JP2015233100A - インプリント装置、および物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は本発明の第1実施形態のインプリント装置を示す。インプリント装置1は、半導体デバイス製造工程に使用される、被処理基板である基板(ウエハ)2に対してモールド(型)10の凹凸パターンを転写する。第1実施形態のインプリント装置は、モールド10の凹凸パターンを転写する際に樹脂を光によって硬化する手法を採用した装置である。図1に示すように、モールド10に対して紫外線を照射する方向に平行な軸をZ軸とし、Z軸に対して直交する方向にX軸及びY軸を定める。
つぎに、図3に基づいて本発明の第2実施形態のインプリント装置1について説明する。図3において図1と共通する部分の説明は省略する。第2実施形態のインプリント装置1の制御部20は、発生部31によって発生する気流30の速度の変更を制御する気流速度制御部32を含む。気流速度制御部32は、気流30の速度を変更可能な発生部31内の変更機構(不図示)に対して、気流30の速度を決定するための指令値を出力する。変更機構は、気流30の流れを遮るバタフライ弁と、バタフライ弁の開度を制御するためのパルスモーターなどが使用できる。または、発生部31としてファンを用いている場合は、ファンの回転数を変更するためインバータなどを用いても良い。
つぎに、図4に基づいて本発明の第3実施形態のインプリント方法について説明する。図4は、基板2の複数のインプリント領域に対するインプリント処理を行う順番について図示したもので、図2に示される順番を変更したものである。図2に示される第1実施形態では、気流30の方向に沿う行ごとにインプリント処理を行い、1つの行の複数のインプリント領域の中では、風上側のインプリント領域から風下側のインプリント領域のとなる順番でインプリント処理を行った。一方、第3実施形態では、図4に示されるように、気流30の方向と直交する方向(Y方向)に沿うインプリント領域の列ごとにインプリント処理を行う。第3実施形態では、複数の列の中では、風上側の列から風下側の列となる順番でインプリント処理を行う。1つの列のY方向に並ぶ複数のインプリント領域の進行方向が、図4の(a)のように、Y軸に沿って常に同じ方向(例えば、+方向)であってもよい。また、図4の(b)のように、互いに隣接する2つの列の間でパターンが順次形成されるインプリント領域の進行方向が互いに逆であってもよい。インプリント処理を行うインプリント領域にインプリント材をディスペンスする際に発生するインプリント材のミストはインプリント処理がまだ行われていないインプリント領域に飛散し、インプリント処理が既に行われたインプリント領域には飛散しない。したがって、ことになり、インプリント処理が既に行われて形成されたパターンにミストが付着することに起因するパターン欠陥の発生を防止することができる。
第1〜第3実施形態では、気流30の方向を変化させず一定とした。しかし、気流30の方向を変化させてもよい。ただし、その場合、制御部20は、気流30の方向の変化に応じてインプリント処理の順番を変更させる必要がある。また、制御部20は、インプリント処理を行うインプリント領域の順番を変更することに応じて気流30の方向を変更することができる。
本発明の実施形態に係る物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。該製造方法は、インプリント装置1を用いて基板上にパターンを形成する工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンが形成された基板を加工する他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (10)
- 基板上のインプリント領域にインプリント材のパターンを型で形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記インプリント材を吐出するディスペンサと、
前記ディスペンサと前記基板との間の気流の上流側に位置するインプリント領域に前記気流の下流側に位置するインプリント領域より先に前記パターンが形成されるように前記インプリント処理を制御する制御部と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。 - 前記制御部は、前記気流に沿って配列された前記基板上の複数のインプリント領域に前記パターンが順次形成されるように前記インプリント処理を制御することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記気流の上流側に位置する列の複数のインプリント領域に前記気流の下流側に位置する列の複数のインプリント領域より先に前記パターンが順次形成されるように前記インプリント処理を制御することを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。
- 互いに隣接する2つの列の間で前記パターンが順次形成されるインプリント領域の進行方向が互いに逆であることを特徴とする請求項3に記載のインプリント装置。
- 前記気流を発生させる発生部を備え、
前記制御部は、前記パターンが順次形成される複数のインプリント領域を含む行ごとに前記気流の方向が異なるように前記発生部を制御することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のインプリント装置。 - 前記発生部は、前記気流に係る気体を供給する供給部を含むことを特徴とする請求項1ないし請求項5のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記発生部は、前記気流に係る気体を回収する回収部を含むことを特徴とする請求項1ないし請求項6のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記気流の速度が変更されるように前記発生部を制御することを特徴とする請求項1ないし請求項7のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、レシピに基づいて前記速度が変更されるように前記発生部を制御することを特徴とする請求項8に記載のインプリント装置。
- 請求項1ないし請求項9のうちいずれか1項に記載のインプリント装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
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JP2016009766A (ja) | インプリント装置および物品製造方法 |
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