JP2015200173A - 地盤改良基礎構造 - Google Patents
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Abstract
Description
2,2A−2F 柱状改良体
21 鋼管(縁切部)
22 芯材
3,3A−3F 壁状改良体
31,31A−31F 短柱体
G1 支持層
G2 液状化層
P 集中荷重(鉛直荷重)
U ユニット建物(上部構造物)
U11 柱脚部
Claims (8)
- 地盤とセメント系固化材とを混合撹拌させた改良体によって構築される地盤改良基礎構造であって、
上部構造物による鉛直荷重が作用する平面位置に設けられる複数の柱状改良体と、
前記上部構造物の下方地盤が囲まれるように前記柱状改良体間に設けられる壁状改良体とを備え、
前記柱状改良体の深度は前記壁状改良体の深度よりも深いことを特徴とする地盤改良基礎構造。 - 柱と梁とによって骨組みが形成される上部構造物の基礎として、地盤とセメント系固化材とを混合撹拌させた改良体によって構築される地盤改良基礎構造であって、
前記上部構造物の柱脚部が設置される平面位置に設けられる複数の柱状改良体と、
前記上部構造物の下方地盤が囲まれるように前記柱状改良体間に設けられる壁状改良体とを備え、
前記柱状改良体の深度は前記壁状改良体の深度よりも深いことを特徴とする地盤改良基礎構造。 - 前記柱状改良体と前記壁状改良体との間には、せん断力の伝達を低減又は遮断させる縁切部が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の地盤改良基礎構造。
- 前記縁切部は、前記柱状改良体の外殻となる周面が平滑な管材によって形成されることを特徴とする請求項3に記載の地盤改良基礎構造。
- 地盤とセメント系固化材とを混合撹拌させた改良体によって構築される地盤改良基礎構造であって、
上部構造物による鉛直荷重が作用する平面位置に設けられる複数の柱状改良体と、
少なくとも前記上部構造物の下方地盤が囲まれるように前記柱状改良体の外側を囲繞するように設けられる壁状改良体とを備え、
前記柱状改良体の深度は前記壁状改良体の深度よりも深いことを特徴とする地盤改良基礎構造。 - 前記柱状改良体の先端は地盤の支持層まで到達させるとともに、前記壁状改良体は前記支持層よりも浅層に位置する液状化層の範囲に設けられることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の地盤改良基礎構造。
- 前記壁状改良体は短柱状の改良体を連続させることによって形成されており、前記短柱状の改良体の直径は前記柱状改良体の直径よりも小さいことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の地盤改良基礎構造。
- 前記柱状改良体に芯材が埋設されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の地盤改良基礎構造。
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