JP6317842B1 - 研磨パッド及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明に係る研磨パッドの一実施例を示している。図1の研磨パッド1は、基材層10及び研磨体層20を含んでいる。
図1の研磨パッド1の製造方法は、第1微粒研磨材と高分子バインダーとを混合し、研磨スラリーを製造する段階;前記研磨スラリーと研磨補助材とを混合して製造された研磨成形体を焼結し、第1研磨体を準備する段階;第2微粒研磨材と高分子バインダーとを混合し、セルフ−コンディショニング成形体を製造する段階;前記セルフ−コンディショニング成形体を水性ポリウレタンでコーティングし、第2研磨体を準備する段階;前記第1研磨体と前記第2研磨体とを混合し、研磨体層を製造する段階;前記研磨体層上に緩衝層を塗布する段階;及び前記緩衝層上に基材層を塗布する段階;を含む。
前記第1研磨体21は、第1微粒研磨材21aと高分子バインダーとを混合することによって研磨スラリーを製造し、前記研磨スラリーと研磨補助材21bとを混合した研磨成形体の焼結段階を経て製造される。前記焼結段階を通じて研磨成形体の高分子バインダーが除去され、第1微粒研磨材21aと研磨補助材21bとが接合された第1研磨体21が製造される。ここで、前記焼結段階は、研磨成形体を400℃〜800℃の温度で加熱することが好ましい。
前記第2研磨体23は、第2微粒研磨材23aと高分子バインダー23bとを混合することによってセルフ−コンディショニング成形体を製造し、前記セルフ−コンディショニング成形体を水性ポリウレタン23cでコーティングして製造される。前記セルフ−コンディショニング成形体の表面をポリウレタン23cでコーティングすることによって、溶出速度の制御が可能であるという長所がある。また、前記水性ポリウレタンは、セルフ−コンディショニング成形体を85℃〜100℃で1回以上コーティングすることが好ましい。前記コーティングは、バーコーティング、インクジェットプリンティング、グラビア印刷、オフセット印刷、スプレー又はスピンコーティングによって行ってよい。
前記研磨体層20上に基材層10を塗布する。(図2の(B)参照)ここで、前記基材層10を塗布した後で硬化させ、前記成形モールド3を除去することによって(図2の(C)参照)図1の研磨パッド1を製造することができる。
前記緩衝層30の裏面に第1減圧粘着層40を形成する。前記第1減圧粘着層40は、一般に使用される減圧粘着テープ(pressure sensitive adhesive tape)であってもよい。
前記第1減圧粘着層40が形成されていない基材層10の裏面に第2減圧粘着層50を形成する。第2減圧粘着層50は、前記第1減圧粘着層40と同様に減圧粘着テープであってもよい。前記第2減圧粘着層50は、研磨装置との付着のためのものであって、本発明によって製造された研磨パッド1は、基材層10によって大面積に製造されても容易に曲がらなく、研磨工程時に研磨装置との付着が容易であるという利点を有することができる。
ダイヤモンドである第1微粒研磨材と水溶性溶剤とをボールミルを用いて混合することによって、凝集現象が発生しないように分散させた。分散が完了した第1微粒研磨材を乾燥し、溶剤を蒸発させることによって第1微粒研磨材パウダーを得た。
シリカパウダーを第1微粒研磨材に対して100重量部混合したことを除いては、実施例1と同一の方法で第1研磨体を製造した。
シリカパウダーを第1微粒研磨材に対して200重量部混合したことを除いては、実施例1と同一の方法で第1研磨体を製造した。
実施例1〜3によって製造された第1研磨体の表面形状をSEMで測定し、これを図4に示した。
アルミナ(Al2O3)、炭酸カルシウム及び珪灰石が同一の重量で構成された第2微粒研磨材と水溶性溶剤とをボールミルを用いて混合することによって、凝集現象が発生しないように分散させた。分散が完了した第2微粒研磨材を乾燥し、溶剤を蒸発させることによって第2微粒研磨材パウダーを得た。
実施例1で製造された第1研磨体と実施例4で製造された第2研磨体とを高分子樹脂と共に陰刻モールドに注入して硬化させ、研磨体層を製造した。続いて、陰刻モールドを除去し、粘着テープで製造された研磨体層と基材とを接着させ、研磨パッドを製造した。
シリカ粉末を除いては、実施例1と同一の方法で第1研磨体を製造した。製造された第1研磨体と高分子樹脂を陰刻モールドに注入して硬化させ、研磨体層を製造した。
実施例5及び比較例1で製造された研磨パッドで光学ガラス基板を研磨することによって研磨除去率を測定し、その結果を図5に示した。
脂肪族系列のウレタンジアクリレート180gを、撹拌器を通じて撹拌する。これを撹拌前に40℃に設定されたオーブンに入れ、粘度を低下させることによって混合を容易にする。その後、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート5gを添加して混合し、イソボニルアクリレート15gを添加して連続的に撹拌する。撹拌後、BYK9150溶液0.5phr.及び光重合開始剤(Irgacure 819)1.5phr.を添加して混合し、緩衝層の混合物を製造した。
実施例6及び比較例1で準備された研磨パッドで光学ガラス基板を研磨し、光学ガラス基板の表面をレーザー顕微鏡で測定し、その結果を図7に示した。
10 基材層
20 研磨体層
20a、20b、20c 研磨突起
21 第1研磨体
21a 第1微粒研磨材
21b 研磨補助材
23 第2研磨体
23a 第2微粒研磨材
23b 高分子バインダー
23c 水性ポリウレタン
27 高分子樹脂
30 緩衝層
40 第1減圧粘着層
50 第2減圧粘着層
Claims (15)
- 基材層;及び
第1微粒研磨材及び研磨補助材を含む第1研磨体と、第2微粒研磨材及び高分子バインダーを含み、水性ポリウレタンでコーティングされた第2研磨体と、を含む研磨体層;を含み、
前記第2微粒研磨材は、水溶液によって少なくとも第2研磨体の一部が溶解されると前記第2研磨体から放出され、研磨パッドのコンディショニングを行うことを特徴とする研磨パッド。 - 前記研磨補助材はシリカパウダーであることを特徴とする、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨補助材は、第1微粒研磨材100重量部に対して10重量部〜100重量部で含まれることを特徴とする、請求項2に記載の研磨パッド。
- 前記第1微粒研磨材は、炭化ホウ素(B4C)、ダイヤモンド及び立方晶窒化ホウ素(cBN)のうちの少なくともいずれか一つを含むことを特徴とする、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記第2微粒研磨材は、酸化アルミニウム(Al2O3)、コロイダルシリカ、溶融シリカ、炭化ケイ素(SiC)、酸化ジルコニウム、酸化セリウム(CeO2)、酸化鉄(Fe2O3)及び酸化クロム(Cr2O3)のうちの少なくともいずれか一つを含むことを特徴とする、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記高分子バインダーは、澱粉、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレンオキシド(PEO)、ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸(PAA)、ポリアクリルアミド(PAM)、及びデキストリンのうちの少なくともいずれか一つを含むことを特徴とする、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記水性ポリウレタンは、前記第2微粒研磨材100重量部に対して0.1重量部〜20重量部で含まれることを特徴とする、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨体層上に緩衝層をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記緩衝層は、アクリレート樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂及びメラミン樹脂のうちのいずれか一つを含む熱硬化性樹脂、及び感光性樹脂のうちの少なくともいずれか一つを含むものである、請求項8に記載の研磨パッド。
- 第1微粒研磨材と高分子バインダーとを混合し、研磨スラリーを製造する段階;
前記研磨スラリーと研磨補助材とを混合して製造された研磨成形体を焼結し、第1研磨体を準備する段階;
第2微粒研磨材と高分子バインダーとを混合し、セルフ−コンディショニング成形体を製造する段階;
前記セルフ−コンディショニング成形体を水性ポリウレタンでコーティングし、第2研磨体を準備する段階;
前記第1研磨体と前記第2研磨体とを混合し、研磨体層を製造する段階;及び
前記研磨体層上に基材層を塗布する段階;を含むことを特徴とする研磨パッドの製造方法。 - 前記焼結段階は、研磨成形体を400℃〜800℃の温度で加熱することを特徴とする、請求項10に記載の研磨パッドの製造方法。
- 前記水性ポリウレタンは、セルフ−コンディショニング成形体に85℃〜100℃で1回以上コーティングされることを特徴とする、請求項10に記載の研磨パッドの製造方法。
- 前記高分子バインダーは、前記第1微粒研磨材100重量部に対して1重量部〜20重量部で含まれ、
前記研磨補助材は、前記第1微粒研磨材100重量部に対して10重量部〜100重量部で含まれることを特徴とする、請求項10に記載の研磨パッドの製造方法。 - 前記水性ポリウレタンは、前記第2微粒研磨材100重量部に対して0.1重量部〜20重量部で含まれることを特徴とする、請求項10に記載の研磨パッドの製造方法。
- 前記研磨体層上に緩衝層を塗布する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項10に記載の研磨パッドの製造方法。
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