JP2015127094A - 研磨パッド - Google Patents
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Abstract
Description
実施例1では、まずウレタン樹脂研磨パッドKSP66A(九重電気株式会社製)の表面にエポキシ系光硬化性樹脂SCR−751(株式会社ディーメック製)30gにIRGACURE1800を1.5g添加させたものを薄く塗布した。尚、この際の塗布厚は約0.1mmとした。その後、紫外線を25分間照射し、上記のエポキシ系光硬化性樹脂を硬化させることにより、表面硬度が78(A硬度)となった本発明の実施例1に係る研磨パッドを製造した。
(研磨条件)
研磨スラリー:酸化セリウムを3wt%水に懸濁したスラリー
スラリー流量:25mL/min
研磨速度(回転数):60rpm
研磨圧力:200gf/cm2
また、実施例2では、不織布研磨パッドK0017(株式会社FILWEL製)にエポキシ樹脂基本液状タイプ834に硬化剤としてjERキュアFL052(共にジャパンエポキシレジン株式会社(現三菱化学株式会社)製)を加えたものを含浸させた。その後、140℃で1時間加熱し、硬化させることにより、表面硬度が84(A硬度)となった本発明の実施例2に係る研磨パッドを製造した。
2 繊維基材
3 エポキシ樹脂膜
4 コーティング膜
5 ナップ層
51 縦穴
6 エポキシ樹脂
7 ナップ層(エポキシ樹脂)
71 縦穴
Claims (6)
- 繊維により構成された不織布の繊維基材の前記繊維にエポキシ樹脂が含まれてなる研磨パッドであって、
前記エポキシ樹脂は、A硬度が70〜100の範囲になるように、エポキシ樹脂に硬化剤を加えたものであることを特徴とする研磨パッド。 - 前記エポキシ樹脂は、液状タイプのエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記繊維基材に前記エポキシ樹脂を塗布又は含浸させていることを特徴とする請求項1又は2に記載の研磨パッド。
- 前記繊維を前記エポキシ樹脂でコーティングし、該繊維同士を熱硬化性樹脂により固定することを特徴とする請求項1又は2に記載の研磨パッド。
- 前記繊維基材にポリウレタン樹脂を含浸して硬化させていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の研磨パッド。
- 前記エポキシ樹脂は、前記液状タイプのエポキシ樹脂に前記硬化剤としてjERキュアFL052(三菱化学株式会社製)を加えたものであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の研磨パッド。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015042059A JP2015127094A (ja) | 2015-03-04 | 2015-03-04 | 研磨パッド |
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JP2010250025A Division JP2012101298A (ja) | 2010-11-08 | 2010-11-08 | 研磨パッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2015127094A true JP2015127094A (ja) | 2015-07-09 |
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2015
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A977 | Report on retrieval |
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