏光子の製造方法は、一方の面に凹凸構造を有する可撓性のローラーインプリント用モールドの前記凹凸構造を有する面を、前記凹凸構造が形成されていない面からローラーで加圧することにより、一の面にワイヤーグリッド材料層を備える透明基板の該ワイヤーグリッド材料層上に位置するエッチングレジスト層に圧着させる圧着工程と、前記ローラーインプリント用モールドに圧着させた前記エッチングレジスト層を硬化させることにより前記凹凸構造が転写されたレジストパターン層とする硬化工程と、前記レジストパターン層と前記ローラーインプリント用モールドを引き離す離型工程と、前記レジストパターン層をエッチングマスクとして前記ワイヤーグリッド材料層をエッチングすることにより、ワイヤーグリッドを構成するライン形状の主開口部と、計測パターンを構成するライン形状の単位開口部を形成するエッチング工程と、を有し、前記ローラーインプリント用モールドは、請求項2に記載のローラーインプリント用モールドを使用し、前記圧着工程では、前記ローラーインプリント用モールドの前記主パターンのライン方向に沿って、前記ローラーインプリント用モールドを前記エッチングレジスト層に圧着させ、前記離型工程では、前記ローラーインプリント用モールドの前記主パターンのライン方向に沿って、前記レジストパターン層と前記ローラーインプリント用モールドを引き離すような構成とした。
上述のインプリント用モールドは例示であり、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。上述の実施形態では、ライン形状の単位凸パターンが所望のスペースを介して複数配列され構成された計測パターンの外形形状が十字形状であるが、この計測パターンの外形形状は、十字形状に限定されるものではない。例えば、図10に示されるように、矢印Bで示される方向に延設されたライン形状の単位凸パターン48aを所望のスペースを介して複数配列し、同じく矢印Bで示される方向に延設されたライン形状の単位凸パターン48bを所望のスペースを介して複数配列し、この2種の単位凸パターンにより、計測パターン47の外形形状が口形状に構成されたものであってもよい。また、図11に示すように、矢印Bで示される方向に延設され、かつ、切欠きが多数設けられたライン形状の単位凸パターン58aを所望のスペースを介して複数配列し、同じく矢印Bで示される方向に延設され、かつ、切欠きが多数設けられたライン形状の単位凸パターン58bを所望のスペースを介して複数配列し、この2種の単位凸パターンにより、計測パターン57の外形形状が十字形状に構成されたものであってもよい。尚、図10、図11では、単位凸パターン48a,48b、単位凸パターン58a,58bには斜線を付して示している。

Claims (13)

  1. 可撓性を有する基材と、該基材の一の面に設定された主パターン領域と計測パターン領域、を有し、
    前記主パターン領域には、ライン形状の主凸パターンあるいは主凹パターンが所望のスペースを介して複数配列され構成された主パターンが位置し、
    前記計測パターン領域には、ライン形状の単位凸パターンあるいは単位凹パターンが所望のスペースを介して複数配列され構成された計測パターンが位置し、個々の前記単位凸パターン、個々の前記単位凹パターンは、光学顕微鏡による観察が不可能であるが、前記計測パターンは、前記光学顕微鏡により観察可能な部位を有し、
    前記主パターンのライン方向と、前記計測パターンのライン方向とが等しいことを特徴とするローラーインプリント用モールド。
  2. 前記主パターンを構成するライン形状の主凸パターンあるいは主凹パターンのライン幅と、前記計測パターンを構成するライン形状の単位凸パターンあるいは単位凹パターンのライン幅とが等しいことを特徴とする請求項1に記載のローラーインプリント用モールド。
  3. 前記計測パターン領域は、前記主パターン領域の外郭線の内側に位置する領域を少なくとも有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のローラーインプリント用モールド。
  4. 前記主パターン領域と前記計測パターン領域との距離が100μm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のローラーインプリント用モールド。
  5. 前記計測パターンを構成するライン形状の単位凸パターンあるいは単位凹パターンの中心線と、該中心線の延長線上に位置する前記主パターンを構成するライン形状の主凸パターンあるいは主凹パターンの中心線との位置ずれが、前記計測パターンを構成するライン形状の単位凸パターンあるいは単位凹パターンのライン幅の半分未満であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のローラーインプリント用モールド。
  6. 前記基材は、樹脂フィルムであることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のローラーインプリント用モールド。
  7. 一方の面に凹凸構造を有する可撓性のローラーインプリント用モールドの前記凹凸構造を有する面を、前記凹凸構造が形成されていない面からローラーで加圧することにより、転写基板の一方の面に位置する被成形樹脂層に圧着させる圧着工程と、
    前記ローラーインプリント用モールドに圧着させた前記被成形樹脂層を硬化させることにより前記凹凸構造が転写された転写樹脂層とする硬化工程と、
    前記転写樹脂層と前記ローラーインプリント用モールドを引き離すことにより、前記転写樹脂層であるパターン構造体を前記転写基板上に位置させた状態とする離型工程と、を有し、
    前記ローラーインプリント用モールドは、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載のローラーインプリント用モールドを使用し、前記圧着工程では、前記ローラーインプリント用モールドの前記主パターンのライン方向に沿って、前記ローラーインプリント用モールドを前記被成形樹脂層に圧着させることを特徴とするインプリント方法。
  8. 前記離型工程では、前記ローラーインプリント用モールドの前記主パターンのライン方向に沿って、前記転写樹脂層と前記ローラーインプリント用モールドとを引き離すことを特徴とする請求項7に記載のインプリント方法。
  9. 透明基板と、該透明基板の一の面に位置するワイヤーグリッド材料層と、該ワイヤーグリッド材料層に設定されたワイヤーグリッド領域と計測パターン領域と、を有し、
    前記ワイヤーグリッド材料層の前記ワイヤーグリッド領域には、ライン形状の主開口部が所望のスペースを介して複数配列され構成されたワイヤーグリッドが位置し、
    前記ワイヤーグリッド材料層の前記計測パターン領域には、ライン形状の単位開口部が所望のスペースを介して複数配列され構成された計測パターンが位置し、個々の前記単位開口部は、光学顕微鏡による観察が不可能であるが、前記計測パターンは、前記光学顕微鏡により観察可能な部位を有し、
    前記主開口部のライン方向と、前記単位開口部のライン方向とが等しく、また、前記主開口部のライン幅と、前記単位開口部のライン幅とが等しいことを特徴とするワイヤーグリッド偏光子。
  10. 前記計測パターン領域は、前記ワイヤーグリッド領域の外郭線の内側に位置する領域を少なくとも有することを特徴とする請求項9に記載のワイヤーグリッド偏光子。
  11. 前記ワイヤーグリッド領域と前記計測パターン領域との距離が100μm以下であることを特徴とする請求項9または請求項10に記載のワイヤーグリッド偏光子。
  12. 前記単位開口部の中心線と、該中心線の延長上に位置する前記主開口部の中心線との位置ずれが、前記単位開口部のライン幅の半分未満であることを特徴とする請求項9乃至請求項11のいずれかに記載のワイヤーグリッド偏光子。
  13. 一方の面に凹凸構造を有する可撓性のローラーインプリント用モールドの前記凹凸構造を有する面を、前記凹凸構造が形成されていない面からローラーで加圧することにより、一の面にワイヤーグリッド材料層を備える透明基板の該ワイヤーグリッド材料層上に位置するエッチングレジスト層に圧着させる圧着工程と、
    前記ローラーインプリント用モールドに圧着させた前記エッチングレジスト層を硬化させることにより前記凹凸構造が転写されたレジストパターン層とする硬化工程と、
    前記レジストパターン層と前記ローラーインプリント用モールドを引き離す離型工程と、
    前記レジストパターン層をエッチングマスクとして前記ワイヤーグリッド材料層をエッチングすることにより、ワイヤーグリッドを構成するライン形状の主開口部と、計測パターンを構成するライン形状の単位開口部を形成するエッチング工程と、を有し、
    前記ローラーインプリント用モールドは、請求項2に記載のローラーインプリント用モールドを使用し、
    前記圧着工程では、前記ローラーインプリント用モールドの前記主パターンのライン方向に沿って、前記ローラーインプリント用モールドを前記エッチングレジスト層に圧着させ、前記離型工程では、前記ローラーインプリント用モールドの前記主パターンのライン方向に沿って、前記レジストパターン層と前記ローラーインプリント用モールドを引き離すことを特徴とするワイヤーグリッド偏光子の製造方法。
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