JP2015532954A - カバー - Google Patents

Abstract

【課題】 例えば、排水溝などの床面へと設置することができる構造物のためのカバーであって、平坦な構造（１３）を第１のより低い平面上に備えるアクセスおよび走行可能な表面（１１）と、第２のより高い平面上において前記平坦な構造（１３）の上方に位置する上面を有する隆起（１４）とを備えるカバー。本発明の目的は、滑り止め性を改善するとともに、自己洗浄効果を達成することにある。これは、前記上面（１５）が、複数の個々の隆起を備える滑り止めの表面構造を有することで達成される。前記個々の隆起（１６）の体積に対する前記個々の隆起（１６）の下方の空気の体積の比は、Ｖｖ／Ｖｍ＝（０．０１〜０．５）／（０．００１〜０．０５）である。【選択図】 図１

Description

本発明は、請求項１の序文に記載の地面に設置することができる構造物のカバーに関する。

カバーによって覆われる溝および垂直坑は、地面への設置用または（とくには）表面の排水用の既知の構造物である。これらのカバーの上方を、一部には自動車が走行するが、とくには歩行者が踏み歩く。とくには濡れており、あるいは汚染物が蓄積している場合に、滑る危険性が存在し、すなわち負傷の危険性が存在する。

カバー、とくには格子状カバー（ｃｏｖｅｒｉｎｇ ｇｒａｔｅ）が、複数の実施形態において知られている。すなわち、例えばＤＥ １ ８５３ ９８５ Ｕ、ＤＥ ２０ ２００６ ０１４ ０８２ Ｕ１、ＤＥ ８９ ０９ ７４８ Ｕ１、またはＤＥ １ ８７６ ９８６ Ｕが、三角形の断面を有する（くさび形の）スロットまたは隆起の形態の表面構造が設けられた格子状カバーを開示している。さらに、滑り止めを保証するように想定された隆起を有する請求項１の序文に記載の排水路カバーが、例えばドイツ意匠特許Ｍ ９ ５０５ ８４７から知られている。

しかしながら、既知の構成は、限られた滑り止め効果を提供しているにすぎない。とくには、カバーが、とくには射出成形によってプラスチック材料から製造される場合、汚損が容易に生じ、これが事故の危険性の増大の一因となる。

さらに、既知の滑り止め構造は、汚染粒子を含まない清浄な水が格子状カバーへと打ち寄せる屋内領域（例えば、水泳プール）においては、多くの場合に充分な滑り止めを提供する。しかしながら、汚染粒子が格子状カバーの外部領域に達すると、既知のマクロ構造（例えば、これらの既知の起伏）およびマイクロ構造（粒状表面）は、汚染粒子と水との混合物の進入に起因して詰まってしまい、充分な滑り止め効果がもはや不可能になる。

本発明の目的は、上述の形式のカバーを、滑り止めの改善をできる限り少ない支出にて保証するように提供することにある。

この目的が、請求項１に記載のカバーによって達成される。

この目的は、地面に設置することができる構造物、とくには垂直坑、流出点（ｐｏｉｎｔ ｒｕｎｏｆｆ）、排水溝、または同様の排水設備のカバーであって、第１のより低い平面に平坦な構造を有している歩行または走行可能な表面を備え、かつ前記平坦な構造の第２のより高い平面に位置する、上面を持つ隆起を有しているカバーによって、前記隆起の前記上面が、複数の個々の隆起を備える滑り止めの表面構造を有し、前記個々の隆起の体積に対する前記個々の隆起の下方の空気の体積の比Ｖｖ／Ｖｍが、好ましくは（０．０１〜０．５）／（０．００１〜０．０５）、好ましくは（０．０２〜０．２）／（０．００２〜０．０１）であることで達成される。

このように、滑り止めの構造が、滑り止めの構造間の空間を満たして滑り止めの効果を無効にしてしまうために必要な汚染粒子がきわめて多くなるように、実際のカバーの平面（より低い平面）から垂直上方に移される。

すなわち、本発明の本質的な態様は、たとえ汚染粒子が滑り止めの表面構造へと導入されても、人々が表面上を歩くことで、これらを容易に洗い流し、あるいは隆起間の領域へと移動させることができる点にある。

個々の隆起は、好ましくは異なる最大高さを有する。これは、たとえ汚染粒子が滑り止めの構造の異なる高さ範囲に蓄積した場合でも、これらの汚染粒子そのものが異なる高さを有し、したがってそれら自身が滑り止め効果を呈することを保証する。

下方に位置する第１のより低い平面の平坦な構造が、隆起の上面の滑り止めの表面構造ほどは粗くない滑り止めの表面構造を有することが可能である。下方に位置する平坦な構造は、例えばキャスティング（ｃａｓｔｉｎｇ）効果などの特有の視覚的効果を達成するため、ならびに粗さを増すことによってこの平坦な構造に滑り止めの特性を持たせることができるように、粒状の表面を有することができる。

好ましくは、前記最大高さは、Ｓｚ＝１５０μｍ〜１，５００μｍ、好ましくは２３０μｍ〜１，０００μｍの範囲内の分布において設けられる。この評価値（ｒａｔｅｄ ｖａｌｕｅ）は、（以下の説明および特許請求の範囲における評価値と同様に）ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ２５１７８から得られている。この規格が明示的に参照され、後述される値をもたらす測定方法も、この規格に記載されている。

個々の隆起の分布、またはそれぞれ、隆起のサイズは、一様であってよい。しかしながら、好ましくは、分布は、より高い個々の隆起およびより低い個々の隆起もより小さい領域内に設けられるよう、表面全体にわたってランダム分布にて選択されるであろう。

個々の隆起を、異なる形状（水平断面として見たとき）にて設けることができる。しかしながら、個々の隆起は、好ましくはピラミッド形または切頭ピラミッド形を有するように設計される。

個々の隆起の最大くぼみ深さ（ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ ｈｅｉｇｈｔ）（凹所深さ（ｒｅｃｅｓｓ ｈｅｉｇｈｔ）とも称される）は、Ｓｖ＝５０μｍ〜５００μｍ、好ましくは８５μｍ〜３１０μｍである。驚くべきことに、この範囲が、きわめて有益であることが判明している。

好ましくは、前記表面構造の粗さ値は、Ｓａ＝１０μｍ〜２００μｍ、好ましくは１５μｍ〜９０μｍである。前記表面構造の細長い外観比（ｅｌｏｎｇａｔｅｄ ａｐｐｅａｒａｎｃｅ ｒａｔｉｏ）（ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ２５１７８により、スケール限界表面（ｓｃａｌｅ−ｌｉｍｉｔｅｄ ｓｕｒｆａｃｅ）の展開推移表面比（ｄｅｖｅｌｏｐｅｄ ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ ｓｕｒｆａｃｅ ｒａｔｉｏ）とも称される）は、好ましくはＳｄｒ＝２０〜３００％である。好ましくは、前記表面構造は、Ｓｐｄ＝０．５〜２０ｍｍ−１、好ましくは１〜１０ｍｍ−１の頂点密度を有する。

驚くべきことに、上述の寸法範囲は、一方ではこれらの頂点における負傷がまれにしか生じず、他方では充分な滑り止めおよび「自己洗浄効果」が達成されるような効果を有する。

本発明を、図面にもとづいてさらに詳しく後述する。

排水溝のための格子状カバーの上面図を示している。 図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面を示している。 図２の領域ＩＩＩの拡大詳細を示している。

図面に見て取ることができるとおり、ここに示されている格子１０の実施形態は、第１のより低い平面に位置する表面１１を有する支持構造体を有している。表面１１は、排水開口部１２によって中断されており、滑らかかつ平坦な構造１３を形成している。ここで、平坦な構造１３は、例えばプラスチックの射出成形によって生成される表面上において達成される表面の粗さなど、きわめて小さい表面の粗さを備えている。

棒状の隆起１４が、この表面１１上に設けられており、隆起１４の隆起上面１５は、とくには射出成形の場合に射出成形金型を相応に形作ることによって得られる上述の粗さを有している。ここで、隆起上面１５は、図３に示されるように異なる高さおよび異なる頂点を有する個々のピラミッドによって生成される個々の隆起１６を備える。

この形状は、一方では、隆起１４に達する汚染粒子を容易に流し去り、滑らかかつ平坦な表面１３上を運ぶことができるように保証する。他方で、汚染粒子は、滑らかかつ平坦な構造１３から排水開口部１２へと運び去られ、したがって一種の「自己洗浄効果」が、ここで選択された設計によって生み出される。たとえ表面上の歩行の場合でも、汚染粒子の蓄積は、作用する力によって低減される。なぜならば、これらの汚染粒子が隆起１５の上面から押し出され、平坦な構造１３上を運ばれて、最終的に排水開口部１２に進入できるからである。

１０ ： カバー
１１ ： 表面
１２ ： 排水開口部
１３ ： 平坦な構造
１４ ： 隆起
１５ ： 隆起の上面
１６ ： 個々の隆起

Claims (10)

1. 平坦な構造（１３）を第１のより低い平面に有している歩行または走行可能な表面（１１）と、
   前記平坦な構造（１３）の上方の第２のより高い平面に位置する上面（１５）を有している隆起（１４）と
   を備え、
   前記隆起の前記上面（１５）は、複数の個々の隆起（１６）を備える滑り止めの表面構造を有し、該滑り止めの表面構造は、前記下方に位置する平坦な構造（１３）よりも粗い、地面に設置することができる構造物、とくには垂直坑、流出点、排水溝、または同様の排水設備のカバーであって、
   前記個々の隆起（１６）の体積に対する前記個々の隆起（１６）の下方の空気の体積の比は、Ｖｖ／Ｖｍ＝（０．０１〜０．５）／（０．００１〜０．０５）であることを特徴とするカバー。
2. 前記個々の隆起（１６）の体積に対する前記個々の隆起（１６）の下方の空気の体積の比は、Ｖｖ／Ｖｍ＝（０．０２〜０．２）／（０．００２〜０．０１）であることを特徴とする請求項１に記載のカバー。
3. 前記個々の隆起（１６）は、異なる最大高さを有することを特徴とする請求項１または２に記載のカバー。
4. 前記最大高さは、Ｓｚ＝１５０μｍ〜１，５００μｍ、好ましくは２３０μｍ〜１，０００μｍの範囲内の分布にて設けられることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項、とくには請求項３に記載のカバー。
5. 前記分布は、ランダム分布であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項、とくには請求項４に記載のカバー。
6. 前記個々の隆起（１６）は、ピラミッド形または切頭ピラミッド形を有するように設計されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のカバー。
7. 前記個々の隆起（１６）は、Ｓｖ＝５０μｍ〜５００μｍ、好ましくは８５μｍ〜３１０μｍの最大くぼみ深さを有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のカバー。
8. 前記表面構造の粗さ値は、Ｓａ＝１０μｍ〜２００μｍ、好ましくは１５μｍ〜９０μｍであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のカバー。
9. 前記表面構造の細長い外観比は、Ｓｄｒ＝１０〜５００％、好ましくは２０〜３００％であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のカバー。
10. 前記表面構造は、Ｓｐｄ＝０．５〜２０ｍｍ−１、好ましくは１〜１０ｍｍ−１の頂点密度を有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載のカバー。
    

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