JP2015088654A - 半導体モジュール - Google Patents

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高実 大月
玲 米山
Rei Yoneyama
玲 米山
秋彦 山下
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秋彦 山下
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Yoshitaka Kimura
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Abstract

【課題】製造効率の低下が抑制され、ベース板に対して絶縁基板が精度良く位置決めされた半導体モジュールを提供する。【解決手段】パワーモジュールは、位置決め用ワイヤボンディング部20a〜20dが表面3aに設けられたベース板3と、ベース板3に対向する裏面8b側において位置決め用ワイヤボンディング部20を収容する穴部21a〜21dが設けられ、穴部21a〜21dが位置決め用ワイヤボンディング部20を収容してベース板3に対して位置決めされた状態でベース板3に固定される絶縁基板8と、絶縁基板8において裏面8bと反対の表面側に配置される半導体チップとを備えている。【選択図】図2

Description

本発明は半導体モジュールに関する。
パワー半導体モジュールでは、半田接合により金属ベース板上において絶縁基板や半導体チップなどが搭載される。たとえば特開2000−31358号公報(以下、特許文献1という)や特開平1−281760号公報(以下、特許文献2という)では、銅箔により回路配置された絶縁基板が金属ベース板上に搭載された半導体モジュールにおいて、絶縁基板の位置決めのために金属ベース板上の所定位置に凹凸部を設ける技術が提案されている。
特開2000−31358号公報 特開平1−281760号公報
上記特許文献1および2において提案されている半導体モジュールでは、ベース板に凹凸部を設けるために当該ベース板に別途加工を施す必要があるため工数が増加し、製造効率が低下するという問題がある。また、金型などを用いて凹凸部を設ける場合には当該凹凸部の形成箇所や数を変更する際に金型自体の設計変更も必要になるため、多品種少量生産に用いることは困難である。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、製造効率の低下が抑制され、ベース板に対して絶縁基板が精度良く位置決めされた半導体モジュールを提供することである。
本発明に従った半導体モジュールは、位置決め用ワイヤボンディング部が表面に設けられたベース板と、ベース板に対向する裏面側において位置決め用ワイヤボンディング部を収容する受け部が設けられ、上記受け部が位置決め用ワイヤボンディング部を収容することによりベース板に対して位置決めされた状態でベース板に固定される絶縁基板と、絶縁基板において上記裏面と反対の表面側に配置される半導体チップとを備えている。
本発明に従った半導体モジュールによれば、製造効率の低下が抑制され、ベース板に対して絶縁基板が精度良く位置決めされた半導体モジュールを提供することができる。
実施の形態1に係る半導体モジュールの構造を示す概略断面図である。 実施の形態1に係る半導体モジュールの構造を説明するための概略斜視図である。 実施の形態1に係る半導体モジュールの第1の変形例の構造を説明するための概略斜視図である。 実施の形態1に係る半導体モジュールの第2の変形例の構造を説明するための概略斜視図である。 実施の形態1に係る半導体モジュールの第3の変形例の構造を説明するための概略斜視図である。 実施の形態1に係る半導体モジュールの第4の変形例の構造を説明するための概略斜視図である。 実施の形態2に係る半導体モジュールの構造を示す概略断面図である。
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の図面におい
て同一または相当する部分には同一の参照番号を付しその説明は繰返さない。
(実施の形態1)
はじめに、本発明の一実施の形態である実施の形態1について説明する。まず、本実施の形態に係る半導体モジュールの構造について説明する。図1を参照して、本実施の形態に係る半導体モジュールとしてのパワーモジュール1は、ケース2と、ベース板3と、電力端子4と、信号端子5と、電力配線4aおよび信号配線5a(ボンディングワイヤ)と、絶縁基板8と、半導体チップ10と、シリコンゲル12と、封止樹脂13とを主に備えている。
ケース2はベース板3の表面3a上に配置されており、ベース板3とともに半導体チップ10を収容するための内部空間を構成している。電力端子4は金属からなり、ケース2の内面に沿って半導体チップ10に接近するように屈曲しつつ延びている。電力端子4は電力配線4aを介して絶縁基板8の表(おもて)面8a上に形成されたパターン層7に接続されている。
信号端子5は金属からなり、ケース2の内面に沿って半導体チップ10に接近するように延びている。信号端子5はケース2の内部空間において電力端子4と対向し、電力端子4との間に半導体チップ10を挟むように配置されている。信号端子5は信号配線5aを介して半導体チップ10に接続されている。
絶縁基板8は表(おもて)面8aおよび裏面8bを有しており、当該表面8aおよび裏面8b上にパターン層7,9が各々形成されている。パターン層7,9はたとえば銅箔などからなっており、0.1mm以上0.5mm以下の厚みを有している。絶縁基板8はベース板3に対して位置決めされた状態で半田層6により当該ベース板3に固定されている。半田層6の厚みはたとえば0.1mm以上0.5mm以下である。絶縁基板8のベース板3に対する位置決め機構については後述する。
半導体チップ10は絶縁基板8の表面8a側に配置されており、半田層11により絶縁基板8に固定されている。半導体チップ10は、たとえばMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)またはダイオードなどの半導体素子である。なお、図1では絶縁基板8上に一つの半導体チップ10のみが固定されているが、複数の上記半導体素子が絶縁基板8上に並んで固定されていてもよい。
シリコンゲル12はケース2の内部空間に充填されており、半導体チップ10を覆っている。封止樹脂13はシリコンゲル12上に配置されている。このように半導体チップ10は、ケース2の内部空間においてシリコンゲル12および封止樹脂13により封止されている。
次に、ベース板3に対する絶縁基板8の位置決め機構について、図1および図2を参照しつつ説明する。図2は、パワーモジュール1(図1)においてベース板3および絶縁基板8を分解した状態を示している。図2を参照して、ベース板3の表面3a上には複数の位置決め用ワイヤボンディング部20(20a〜20d)が設けられている。位置決め用ワイヤボンディング部20は、電力配線4aおよび信号配線5a(図1)などを半導体チップ10や端子に固定する方法と同様の方法によりベース板3上に固定されている。より具体的には、ベース板3の表面3a上に設置されたワイヤに対して熱、超音波あるいは圧力などを加えることにより表面3a上に位置決め用ワイヤボンディング部20が設けられる。
位置決め用ワイヤボンディング部20は、電力配線4aおよび信号配線5aと同様の金属からなっており、たとえばアルミニウムや銅などの金属材料からなっている。位置決め用ワイヤボンディング部20の直径はたとえば0.1mm以上1.0mm以下である。位置決め用ワイヤボンディング部20は、図2に示すように四角形の四隅において各々配置されてもよいが、その数や配置方法は特に限定されない。
絶縁基板8の裏面8b(ベース板3に対向する面)上に形成されたパターン層9には、位置決め用ワイヤボンディング部20a〜20dの各々を収容するための複数の穴部21a〜21d(受け部)が設けられている。より具体的には、位置決め用ワイヤボンディング部20a〜20dの各々は穴部21a〜21dの各々に対して挿入可能となっており、これにより絶縁基板8がベース板3に対して位置決めされる。
穴部21は、図2に示すようにパターン層9の外周形状を成す矩形状における角部(四隅)に設けられていてもよいがこれに限定されず、位置決め用ワイヤボンディング部20の数や配置方法に応じて適宜選択することができる。たとえば穴部21は、上記矩形状の辺に隣接する部分に設けられていてもよい。
上記パワーモジュール1は、以下のようにして製造することができる。図1を参照して、まずベース板3の表面3a上においてパターン層7,9が形成された絶縁基板8および半導体チップ10が半田付けにより固定される。次に、半導体チップ10およびパターン層7が電力配線4aや信号配線5aを介して電力端子4や信号端子5などに接続される。次に、シリコンゲル12および封止樹脂13が順に封入されて半導体チップ10が封止される。このようにして上記パワーモジュール1が得られる。
次に、本実施の形態に係るパワーモジュール1の特徴を説明した上でその作用効果について説明する。パワーモジュール1は、位置決め用ワイヤボンディング部20が表面3aに設けられたベース板3と、ベース板3に対向する裏面8b側において位置決め用ワイヤボンディング部20を収容する穴部21(受け部)が設けられ、当該穴部21が位置決め用ワイヤボンディング部20を収容してベース板3に対して位置決めされた状態でベース板3に固定される絶縁基板8と、絶縁基板8において裏面8bと反対の表面8a側に配置される半導体チップ10とを備えている。
上記パワーモジュール1では、位置決め用ワイヤボンディング部20が穴部21に収容されて絶縁基板8がベース板3に対して位置決めされた状態で当該絶縁基板8をベース板3に固定することができる。これにより、ベース板自体を加工して凹凸部などを形成し、当該凹凸部により絶縁基板8を位置決めする場合に比べて工程がより簡略化され、製造効率が向上する。また位置決め用ワイヤボンディング部20は、電力配線4aや信号配線5aの接続の際に用いられる設備と同じものを用いて作製することが可能であり、品種毎にアンカー位置やワイヤの種類を容易に変更することもできる。またベース板において絶縁基板の位置決め用のレジストの形成も省略することができるため、ベース板の標準化も可能になる。
上記パワーモジュール1において、ベース板3の表面3aには複数の位置決め用ワイヤボンディング部20a〜20dが設けられている。また絶縁基板8の裏面8b側には、複数の位置決め用ワイヤボンディング部20a〜20dの各々を収容するための複数の穴部21a〜21d(受け部)が設けられている。これにより、絶縁基板8をベース板3に対してより高精度に位置決めすることができる。
上記パワーモジュール1では、絶縁基板8の裏面8b上に形成されたパターン層9に穴部21(受け部)が設けられている。そして、絶縁基板8は穴部21に位置決め用ワイヤボンディング部20が挿入されることによりベース板3に対して位置決めされる。これにより、絶縁基板8をベース板3に対してさらに高精度に位置決めすることができる。
(第1の変形例)
次に、本実施の形態に係るパワーモジュール1の第1の変形例について説明する。図3は、本変形例における絶縁基板8およびパターン層9の構造を示している。図3を参照して、本変形例では、絶縁基板8の裏面8b上に形成されたパターン層9の端部に切欠部22(22a〜22d)(受け部)が複数形成されている。より具体的には、パターン層9は外周形状が矩形状からなり、当該矩形状における四つの角部に切欠部22a〜22dが各々形成されている。そして、切欠部22a〜22dの各々に位置決め用ワイヤボンディング部20a〜20d(図2)が位置することにより、絶縁基板8がベース板3に対して位置決めされるようになっている。これにより、パターン層9の加工がより容易になるため生産性をより向上させることができる。
(第2の変形例)
次に、本実施の形態に係るパワーモジュール1の第2の変形例について説明する。図4は、本変形例における絶縁基板8およびパターン層9の構造を示している。図4を参照して、本変形例では、パターン層9の外周形状を成す矩形状における対向する二つの角部を切り欠いた部分である切欠部22a,22dが形成されている。そして、切欠部22a,22dの各々に位置決め用ワイヤボンディング部20a,20d(図1)が位置することにより、絶縁基板8がベース板3に対して位置決めされるようになっている。これにより、パターン層9の形状がより簡略化されて生産性がさらに向上する。また上記矩形状において対向する二つの角部(最も離れた二つの角部)に切欠部22a,22dを形成することにより、ベース板3に対する絶縁基板8の位置決め精度をより向上させることができる。
(第3の変形例)
次に、本実施の形態に係るパワーモジュール1の第3の変形例について説明する。図5は、本変形例における絶縁基板8およびパターン層9の構造を示している。図5を参照して、本変形例では、パターン層9の外周形状を成す矩形状における対向する二つの角部を切り欠いた切欠部22a,22dに加えて、上記二つの角部と異なる一つの角部を切り欠いた部分である切欠部22cがさらに形成されている。そして、切欠部22a,22c,22dの各々に位置決め用ワイヤボンディング部20a,20c,20d(図1)が位置することにより、絶縁基板8がベース板3に対して位置決めされるようになっている。これにより、絶縁基板8がベース板3に対して傾くことが抑制され、ベース板3に対する絶縁基板8の位置決め精度がさらに向上する。
(第4の変形例)
次に、本実施の形態に係るパワーモジュール1の第4の変形例について説明する。図6は、本変形例における絶縁基板8およびパターン層9の構造を示している。図6を参照して、本変形例では、パターン層9の外周形状を成す矩形状の辺を切り欠いた部分である切欠部23a〜23dが形成されている。そして、切欠部23a〜23dの各々に位置決め用ワイヤボンディング部20が位置することにより、絶縁基板8がベース板3に対して位置決めされるようになっている。これにより、切欠部23a〜23dの各々に収容される位置決め用ワイヤボンディング部20において二箇所以上のボンディング部分を設けることができる。その結果、ボンディングによりワイヤ形状が変化しない箇所を設けることが可能になり、ベース板3と絶縁基板8との間においてワイヤ径に相当する距離をより確実に確保することが可能になる。
(実施の形態2)
次に、本発明の他の実施の形態である実施の形態2について説明する。本実施の形態に係る半導体モジュールは、上記実施の形態1に係る半導体モジュールと基本的に同様の構成を備え、かつ同様の効果を奏する。しかし、本実施の形態に係る半導体モジュールは半導体チップを駆動させるための制御回路をさらに備える点において上記実施の形態1に係る半導体モジュールとは異なっている。
図7を参照して、本実施の形態に係る半導体モジュールであるパワーモジュール1Aは、上記実施の形態1に係るパワーモジュール1(図1)の構成に加えて、中継端子14、プリント基板15、複数のSMT(Surface Mount Technology)部品16およびインターフェース17から構成される制御回路をさらに備えている。この制御回路により、半導体チップ10を駆動させることが可能になっている。
中継端子14は半導体チップ10に接近するように延在しており、制御配線14aにより半導体チップ10に接続されている。プリント基板15はシリコンゲル12上に配置されており、その表面上に複数のSMT部品16が並んで配置されている。インターフェース17は一方の端部がプリント基板15に接続され、他方の端部がケース2の外部にまで延びている。このように本実施の形態に係るパワーモジュール1Aは、半導体チップ10を駆動させるための制御回路を備えたインテリジェントパワーモジュール(IPM:Intelligent Power Module)になっている。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
本発明の半導体モジュールは、製造効率の低下を抑制し、ベース板に対して絶縁基板を精度良く位置決めすることが要求される半導体モジュールにおいて、特に有利に適用され得る。
1 パワーモジュール、2 ケース、3 ベース板、3a,8a 表面、4 電力端子、4a 電力配線、5 信号端子、5a 信号配線、6,11 半田層、7,9 パターン層、8 絶縁基板、8b 裏面、10 半導体チップ、12 シリコンゲル、13 封止樹脂、14 中継端子、14a 制御配線、15 プリント基板、16 SMT部品、17 インターフェース、20(20a,20b,20c,20d) 位置決め用ワイヤボンディング部、21(21a,21b,21c,21d) 穴部、22(22a,22b,22c,22d),23(23a,23b,23c,23d) 切欠部。

Claims (9)

  1. 位置決め用ワイヤボンディング部が表面に設けられたベース板と、
    前記ベース板に対向する裏面側において前記位置決め用ワイヤボンディング部を収容する受け部が設けられ、前記受け部が前記位置決め用ワイヤボンディング部を収容することにより前記ベース板に対して位置決めされた状態で前記ベース板に固定される絶縁基板と、
    前記絶縁基板において前記裏面と反対の表面側に配置される半導体チップとを備える、半導体モジュール。
  2. 前記ベース板の前記表面には、複数の前記位置決め用ワイヤボンディング部が設けられ、
    前記絶縁基板の前記裏面側には、複数の前記位置決め用ワイヤボンディング部の各々を収容する複数の前記受け部が設けられている、請求項1に記載の半導体モジュール。
  3. 前記受け部は、前記絶縁基板の前記裏面上に形成されたパターン層に設けられた穴部であり、
    前記絶縁基板は、前記穴部に前記位置決め用ワイヤボンディング部が挿入されることにより前記ベース板に対して位置決めされる、請求項1または2に記載の半導体モジュール。
  4. 前記穴部は、前記パターン層の外周形状を成す矩形状における角部または前記矩形状の辺に隣接する部分に設けられている、請求項3に記載の半導体モジュール。
  5. 前記受け部は、前記絶縁基板の前記裏面上に形成されたパターン層の端部に設けられた切欠部であり、
    前記絶縁基板は、前記切欠部に前記位置決め用ワイヤボンディング部が位置することにより前記ベース板に対して位置決めされる、請求項1または2に記載の半導体モジュール。
  6. 前記切欠部は、前記パターン層の外周形状を成す矩形状における対向する二つの角部を切り欠いた部分を含む、請求項5に記載の半導体モジュール。
  7. 前記切欠部は、前記二つの角部と異なる一つの角部を切り欠いた部分をさらに含む、請求項6に記載の半導体モジュール。
  8. 前記切欠部は、前記パターン層の外周形状を成す矩形状の辺を切り欠いた部分をさらに含む、請求項5〜7のいずれか1項に記載の半導体モジュール。
  9. 前記半導体チップを駆動させる制御回路をさらに備える、請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体モジュール。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5852609B2 (ja) * 2013-06-10 2016-02-03 長野計器株式会社 センサ
JP6299120B2 (ja) * 2013-09-05 2018-03-28 富士電機株式会社 半導体モジュール
CN112133654A (zh) * 2016-07-18 2020-12-25 圆益Ips股份有限公司 对齐模块
CN111406316B (zh) * 2017-10-26 2023-08-01 新电元工业株式会社 电子部件
DE102019206260A1 (de) 2019-05-02 2020-11-05 Abb Schweiz Ag Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02266557A (ja) * 1989-04-06 1990-10-31 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPH10321651A (ja) * 1997-05-19 1998-12-04 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2000068446A (ja) * 1998-08-25 2000-03-03 Hitachi Ltd パワー半導体モジュール
JP2000349231A (ja) * 1999-06-02 2000-12-15 Hitachi Ltd パワー半導体モジュール
US20100284153A1 (en) * 2009-05-11 2010-11-11 Infineon Technologies Ag Twist-Secured Assembly of a Power Semiconductor Module Mountable on a Heat Sink
WO2010143273A1 (ja) * 2009-06-10 2010-12-16 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
JP2012227362A (ja) * 2011-04-20 2012-11-15 Mitsubishi Materials Corp ヒートシンク付パワーモジュール用基板ユニットおよびその製造方法
JP2013098450A (ja) * 2011-11-04 2013-05-20 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01281760A (ja) 1988-05-07 1989-11-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP3347279B2 (ja) * 1997-12-19 2002-11-20 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2000031358A (ja) 1998-07-08 2000-01-28 Sansha Electric Mfg Co Ltd 電力用半導体モジュール
US6774465B2 (en) * 2001-10-05 2004-08-10 Fairchild Korea Semiconductor, Ltd. Semiconductor power package module
JP2013161961A (ja) * 2012-02-06 2013-08-19 Calsonic Kansei Corp 半導体モジュールの製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02266557A (ja) * 1989-04-06 1990-10-31 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPH10321651A (ja) * 1997-05-19 1998-12-04 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2000068446A (ja) * 1998-08-25 2000-03-03 Hitachi Ltd パワー半導体モジュール
JP2000349231A (ja) * 1999-06-02 2000-12-15 Hitachi Ltd パワー半導体モジュール
US20100284153A1 (en) * 2009-05-11 2010-11-11 Infineon Technologies Ag Twist-Secured Assembly of a Power Semiconductor Module Mountable on a Heat Sink
WO2010143273A1 (ja) * 2009-06-10 2010-12-16 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
JP2012227362A (ja) * 2011-04-20 2012-11-15 Mitsubishi Materials Corp ヒートシンク付パワーモジュール用基板ユニットおよびその製造方法
JP2013098450A (ja) * 2011-11-04 2013-05-20 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法

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