JP2006215230A - 光学部品及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 高価な製造装置を用いることなく、高い消光比を有する光学部品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 石英基板10にアルミニウム30からなるグリッド35を、石英基板15にアルミニウム30からなるグリッド36をそれぞれ形成する。石英基板10のグリッド35と石英基板15のグリッド36とをグリッドピッチ方向へほぼ半ピッチずらして石英基板10、15を向かい合わせ、接着剤で接合する。
【選択図】 図4
【解決手段】 石英基板10にアルミニウム30からなるグリッド35を、石英基板15にアルミニウム30からなるグリッド36をそれぞれ形成する。石英基板10のグリッド35と石英基板15のグリッド36とをグリッドピッチ方向へほぼ半ピッチずらして石英基板10、15を向かい合わせ、接着剤で接合する。
【選択図】 図4
Description
この発明は光学部品及びその製造方法に関する。
従来、半導体レーザの信頼性向上のため、半導体レーザチップへの戻り光を遮断するための光アイソレータが使用されている。光アイソレータは、光学部品である2つの偏光子と、2つの偏光子間に挟まれたファラデー回転子とからなる。
特開2000−77831号公報には、ダマシンプロセスを用いたグリッド偏光子の製造方法が開示されている。
まず、基板上に溝パターンを形成する。次に基板上に金属薄膜を形成する。最後に、溝からはみ出している金属を研磨する。その結果、金属配線(グリッド)が形成される
特開2000−77831号公報
ところで、偏光子の消光比を高めるためには、グリッドの配列ピッチを短くするとともに、幅方向の寸法に比べて高さ方向の寸法が大きいグリッドを形成する必要がある。
しかし、数十nmのピッチのグリッドを形成するには、X線リソグラフィ装置等の高価な製造装置を用いなければならず、偏光子の製造コストが高くなるという問題がある。
この発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、その課題は高価な製造装置を用いることなく、高い消光比を有する光学部品及びその製造方法を提供することである。
上記課題を解決するため請求項1記載の発明の光学部品は、一対の基板にそれぞれ等しいピッチで導電材料からなるグリッドが形成され、一方の前記基板のグリッドと他方の前記基板のグリッドとがグリッドピッチ方向へほぼ半ピッチずれた状態で、両方の前記基板が接合されていることを特徴とする。
請求項2記載の発明の光学部品の製造方法は、一対の基板にそれぞれ等しいピッチで導電材料からなるグリッドを形成し、一方の前記基板のグリッドと他方の前記基板のグリッドとをグリッドピッチ方向へほぼ半ピッチずらして、両方の前記基板を接合することを特徴とする。
以上に説明したようにこの発明によれば、高価な製造装置を用いることなく、高い消光比を有する光学部品を得ることができる。
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1〜3はこの発明の第1実施形態に係る光学部品の製造方法を説明するための図であって、グリッド作成工程における石英基板の断面図である。
まず、透明な石英基板(一方の基板)10上にレジストを塗布し、半導体露光装置(図示せず)を用いてレジストに所定ピッチのパターンを投影し、石英基板10上にピッチ200nm、溝幅50nm、溝深さ180nmのレジストパターン20を作成する(図1参照)。場合によっては2光束干渉露光装置等を用いてもよい。液浸エキシマステッパ等は非常に高価であり、広ピッチのラインアンドスペースパターンを作るにはこの装置の方が経済的である。
次に、レジストパターン20を覆うようにアルミニウム(導電材料)30を石英基板10上に蒸着させる(図2参照)。
その後、リフトオフ法によりレジストパターン20を除去する。その結果、ピッチ200nm、幅50nm、高さ180nmのアルミニウムのグリッド35が石英基板10上に形成される(図3参照)。なお、石英基板10上には図示しないアライメントマークがグリッド35とともに作成されている。
上記製造方法と同じ製造方法で図4に示す別の透明な石英基板(他方の基板)15上に同じピッチのグリッド36を形成する。
図4、5はこの発明の第1実施形態に係る光学部品の製造方法を説明するための図であって、基板接合工程における石英基板の断面図である。
両方の石英基板10、15は以下のようにして接合される。
まず、グリッド35を有する石英基板10とグリッド36を有する石英基板15とを、グリッドピッチ方向(図4の左右方向)へほぼ半ピッチずらして向かい合わせる(図4参照)。この作業はピエゾ方式等の1nmレベルを制御できる精密テーブルを用いて行われる。このとき、アライメントマークを用いて石英基板10,15の粗いアライメント(1μmレベルのアライメント)が行われる。
次に、石英基板10,15間に接着剤40(例えば熱硬化性又は光硬化型の透明接着剤)を供給し、グリッド35とグリッド36とが噛み合わない程度に石英基板10,15を重ねる。
その後、石英基板10,15同士の精密なアライメント(数nmレベルのアライメント)を行う。精密にアライメントするにはいくつかの手法があるが、パターン面に参照光を入射させて、その消光比が最大になるようにアクティブアライメントするのが効果的である。位置調整をしながらゆっくりと石英基板10,15を重ねて、図5に示すようにグリッド同士を噛み合わせる。
最後に、接着剤40に例えば熱又は光を与えて接着剤40を硬化させ、石英基板10と石英基板15とを接合する。
以上のようにして、幅方向の寸法に比べて高さ方向の寸法が大きいグリッドを有し、しかも1枚の石英基板10(15)に形成されたグリッド35(36)の倍のピッチを有する光学部品が完成する。
この実施形態によれば、狭ピッチのラインアンドスペースを解像するような高価なリソグラフィ装置を用いることなく、高い消光比を有する光学部品(例えばグリッド偏光子)を得ることができる。
図6はこの発明の第2実施形態に係る光学部品を説明するための断面図であり、第1実施形態と共通する部分には同一符号を付してその説明を省略する。
この実施形態は石英基板110,115の端部にアルミニウムのグリッド135,136とほぼ同じ高さの壁111,116を設けた点で第1実施形態と相違する。
なお、製造方法は第1実施形態と同じであるので、接合時の状態だけを図示した。
図6に示すように、両方の石英基板110,115を接合したとき、グリッド135とグリッド136と接合方向(図5の上下方向)へずれているとともに、グリッドピッチ方向(図5の左右方向)へほぼ半ピッチずれている。
この実施形態の光学部品のグリッド135、グリッド136のピッチは第1実施形態の光学部品のグリッド35、グリッド36のピッチと同じである。
この実施形態によれば、第1実施形態とほぼ同様の効果を奏するとともに、接合時の困難さが軽減される。
図7はこの発明の第3実施形態に係る光学部品を説明するための断面図である。
図7は接合時の状態を示している。
まず、この第3実施形態に係る光学部品の基板の接合工程を説明する。
基板210は以下に述べるダマシンプロセスを用いて作成される。
始めに、予め透明基板210上に溝パターンを形成する。
その後、基板210上にアルミニウムの薄膜を形成する。
次に、溝からはみ出しているアルミニウムをCMP等で研磨する。
その結果、基板210上に所定ピッチのグリッド235が形成される。
上記製造方法と同じ製造方法で別の透明基板215上に同じピッチのグリッド236を形成する。
両方の基板210、215は以下のようにして接合される。
まず、グリッド235を有する基板210とグリッド236を有する基板215とを、グリッドピッチ方向(図7の左右方向)へほぼ半ピッチずらして向かい合わせる。
次に、基板210,215間に接着剤(図示せず)を供給し、基板210,215をアライメントした上で重ねる。このとき、グリッド235、236は接合方向(図7の上下方向)へずれている。
その後、基板210、215の精密なアライメントを行う。
最後に、基板210,215に例えば熱又は光を与えて接着剤を硬化させ、基板210,215同士を接合する。
以上のようにして、1枚の基板210(215)に形成されたグリッド235(236)の倍のピッチのグリッドを有する光学部品が作成される。
この実施形態によれば、第1実施形態と同様の効果を奏する。
なお、グリッドの材料としてはアルミニウムに限定されるものではなく、グリッドの材料としてなり得るものであればアルミニウム以外の導電材料(例えば銅)でもよい。
10,110 石英基板(一方の基板)
15,115 石英基板(他方の基板)
30 アルミニウム
35,36,135,136,235,236 グリッド
15,115 石英基板(他方の基板)
30 アルミニウム
35,36,135,136,235,236 グリッド
Claims (2)
- 一対の基板にそれぞれ等しいピッチで導電材料からなるグリッドが形成され、一方の前記基板のグリッドと他方の前記基板のグリッドとがグリッドピッチ方向へほぼ半ピッチずれた状態で、両方の前記基板が接合されていることを特徴とする光学部品。
- 一対の基板にそれぞれ等しいピッチで導電材料からなるグリッドを形成し、一方の前記基板のグリッドと他方の前記基板のグリッドとをグリッドピッチ方向へほぼ半ピッチずらして、両方の前記基板を接合することを特徴とする光学部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005027316A JP2006215230A (ja) | 2005-02-03 | 2005-02-03 | 光学部品及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005027316A JP2006215230A (ja) | 2005-02-03 | 2005-02-03 | 光学部品及びその製造方法 |
Publications (1)
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JP2006215230A true JP2006215230A (ja) | 2006-08-17 |
Family
ID=36978523
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JP2005027316A Withdrawn JP2006215230A (ja) | 2005-02-03 | 2005-02-03 | 光学部品及びその製造方法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2006215230A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008268299A (ja) * | 2007-04-16 | 2008-11-06 | Asahi Kasei Corp | 積層ワイヤグリッド偏光板 |
JP2016035977A (ja) * | 2014-08-04 | 2016-03-17 | 大日本印刷株式会社 | インプリント用モールドとインプリント方法およびワイヤーグリッド偏光子とその製造方法 |
-
2005
- 2005-02-03 JP JP2005027316A patent/JP2006215230A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
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US10088617B2 (en) | 2014-08-04 | 2018-10-02 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Imprint mold, imprint method, wire grid polarizer, and method for manufacturing wire grid polarizer |
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