JP2015096286A - 研磨パッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被研磨物5との間に、砥粒61が分散された研磨スラリー6を供給しながら被研磨物5を研磨するための研磨パッドであって、表面側に研磨スラリー6が入り込む気孔31は凹みを有しており、表面は、親水性樹脂で形成され、気孔31又は凹みは、疎水性表面又は撥水性表面で形成されている研磨パッド1。
【選択図】図3
Description
実施例1の研磨パッドは、図1に示すような多孔質研磨パッドであって、エポキシ樹脂に、小径のプラスティック中空粒子としてフッ素樹脂の表面を持った中空粒子を混合し、それを熱して広げることにより、基材をエポキシ樹脂で形成し、気孔の壁面のみをフッ素樹脂で形成したものである。そして、この研磨パッドを用いて、ソーダガラスの研磨加工を行った。研磨条件については、以下に示すような条件で研磨を行った。
(研磨条件)
研磨装置:片面研磨盤SPL15F(株式会社岡本工作機械製作所製)
ワーク:ソーダガラス(直径20mm、粗さ0.4μmRa)
研磨圧力:20kPa
工作物回転数:60rpm
定盤回転数:60rpm
研磨時間:30min
研磨スラリー:酸化セリウム砥粒を3wt%水に懸濁したスラリー
スラリー供給量:25mL/min
また、実施例2では、ウレタン樹脂とエポキシ樹脂の混合物に、小径のプラスティック中空粒子としてフッ素樹脂の表面を持った中空粒子を混合し、それを熱して広げることにより、基材をウレタン樹脂とエポキシ樹脂の混合樹脂で形成し、気孔の壁面のみをフッ素樹脂で形成した多孔質研磨パッドを用いて、実施例1と同様の条件にてソーダガラスの研磨を行った。
比較例1では、ウレタン樹脂に発泡剤を混合させ、硬化剤を加え金型内で発泡させて硬化させた後、離型して、室温で二次乾燥させてから、所定厚さの薄形円柱状にスライスすることにより製造した多孔質研磨パッドであって、気孔もウレタン樹脂で形成されているものを用いて、実施例1と同様の条件にてソーダガラスの研磨を行った。
比較例2では、エポキシ樹脂に発泡剤を混合させ、硬化剤を加え金型内で発泡させて硬化させた後、離型して、室温で二次乾燥させてから、所定厚さの薄形円柱状にスライスすることにより製造した多孔質研磨パッドであって、気孔もエポキシ樹脂で形成されているものを用いて、実施例1と同様の条件にてソーダガラスの研磨を行った。
比較例3では、ウレタン樹脂とエポキシ樹脂の混合物に発泡剤を混合させ、硬化剤を加え金型内で発泡させて硬化させた後、離型して、室温で二次乾燥させてから、所定厚さの薄形円柱状にスライスすることにより製造した多孔質研磨パッドであって、気孔もウレタン樹脂とエポキシ樹脂の混合樹脂で形成されているものを用いて、実施例1と同様の条件にてソーダガラスの研磨を行った。
実施例3の研磨パッドは、図4に示すようなスエードタイプの研磨パッドであって、親水性樹脂としてウレタン樹脂をジメチルホルムアミドの水溶性有機溶媒に溶解させたウレタン樹脂溶液を基材に塗布し、これを水中で処理し湿式凝固して多孔質銀面層を形成し、水洗乾燥後に該銀面層表面を研削することにより形成したウレタン樹脂のナップ層に対して、疎水性樹脂としてフッ素樹脂を含浸させた後、表面をドレスすることにより、縦穴構造の気孔の壁面をフッ素樹脂で形成したものである。そして、この研磨パッドを用いて、ソーダガラスの研磨加工を以下の研磨条件で行った。
(研磨条件)
研磨装置:片面研磨装置 Nano factor(ナノファクター社製)
ワーク:ソーダガラス(直径20mm、厚さ5mm、粗さ0.4μmRa)
研磨圧力:20kPa
工作物回転数:90rpm
定盤回転数:90rpm
研磨時間:30min
研磨スラリー:平均粒径1.2μmの酸化セリウム砥粒(SHOROX A−10)を1wt%水に懸濁したスラリー
スラリー供給量:25mL/min
ドレッサ:電着ダイヤモンドリング #100
比較例4では、ウレタン樹脂をジメチルホルムアミドの水溶性有機溶媒に溶解させたウレタン樹脂溶液を基材に塗布し、これを水中で処理し湿式凝固して多孔質銀面層を形成し、水洗乾燥後に該銀面層表面を研削することにより形成したウレタン樹脂のナップ層を有するスエードタイプの研磨パッドであって、縦穴構造の気孔もウレタン樹脂で形成されているものを用いて、実施例3と同様の条件にてソーダガラスの研磨を行った。
また、比較例5では、ウレタン樹脂をジメチルホルムアミドの水溶性有機溶媒に溶解させたウレタン樹脂溶液を基材に塗布し、これを水中で処理し湿式凝固して多孔質銀面層を形成し、水洗乾燥後に該銀面層表面を研削することにより形成したウレタン樹脂のナップ層を有するスエードタイプの研磨パッドである比較例4の研磨パッドの表面にフッ素樹脂を塗布した研磨パッドを用いて、実施例3と同様の条件にてソーダガラスの研磨を行った。この比較例5の研磨パッドは、実施例3とは異なり、気孔の壁面だけでなく、表面もフッ素樹脂で形成されているものである。
2 基材
3 気孔
4 壁面
5 被研磨物
6 研磨スラリー
61 砥粒
7 基材
8 気孔
9 ナップ層
10 壁面
11 親水性樹脂
12 疎水性樹脂
19 縦穴
20 繊維
21 含浸樹脂
Claims (4)
- 被研磨物との間に、砥粒が分散された研磨スラリーを供給しながら前記被研磨物を研磨するための研磨パッドであって、
表面側に前記研磨スラリーが入り込む気孔又は凹みを有しており、前記表面は、親水性樹脂で形成され、前記気孔又は凹みは、疎水性表面又は撥水性表面で形成されていることを特徴とする研磨パッド。 - 前記研磨パッドは、多数の気孔を有するものであって、
前記気孔の壁面は、疎水性樹脂又は撥水性樹脂で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。 - 前記研磨パッドは、表面側が開孔している縦穴構造の気孔が多数形成されたナップ層を有するものであって、
前記気孔は、疎水性樹脂又は撥水性樹脂で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。 - 前記研磨パッドは、親水性樹脂の繊維からなる不織布又は繊維が親水性樹脂でコーティングされてなる不織布に疎水性樹脂又は撥水性樹脂が含浸されて形成されていることを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
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JP2013237249A JP2015096286A (ja) | 2013-11-15 | 2013-11-15 | 研磨パッド |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017136662A (ja) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | 株式会社クリスタル光学 | 研磨パッド |
WO2021157781A1 (ko) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 연마 장치용 연마 패드, 그의 제조 장치 및 제조 방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1148129A (ja) * | 1997-08-07 | 1999-02-23 | Asahi Glass Co Ltd | 研磨パッド及び板状材の研磨方法 |
JP2002283221A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-10-03 | Rodel Nitta Co | 研磨布 |
JP2003128910A (ja) * | 2001-10-17 | 2003-05-08 | Rodel Nitta Co | 研磨パッド |
JP2010152965A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Toray Ind Inc | 研磨布 |
JP2010149259A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Nitta Haas Inc | 研磨布 |
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2013
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1148129A (ja) * | 1997-08-07 | 1999-02-23 | Asahi Glass Co Ltd | 研磨パッド及び板状材の研磨方法 |
JP2002283221A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-10-03 | Rodel Nitta Co | 研磨布 |
JP2003128910A (ja) * | 2001-10-17 | 2003-05-08 | Rodel Nitta Co | 研磨パッド |
JP2010152965A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Toray Ind Inc | 研磨布 |
JP2010149259A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Nitta Haas Inc | 研磨布 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017136662A (ja) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | 株式会社クリスタル光学 | 研磨パッド |
WO2021157781A1 (ko) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 연마 장치용 연마 패드, 그의 제조 장치 및 제조 방법 |
KR20210099808A (ko) * | 2020-02-05 | 2021-08-13 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 연마 장치용 연마 패드, 그의 제조 장치 및 제조 방법 |
KR102305796B1 (ko) * | 2020-02-05 | 2021-09-28 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 연마 장치용 연마 패드, 그의 제조 장치 및 제조 방법 |
CN115087519A (zh) * | 2020-02-05 | 2022-09-20 | 爱思开矽得荣株式会社 | 晶片抛光装置用抛光垫以及用于制造其的设备和方法 |
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