CN109188863A - 膜层图案化的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种膜层图案化的方法,属于纳米压印技术领域。本发明的膜层图案化的方法包括:在基底上形成相互拼接的压印图案的步骤,其中,在基底上形成一个压印图案的步骤包括:在基底上形成待进行图案化的膜层;将纳米压印模板压印至待进行图案化的膜层上;将纳米压印模板与待进行图案化的膜层分离,以得到图案化的膜层;在图案化的膜层表面形成一层分离层,以得到压印图案。
Description
技术领域
本发明属于纳米压印技术领域,具体涉及一种膜层图案化的方法。
背景技术
随着半导体行业朝着不断缩小特征尺寸方向的发展,纳米压印技术(NanoimprintLithography,NIL)越来越受到人们的关注,该纳米压印技术主要是通过对纳米压印模板3进行加压,即可实现图案的转移,操作简单且易于实现。
现有技术中,由于压印所使用的纳米压印模板3通常是采用电子束刻蚀等技术进行制作的,故制作的纳米压印模版的尺寸均较小。而若想得到大面积的纳米压印图案,目前主要是通过以下两种压印方式得到:一、拼接纳米压印模板3的方式,然而该方式涉及到新设备等高额费用的投入,使得成本大大增加;二、采用小尺寸的纳米压印模板3逐步对基底上的纳米压印胶进行压印的方式,然而,如图1所示,为实现待压印的纳米压印胶与已成型的纳米压印胶的无缝拼接,二者之间往往会存在一个面积较大的重叠区域(也即图1中所示的区域A),从而使得在将拼接后的纳米压印胶应用至显示器中时,影响显示器的显示效果。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提供一种在实现任意两相邻压印图案的无缝拼接的同时,还能够减小二者之间的重叠区域的膜层图案化的方法。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种膜层图案化的方法,包括:在基底上形成相互拼接的压印图案的步骤,其中,在所述基底上形成一个所述压印图案的步骤包括:
在所述基底上形成待进行图案化的膜层;
将纳米压印模板压印至所述待进行图案化的膜层上;
将所述纳米压印模板与所述待进行图案化的膜层分离,以得到图案化的膜层;
在所述图案化的膜层表面形成一层分离层,以得到所述压印图案。
优选的是,在将纳米压印模板压印至所述待进行图案化的膜层上的步骤,与将所述纳米压印模板与所述待进行图案化的膜层分离,以得到图案化的膜层的步骤之间,还包括:
通过紫外光对所述待进行图案化的膜层进行照射,以固化所述待进行图案化的膜层。
优选的是,所述待进行图案化的膜层的材料为紫外光固化材料。
优选的是,在所述基底上形成待进行图案化的膜层的步骤具体包括:
通过涂覆的方式,在所述基底上形成待进行图案化的膜层。
优选的是,在基底上形成相互拼接的压印图案的步骤之后,还包括:
将形成在各个压印图案上的分离层去除。
优选的是,所述将形成在各个压印图案上的分离层去除的步骤具体包括:
利用酒精超声波设备去除形成在各个压印图案上的分离层。
优选的是,所述分离层的材料包括阻聚剂。
优选的是,所述阻聚剂包括:4-甲氧基苯酚或吩噻嗪。
优选的是,所述膜层包括压印胶。
附图说明
图1为现有的膜层图案化的方法的示意图;
图2为本发明的实施例1的在基底上形成一个压印图案的流程图;
图3为本发明的实施例1的膜层图案化的方法的示意图;
其中附图标记为:1、基底;21、待进行图案化的膜层;22、图案化的膜层;23、压印图案;3、纳米压印模板;4、分离层。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
除非另外定义,本发明使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。
实施例1:
本实施例提供一种膜层图案化的方法,其包括在基底1上形成相互拼接的压印图案23的步骤。
其中,如图2所示,在基底1上形成一个压印图案23的步骤如下:
S1、在基底1上形成待进行图案化的膜层21。
具体的,在本步骤中,可通过涂覆的方式,在基底1上形成待进行图案化的膜层21。当然,还可以采用其他的工艺将待进行图案化的膜层21形成在基底1上,在此不做限定。
S2、将纳米压印模板3压印至待进行图案化的膜层21上。
具体的,在执行本步骤之前,需先将纳米压印模板3与待进行图案化的膜层21对准之后,才可用纳米压印模板3压印待进行图案化的膜层21。
S3、通过紫外光对待进行图案化的膜层21进行照射,以固化待进行图案化的膜层21。
由于待进行图案化的膜层21本身材质较软,故当使用纳米压印模板3对其进行压印之后,其的表面会形成与纳米压印模板3相适配的图形,例如图3所示,当纳米压印模板3的形状为锯齿状时,该膜层也将呈锯齿状。此时,为使在将纳米压印模板3与待进行图案化的膜层21分离后,该膜层仍然呈锯齿状,故需利用紫外光对待进行图案化的膜层21进行照射,以此来将软性材质的膜层固体化。
其中,本领域技术人员应当理解的是,本实施例仅是以纳米压印模板3的形状为锯齿状为例进行说明,也即纳米压印模板3还可以为其他形状,在此不做限定。
其中,本实施例优选的,待进行图案化的膜层21的材料为紫外光固化材料,例如:压印胶;当然,待进行图案化的膜层21还可以为其他紫外光固化材料,在此不做限定。
S4、将纳米压印模板3与待进行图案化的膜层21分离,以得到图案化的膜层22。
其中,纳米压印模板3在对软性材质的膜层进行压印时,该膜层必将发生形变,从而使得纳米压印模板3的左右两侧存在有被挤压出的部分膜层(也即图3中所示的区域B或B′),而此时应当注意的是,步骤S3仅对纳米压印模板3正下方的膜层进行固化作用,也即被纳米压印模板3所挤压出的部分膜层是没有进行固化工艺的。因此,为得到一个完整的图案化的膜层,在将纳米压印模板3与待进行图案化的膜层21分离之后,还需进行残膜清理工艺,即去除被挤出的部分膜层。
S5、在图案化的膜层22表面形成一层分离层4,以得到压印图案23。
其中,此处的分离层4具有将图案化的膜层22与外界隔绝的作用。具体的,如图3所示,在该步骤所形成的压印图案23的右侧形成一个与其相互拼接的压印图案23时,右侧的压印图案23势必会与本步骤中的压印图案23相重叠,此时,由于本步骤的膜层表面形成有一层分离层4,该分离层4能够将本步骤的膜层与右侧的压印图案23分离开,且使得右侧的压印图案23无法固化在本步骤的膜层,因此,在基底1上形成右侧的压印图案23的过程中,位于本步骤的压印图案23表面的膜层会同未固化的待进行图案化的膜层21一起除去,从而减小了本步骤所形成的压印图案23与右侧的压印图案23的重叠面积(也即图3中所示的区域A′)。
优选的,本实施例的分离层4的材料包括阻聚剂,例如:4-甲氧基苯酚或吩噻嗪。当然,本实施例的分离层4的材料并不局限于阻聚剂,在此不做限定。
至此完成在基底1上形成一个压印图案23的步骤。
在此需要说明的是,重复执行步骤S1至S5若干次后,也即在基底1上形成相互拼接的压印图案23之后,本实施例所提供的膜层图案化的方法还包括:将形成在各个压印图案23上的分离层4去除的步骤。具体的,可采用酒精超声波设备去除各个分离层4。
为了更清楚本实施例的意图,以下对采用本实施例所提供的膜层图案化的方法,以形成相互拼接的压印图案23进行具体说明。
具体的,形成相互拼接的压印图案23的步骤如下:
第一步、如图3a所示,在基底1上形成第N(N为正整数)个待进行图案化的膜层21,并将纳米压印模板3与第N个待进行图案化的膜层21对准。
第二步、如图3b所示,将纳米压印模板3压印至第N个待进行图案化的膜层21上,并通过紫外光对纳米压印模板3正下方的、第N个待进行图案化的膜层21进行照射,以固化第N个待进行图案化的膜层21。
第三步、如图3c所示,将纳米压印模板3与第N个待进行图案化的膜层21分离。
第四步、如图3d所示,去除被纳米压印模板3所挤压出的部分膜层(也即图3中所示的区域B),以得到第N个图案化的膜层22。
第五步、如图3e所示,在第N个图案化的膜层表面形成一层分离层4,以得到第N个压印图案23。
第六步、如图3a′所示,在基底1上形成第N+1个待进行图案化的膜层21,并将纳米压印模板3与第N+1个待进行图案化的膜层21对准。
其中,为实现任意两相邻压印图案23的无缝拼接,如图3a′所示,该第N+1个待进行图案化的膜层21必定覆盖部分第N个压印图案23。
第七步、如图3b′所示,将纳米压印模板3压印至第N+1个待进行图案化的膜层21上,并通过紫外光对纳米压印模板3正下方的、第N+1个待进行图案化的膜层21进行照射,以固化第N+1个待进行图案化的膜层21。
第八步、如图3c′所示,将纳米压印模板3与第N+1个待进行图案化的膜层21分离。
第九步、如图3d′所示,去除被纳米压印模板3所挤压出的部分膜层(也即图3中所示的区域B′),以得到第N+1个图案化的膜层22。
第十步、在第N+1个图案化的膜层表面形成一层分离层4,以得到第N+1个压印图案23。
重复执行第六步至第十步若干次,即可在基底1上形成相互拼接的压印图案23。
综上,在本实施例所提供的膜层图案化的方法中,每在基底1上形成第N个压印图案23之后,均会在第N个膜层上涂覆一层分离层4,该分离层4能够将形成在基板上的第N+1个膜层与第N个膜层分离开,且不让该第N+1个膜层固化在其的上表面,从而使得在去除第N+1个未被固化的膜层时,位于该第N个膜层(或者第N个膜层的分离层4)上的第N+1个膜层也能够一同被去除,这样一来,在实现第N个压印图案23和第N+1个压印图案23的无缝拼接的同时,还能够减小二者之间的重叠区域(也即图3中所示的区域A′),进而使得将采用本实施例所提供的方法所形成的相互拼接的压印图案23应用至显示器中时,该显示器具有较佳的显示效果。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种膜层图案化的方法,包括:在基底上形成相互拼接的压印图案的步骤,其特征在于,在所述基底上形成一个所述压印图案的步骤包括:
在所述基底上形成待进行图案化的膜层;
将纳米压印模板压印至所述待进行图案化的膜层上;
将所述纳米压印模板与所述待进行图案化的膜层分离,以得到图案化的膜层;
在所述图案化的膜层表面形成一层分离层,以得到所述压印图案。
2.根据权利要求1所述的膜层图案化的方法,其特征在于,在将纳米压印模板压印至所述待进行图案化的膜层上的步骤,与将所述纳米压印模板与所述待进行图案化的膜层分离,以得到图案化的膜层的步骤之间,还包括:
通过紫外光对所述待进行图案化的膜层进行照射,以固化所述待进行图案化的膜层。
3.根据权利要求2所述的膜层图案化的方法,其特征在于,所述待进行图案化的膜层的材料为紫外光固化材料。
4.根据权利要求1所述的膜层图案化的方法,其特征在于,在所述基底上形成待进行图案化的膜层的步骤具体包括:
通过涂覆的方式,在所述基底上形成待进行图案化的膜层。
5.根据权利要求1所述的膜层图案化的方法,其特征在于,在基底上形成相互拼接的压印图案的步骤之后,还包括:
将形成在各个压印图案上的分离层去除。
6.根据权利要求5所述的膜层图案化的方法,其特征在于,所述将形成在各个压印图案上的分离层去除的步骤具体包括:
利用酒精超声波设备去除形成在各个压印图案上的分离层。
7.根据权利要求1所述的膜层图案化的方法,其特征在于,所述分离层的材料包括阻聚剂。
8.根据权利要求7所述的膜层图案化的方法,其特征在于,所述阻聚剂包括:4-甲氧基苯酚或吩噻嗪。
9.根据权利要求1所述的膜层图案化的方法,其特征在于,所述膜层包括压印胶。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109613799A (zh) * | 2019-01-29 | 2019-04-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 纳米图案的拼接方法、纳米压印板及光栅 |
CN110824835A (zh) * | 2019-11-26 | 2020-02-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 拼接式纳米压印模板、其拼接缝的修复方法及其制作方法 |
WO2020103717A1 (zh) * | 2018-11-19 | 2020-05-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 拼接式压印模板的制备方法和母模板 |
CN114660720A (zh) * | 2022-03-31 | 2022-06-24 | Oppo广东移动通信有限公司 | 光波导母版的制备方法、光波导及增强现实设备 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101765809A (zh) * | 2007-08-03 | 2010-06-30 | 佳能株式会社 | 压印方法和使用压印方法的基板的处理方法 |
CN105814663A (zh) * | 2013-11-22 | 2016-07-27 | 综研化学株式会社 | 使用分步重复方式的压印技术的结构体的制造方法 |
CN105974732A (zh) * | 2016-07-26 | 2016-09-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 压印掩膜版及纳米压印方法 |
CN106663600A (zh) * | 2014-07-08 | 2017-05-10 | 综研化学株式会社 | 分步重复用压印用模具及其制造方法 |
-
2018
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101765809A (zh) * | 2007-08-03 | 2010-06-30 | 佳能株式会社 | 压印方法和使用压印方法的基板的处理方法 |
CN105814663A (zh) * | 2013-11-22 | 2016-07-27 | 综研化学株式会社 | 使用分步重复方式的压印技术的结构体的制造方法 |
CN106663600A (zh) * | 2014-07-08 | 2017-05-10 | 综研化学株式会社 | 分步重复用压印用模具及其制造方法 |
CN105974732A (zh) * | 2016-07-26 | 2016-09-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 压印掩膜版及纳米压印方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020103717A1 (zh) * | 2018-11-19 | 2020-05-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 拼接式压印模板的制备方法和母模板 |
CN109613799A (zh) * | 2019-01-29 | 2019-04-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 纳米图案的拼接方法、纳米压印板及光栅 |
CN110824835A (zh) * | 2019-11-26 | 2020-02-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 拼接式纳米压印模板、其拼接缝的修复方法及其制作方法 |
CN110824835B (zh) * | 2019-11-26 | 2023-05-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 拼接式纳米压印模板、其拼接缝的修复方法及其制作方法 |
CN114660720A (zh) * | 2022-03-31 | 2022-06-24 | Oppo广东移动通信有限公司 | 光波导母版的制备方法、光波导及增强现实设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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