JP2015167025A5 - 構造体、タッチパネル及びディスプレイ - Google Patents
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Description
また、本発明は、前記タッチパネルおよびディスプレイモジュールを含むディスプレイを提供する。
[項目1]
基材と、
前記基材の少なくとも一面に備えられた導電層;および
前記導電層の少なくとも一面に備えられた吸光層
を含む構造体。
[項目2]
前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が15%以下であることを特徴とする、項目1に記載の構造体。
[項目3]
前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が10%以下であることを特徴とする、項目1または2に記載の構造体。
[項目4]
前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が5%以下であることを特徴とする、項目1から3の何れか1項に記載の構造体。
[項目5]
前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が3%以下であることを特徴とする、項目1から4の何れか1項に記載の構造体。
[項目6]
前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が15%以下であることを特徴とする、項目1から5の何れか1項に記載の構造体。
[項目7]
前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が10%以下であることを特徴とする、項目1から6の何れか1項に記載の構造体。
[項目8]
前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が5%以下であることを特徴とする、項目1から7の何れか1項に記載の構造体。
[項目9]
前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が3%以下であることを特徴とする、項目1から8の何れか1項に記載の構造体。
[項目10]
前記導電層が基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が15%以下であることを特徴とする、項目1から9の何れか1項に記載の構造体。
[項目11]
前記導電層が前記基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が10%以下であることを特徴とする、項目1から10の何れか1項に記載の構造体。
[項目12]
前記導電層が前記基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が5%以下であることを特徴とする、項目1から11の何れか1項に記載の構造体。
[項目13]
前記導電層が前記基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が3%以下であることを特徴とする、項目1から12の何れか1項に記載の構造体。
[項目14]
前記構造体の20度光沢(gloss)値が350以下であることを特徴とする、項目1から13の何れか1項に記載の構造体。
[項目15]
前記構造体の20度光沢(gloss)値が300以下であることを特徴とする、項目1から14の何れか1項に記載の構造体。
[項目16]
前記構造体の60度光沢(gloss)値が300以下であることを特徴とする、項目1から15の何れか1項に記載の構造体。
[項目17]
前記構造体の60度光沢(gloss)値が250以下であることを特徴とする、項目1から16の何れか1項に記載の構造体。
[項目18]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が30〜40であることを特徴とする、項目1から17の何れか1項に記載の構造体。
[項目19]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が25〜30であることを特徴とする、項目1から18の何れか1項に記載の構造体。
[項目20]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が16〜25であることを特徴とする、項目1から19の何れか1項に記載の構造体。
[項目21]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が5〜16であることを特徴とする、項目1から20の何れか1項に記載の構造体。
[項目22]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が1〜5であることを特徴とする、項目1から21の何れか1項に記載の構造体。
[項目23]
前記吸光層は、誘電性物質、金属、金属の合金、金属の酸化物、金属の窒化物、金属の酸窒化物および金属の炭化物からなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、項目1から22の何れか1項に記載の構造体。
[項目24]
前記金属は、Ni、Mo、Ti、Cr、Al、Cu、Fe、Co、Ti、V、AuおよびAgからなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、項目23に記載の構造体。
[項目25]
基材;
前記基材の少なくとも一面に備えられた導電性パターン;および
前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域のうち少なくとも一部に備えられた吸光性パターン
を含む構造体を含むタッチパネル。
[項目26]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの両面のうちディスプレイモジュールが取り付けられる面に対向する面に備えられることを特徴とする、項目25に記載のタッチパネル。
[項目27]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの両面に備えられることを特徴とする、項目25または26に記載のタッチパネル。
[項目28]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて10〜20%減少することを特徴とする、項目25から27の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目29]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて20〜30%減少することを特徴とする、項目25から28の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目30]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて30〜40%減少することを特徴とする、項目25から29の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目31]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて40〜50%減少することを特徴とする、項目25から30の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目32]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて50〜70%減少することを特徴とする、項目25から31の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目33]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が40%以下であることを特徴とする、項目25から32の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目34]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が30%以下であることを特徴とする、項目25から33の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目35]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が20%以下であることを特徴とする、項目25から34の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目36]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が10%以下であることを特徴とする、項目25から35の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目37]
前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が90%以下であることを特徴とする、項目25から36の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目38]
前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が70%以下であることを特徴とする、項目25から37の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目39]
前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が30%以下であることを特徴とする、項目25から38の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目40]
前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が10%以下であることを特徴とする、項目25から39の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目41]
前記構造体の20度光沢(gloss)値が350以下であることを特徴とする、項目25から40の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目42]
前記構造体の20度光沢(gloss)値が300以下であることを特徴とする、項目25から41の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目43]
前記構造体の60度光沢(gloss)値が300以下であることを特徴とする、項目25から42の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目44]
前記構造体の60度光沢(gloss)値が250以下であることを特徴とする、項目25から43の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目45]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が30〜40であることを特徴とする、項目25から44の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目46]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が25〜30であることを特徴とする、項目25から45の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目47]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が16〜25であることを特徴とする、項目25から46の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目48]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が5〜16であることを特徴とする、項目25から47の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目49]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が1〜5であることを特徴とする、項目25から48の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目50]
前記構造体のヘイズ値は5%以下であることを特徴とする、項目25から49の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目51]
前記構造体のヘイズ値は3%以下であることを特徴とする、項目25から50の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目52]
前記構造体のヘイズ値は1.5%以下であることを特徴とする、項目25から51の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目53]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンと前記基材との間に備えられることを特徴とする、項目25から52の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目54]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの前記基材側の反対面に備えられることを特徴とする、項目25から52の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目55]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンと前記基材との間、および前記導電性パターンの前記基材側の反対面に全て備えられることを特徴とする、項目25から52の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目56]
基材と、前記基材の少なくとも一面上に備えられた導電性パターン、および前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域に備えられた吸光性パターンを含む積層体をさらに含むことを特徴とする、項目25から55の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目57]
2個の前記積層体の間に絶縁層が備えられることを特徴とする、項目56に記載のタッチパネル。
[項目58]
2個の前記積層体は、互いに反対方向または同じ方向に配置されることを特徴とする、項目56または57に記載のタッチパネル。
[項目59]
前記基材の両面に、各々、前記導電性パターンおよび吸光性パターンが備えられることを特徴とする、項目25から58の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目60]
前記導電性パターンは、不規則なパターン形態を有することを特徴とする、項目25から59の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目61]
前記導電性パターンは、ボロノイ図をなす図形の境界線形態であることを特徴とする、項目60に記載のタッチパネル。
[項目62]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの線幅と等しいか大きい線幅を有するパターン形態を有することを特徴とする、項目25から61の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目63]
前記導電性パターンの線幅は10μm以下、厚さは2μm以下、およびピッチは600μm以下であることを特徴とする、項目25から62の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目64]
前記吸光性パターンは、蒸着法によって形成されることを特徴とする、項目25から63の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目65]
前記吸光性パターンおよび前記導電性パターンは、蒸着法によって形成されることを特徴とする、項目25から64の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目66]
前記積層体の導電性パターンのうち電気的に接続された導電性パターンの面抵抗が0.5〜200オーム/スクエアであることを特徴とする、項目56に記載のタッチパネル。
[項目67]
前記吸光性パターンは、誘電性物質、金属、金属の合金、金属の酸化物、金属の窒化物、金属の酸窒化物および金属の炭化物からなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、項目25から66の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目68]
前記金属は、Ni、Mo、Ti、Cr、Al、Cu、Fe、Co、Ti、V、AuおよびAgからなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、項目67に記載のタッチパネル。
[項目69]
項目25から68の何れか1項に記載のタッチパネルおよびディスプレイモジュールを含むディスプレイ。
[項目70]
透明基材;
前記透明基材の少なくとも一面に備えられ、金属、金属合金、金属酸化物、金属窒化物および金属酸窒化物のうち少なくとも1つを含む導電層;および
前記導電層の少なくとも一面に備えられた吸光層を含み、
前記吸光層が前記導電層と透明基材との間に備えられ、
前記透明基材側において測定した全反射率が15%以下であることを特徴とする構造体。
[項目71]
透明基材;
前記透明基材の少なくとも一面に備えられ、アルミニウム、銀、銅、ネオジムおよびニッケルからなる金属群から選択される1種以上の金属、前記金属群から選択される2種以上の金属の合金、前記金属群から選択される1種以上の金属を含む酸化物、前記金属群から選択される1種以上の金属を含む窒化物、および前記金属群から選択される1種以上の金属を含む酸窒化物からなる群から選択される少なくとも1つを含む導電性パターン;および
前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域のうち少なくとも一部に備えられた吸光性パターン
を含む構造体を含むタッチパネル。
[項目1]
基材と、
前記基材の少なくとも一面に備えられた導電層;および
前記導電層の少なくとも一面に備えられた吸光層
を含む構造体。
[項目2]
前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が15%以下であることを特徴とする、項目1に記載の構造体。
[項目3]
前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が10%以下であることを特徴とする、項目1または2に記載の構造体。
[項目4]
前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が5%以下であることを特徴とする、項目1から3の何れか1項に記載の構造体。
[項目5]
前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が3%以下であることを特徴とする、項目1から4の何れか1項に記載の構造体。
[項目6]
前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が15%以下であることを特徴とする、項目1から5の何れか1項に記載の構造体。
[項目7]
前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が10%以下であることを特徴とする、項目1から6の何れか1項に記載の構造体。
[項目8]
前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が5%以下であることを特徴とする、項目1から7の何れか1項に記載の構造体。
[項目9]
前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が3%以下であることを特徴とする、項目1から8の何れか1項に記載の構造体。
[項目10]
前記導電層が基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が15%以下であることを特徴とする、項目1から9の何れか1項に記載の構造体。
[項目11]
前記導電層が前記基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が10%以下であることを特徴とする、項目1から10の何れか1項に記載の構造体。
[項目12]
前記導電層が前記基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が5%以下であることを特徴とする、項目1から11の何れか1項に記載の構造体。
[項目13]
前記導電層が前記基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が3%以下であることを特徴とする、項目1から12の何れか1項に記載の構造体。
[項目14]
前記構造体の20度光沢(gloss)値が350以下であることを特徴とする、項目1から13の何れか1項に記載の構造体。
[項目15]
前記構造体の20度光沢(gloss)値が300以下であることを特徴とする、項目1から14の何れか1項に記載の構造体。
[項目16]
前記構造体の60度光沢(gloss)値が300以下であることを特徴とする、項目1から15の何れか1項に記載の構造体。
[項目17]
前記構造体の60度光沢(gloss)値が250以下であることを特徴とする、項目1から16の何れか1項に記載の構造体。
[項目18]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が30〜40であることを特徴とする、項目1から17の何れか1項に記載の構造体。
[項目19]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が25〜30であることを特徴とする、項目1から18の何れか1項に記載の構造体。
[項目20]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が16〜25であることを特徴とする、項目1から19の何れか1項に記載の構造体。
[項目21]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が5〜16であることを特徴とする、項目1から20の何れか1項に記載の構造体。
[項目22]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が1〜5であることを特徴とする、項目1から21の何れか1項に記載の構造体。
[項目23]
前記吸光層は、誘電性物質、金属、金属の合金、金属の酸化物、金属の窒化物、金属の酸窒化物および金属の炭化物からなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、項目1から22の何れか1項に記載の構造体。
[項目24]
前記金属は、Ni、Mo、Ti、Cr、Al、Cu、Fe、Co、Ti、V、AuおよびAgからなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、項目23に記載の構造体。
[項目25]
基材;
前記基材の少なくとも一面に備えられた導電性パターン;および
前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域のうち少なくとも一部に備えられた吸光性パターン
を含む構造体を含むタッチパネル。
[項目26]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの両面のうちディスプレイモジュールが取り付けられる面に対向する面に備えられることを特徴とする、項目25に記載のタッチパネル。
[項目27]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの両面に備えられることを特徴とする、項目25または26に記載のタッチパネル。
[項目28]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて10〜20%減少することを特徴とする、項目25から27の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目29]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて20〜30%減少することを特徴とする、項目25から28の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目30]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて30〜40%減少することを特徴とする、項目25から29の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目31]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて40〜50%減少することを特徴とする、項目25から30の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目32]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて50〜70%減少することを特徴とする、項目25から31の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目33]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が40%以下であることを特徴とする、項目25から32の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目34]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が30%以下であることを特徴とする、項目25から33の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目35]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が20%以下であることを特徴とする、項目25から34の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目36]
前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が10%以下であることを特徴とする、項目25から35の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目37]
前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が90%以下であることを特徴とする、項目25から36の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目38]
前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が70%以下であることを特徴とする、項目25から37の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目39]
前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が30%以下であることを特徴とする、項目25から38の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目40]
前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が10%以下であることを特徴とする、項目25から39の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目41]
前記構造体の20度光沢(gloss)値が350以下であることを特徴とする、項目25から40の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目42]
前記構造体の20度光沢(gloss)値が300以下であることを特徴とする、項目25から41の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目43]
前記構造体の60度光沢(gloss)値が300以下であることを特徴とする、項目25から42の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目44]
前記構造体の60度光沢(gloss)値が250以下であることを特徴とする、項目25から43の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目45]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が30〜40であることを特徴とする、項目25から44の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目46]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が25〜30であることを特徴とする、項目25から45の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目47]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が16〜25であることを特徴とする、項目25から46の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目48]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が5〜16であることを特徴とする、項目25から47の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目49]
前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が1〜5であることを特徴とする、項目25から48の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目50]
前記構造体のヘイズ値は5%以下であることを特徴とする、項目25から49の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目51]
前記構造体のヘイズ値は3%以下であることを特徴とする、項目25から50の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目52]
前記構造体のヘイズ値は1.5%以下であることを特徴とする、項目25から51の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目53]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンと前記基材との間に備えられることを特徴とする、項目25から52の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目54]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの前記基材側の反対面に備えられることを特徴とする、項目25から52の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目55]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンと前記基材との間、および前記導電性パターンの前記基材側の反対面に全て備えられることを特徴とする、項目25から52の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目56]
基材と、前記基材の少なくとも一面上に備えられた導電性パターン、および前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域に備えられた吸光性パターンを含む積層体をさらに含むことを特徴とする、項目25から55の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目57]
2個の前記積層体の間に絶縁層が備えられることを特徴とする、項目56に記載のタッチパネル。
[項目58]
2個の前記積層体は、互いに反対方向または同じ方向に配置されることを特徴とする、項目56または57に記載のタッチパネル。
[項目59]
前記基材の両面に、各々、前記導電性パターンおよび吸光性パターンが備えられることを特徴とする、項目25から58の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目60]
前記導電性パターンは、不規則なパターン形態を有することを特徴とする、項目25から59の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目61]
前記導電性パターンは、ボロノイ図をなす図形の境界線形態であることを特徴とする、項目60に記載のタッチパネル。
[項目62]
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの線幅と等しいか大きい線幅を有するパターン形態を有することを特徴とする、項目25から61の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目63]
前記導電性パターンの線幅は10μm以下、厚さは2μm以下、およびピッチは600μm以下であることを特徴とする、項目25から62の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目64]
前記吸光性パターンは、蒸着法によって形成されることを特徴とする、項目25から63の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目65]
前記吸光性パターンおよび前記導電性パターンは、蒸着法によって形成されることを特徴とする、項目25から64の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目66]
前記積層体の導電性パターンのうち電気的に接続された導電性パターンの面抵抗が0.5〜200オーム/スクエアであることを特徴とする、項目56に記載のタッチパネル。
[項目67]
前記吸光性パターンは、誘電性物質、金属、金属の合金、金属の酸化物、金属の窒化物、金属の酸窒化物および金属の炭化物からなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、項目25から66の何れか1項に記載のタッチパネル。
[項目68]
前記金属は、Ni、Mo、Ti、Cr、Al、Cu、Fe、Co、Ti、V、AuおよびAgからなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、項目67に記載のタッチパネル。
[項目69]
項目25から68の何れか1項に記載のタッチパネルおよびディスプレイモジュールを含むディスプレイ。
[項目70]
透明基材;
前記透明基材の少なくとも一面に備えられ、金属、金属合金、金属酸化物、金属窒化物および金属酸窒化物のうち少なくとも1つを含む導電層;および
前記導電層の少なくとも一面に備えられた吸光層を含み、
前記吸光層が前記導電層と透明基材との間に備えられ、
前記透明基材側において測定した全反射率が15%以下であることを特徴とする構造体。
[項目71]
透明基材;
前記透明基材の少なくとも一面に備えられ、アルミニウム、銀、銅、ネオジムおよびニッケルからなる金属群から選択される1種以上の金属、前記金属群から選択される2種以上の金属の合金、前記金属群から選択される1種以上の金属を含む酸化物、前記金属群から選択される1種以上の金属を含む窒化物、および前記金属群から選択される1種以上の金属を含む酸窒化物からなる群から選択される少なくとも1つを含む導電性パターン;および
前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域のうち少なくとも一部に備えられた吸光性パターン
を含む構造体を含むタッチパネル。
Claims (20)
- 基材と、
前記基材の少なくとも一面に備えられた導電層と、
前記導電層と前記基材との間に備えられた吸光層と
を含み、
前記吸光層の厚さが10nmから400nmであり、
前記基材側において測定した全反射率が10%以下であり、
前記導電層は、金属及び金属の合金からなる群から選択される少なくとも1つを含み、
前記吸光層は、金属の酸化物、金属の窒化物、金属の酸窒化物からなる群から選択される1つ又は複数を含む
構造体。 - 前記基材側において測定した全反射率が5%以下である
請求項1に記載の構造体。 - 前記基材側において測定した全反射率が3%以下である
請求項1又は2に記載の構造体。 - 前記構造体の20度グロス値が350以下である
請求項1から3の何れか1項に記載の構造体。 - 前記構造体の60度グロス値が300以下である
請求項1から4の何れか1項に記載の構造体。 - 前記金属又は前記金属の合金は、アルミニウム、銀、銅、ネオジム及びニッケルからなる群から選択される1つ又は複数を含む
請求項1から5の何れか1項に記載の構造体。 - 前記金属の酸化物、前記金属の窒化物又は前記金属の酸窒化物は、Ni、Mo、Ti、Cr、Al及びCuからなる群から選択される1つ又は複数を含む
請求項1から6の何れか1項に記載の構造体。 - 基材と、
前記基材の少なくとも一面に備えられた導電性パターンと、
前記導電性パターンと前記基材との間に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域のうち少なくとも一部に備えられた吸光性パターンと
を含む構造体を含み、
前記吸光性パターンの厚さが10nmから400nmであり、
前記吸光性パターンは、前記導電性パターンと接する第1面と前記第1面に対向する第2面とを含み、前記吸光性パターンの前記第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率(Rt)は、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率(R0)に比べて、50〜70%減少し、
前記導電性パターンは、金属及び金属の合金からなる群から選択される少なくとも1つを含み、
前記吸光性パターンは、金属の酸化物、金属の窒化物、金属の酸窒化物からなる群から選択される1つ又は複数を含む
タッチパネル。 - 前記吸光性パターンは、前記導電性パターンと接する第1面と前記第1面に対向する第2面とを含み、前記吸光性パターンの前記第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率(Rt)と前記基材の全反射率(R0)との間の差が40%以下である
請求項8に記載のタッチパネル。 - 前記タッチパネルは、前記構造体の一側に備えられた追加の基材をさらに含み、前記構造体に備えられた前記追加の基材の全反射率を前記追加の基材側において測定した時、前記構造体の全反射率と前記追加の基材の全反射率との間の差が90%以下である
請求項8又は9に記載のタッチパネル。 - 前記金属又は前記金属の合金は、アルミニウム、銀、銅、ネオジム及びニッケルからなる群から選択される1つ又は複数を含む
請求項8から10の何れか1項に記載のタッチパネル。 - 前記金属の酸化物、前記金属の窒化物、又は前記金属の酸窒化物は、Ni、Mo、Ti、Cr、Al及びCuからなる群から選択される1つ又は複数を含む
請求項8から11の何れか1項に記載のタッチパネル。 - 基材と、前記基材の少なくとも一面上に備えられた導電性パターンと、前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域に備えられた吸光性パターンとを含む積層体をさらに含む
請求項8から12の何れか1項に記載のタッチパネル。 - 2個の前記積層体の間に絶縁層が備えられる
請求項13に記載のタッチパネル。 - 2個の前記積層体が、反対方向又は同じ方向に配置される
請求項13又は14に記載のタッチパネル。 - 前記導電性パターンは、不規則なパターン形態を有する
請求項8から15の何れか1項に記載のタッチパネル。 - 前記導電性パターンは、ボロノイ図をなす図形の境界線形態である
請求項16に記載のタッチパネル。 - 前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの線幅と等しいか大きい線幅を有するパターン形態を有する
請求項8から17の何れか1項に記載のタッチパネル。 - 前記導電性パターンの線幅は10μm以下、厚さは2μm以下、ピッチは600μm以下である
請求項8から18の何れか1項に記載のタッチパネル。 - 請求項8から19の何れか1項に記載のタッチパネルと、
ディスプレイモジュールと
を含むディスプレイ。
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