JP2014516751A - 脱毛および発毛抑制器具 - Google Patents

Abstract

脱毛および発毛抑制器具は、制御回路と、除去および抑制ヘッドと、ヘッドに連結され、ヘッドの壁からその端に向かって延びる延伸組立体であって、ヘッドの壁から離間されたその端に開口部を画定するような延伸組立体と、ヘッドに固定され、制御回路に対応する照射要素と、ヘッドに設置され、照射要素とヘッドの間にある反射板と、ヘッドに固定され、開口部が、毛がそこから外側に延びる皮膚の部分と並置された時に毛を切り取るように構成された切り取り要素と、で構成され、反射板が出力された電磁放射を開口部に向かって実質的に反射するように構成される。任意選択的に、照射要素は第一と第二の位置間で規則的に移動され、皮膚に損傷を与えずに毛を加熱し、切り取る。
【選択図】 図１Ｆ

Description

本発明は一般に、光熱融解作用を増強させるための追加の照射要素の提供も可能な、被加熱要素を利用する脱毛および発毛抑制の分野に関する。

本願は、２０１１年６月２２日に出願され、“ＭＯＤＩＦＩＥＤ ＨＯＭＥ ＵＳＥ ＨＡＩＲ ＲＥＭＯＶＡＬ ＤＥＶＩＣＥ”と題する米国仮特許出願第６１／４９９，７１４号明細書および２０１１年６月２２日に出願され、“ＨＡＩＲ ＴＲＥＡＴＭＥＮＴ ＡＮＤ ＲＥＭＯＶＡＬ ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ”と題する米国仮特許出願第６１／４９９，７１３号明細書の優先権を主張するものであり、各々の全内容を参照によって本願に援用する。

体の不要な毛の除去は、機械的手段、たとえばレーザ、毛抜き、またはワックス等によって行うことができるが、これらはいずれも使用時に不快さを伴い、皮膚を刺激、および／または皮膚の損傷の原因となる。また別の脱毛形態は、毛を切り取るのに十分な温度まで毛を加熱することによるものであるが、熱を使った脱毛機器には、過熱による皮膚の損傷の危険性の問題がある。２００４年１１月３０日に登録されたＳｈａｌｅｖらの米国特許第６，８２５，４４５号明細書は、全文を参照によって本願に援用するが、発熱器と、毛を切り取るのに十分な温度まで加熱される１つまたは複数の加熱要素と、を含む電気シェーバに関し、発熱器は、熱が一カ所に、皮膚の損傷を起こすほどの時間にわたって連続的にかけられるのを防止するように構成されている。

２００７年１月３０日に登録されたＳｈａｌｅｖらの米国特許第７，１７０，０３４号明細書は、全文を参照によって本願に援用するが、毛を切り取るのに十分な温度まで加熱される加熱要素を含む電気シェーバに関し、この加熱要素の加熱がパルス式であることにより、熱が一カ所に、皮膚の損傷を起こすほどの時間にわたって連続的にかけられるのが防止される。

２００７年４月１０日に登録されたＳｈａｌｅｖらの米国特許第７，２０２，４４６号明細書は、全文を参照によって本願に援用するが、毛を切り取ることのできる温度まで加熱される長い要素と、長い要素が取り付けられる振動構造と、を含む電気シェーバに関し、この振動構造は、皮膚の損傷を防止するように構成されている。

２００９年８月２０日に公開されたＳｈａｌｅｖらの米国特許出願公開第２００９／０２０５２０８号明細書は、全文を参照によって本願に援用するが、毛を切り取るように構成されたシェーバの被加熱ワイヤの運動を検出するようになされた検出器と、皮膚から生えている毛を加熱し、切り取るのに適した被加熱ワイヤを有する毛切り取り用除去および抑制ヘッドと、毛切り取り用除去および抑制ヘッドを、検出された運動の有無に対応して、毛切り取り位置と引込み位置との間で移動させるように構成されたコントローラと、を含む毛切り取り機器に関する。

毛包の加熱が毛の生育速度に影響を与えることが知られている。経験からは、ニューヨーク州ＯｒａｎｇｅｂｕｒｇのＲａｄｉａｎｃｙ，Ｉｎｃ．から市販されているｎｏ！ｎｏ！（登録商標）といった製品等、熱を利用した脱毛器具を繰り返し使用することにより、毛の生育速度が実質的に低下することがわかっている。毛の生育速度は上記の製品によって低下されるが、毛の生育速度の低下は副次的効果として実現されており、最適化されてはいない。

２００１年にＬａｓｅｒｓ ｉｎ Ｓｕｒｇｅｒｙ ａｎｄ Ｍｅｄｉｃｉｎｅで発表されたＧＢ．Ａｌｔｓｈｕｌｅｒらの記事には、選択的光熱融解の理論と選択的光熱融解の拡大理論が説明されている。選択的光熱融解理論によれば、皮膚に適当な波長とパルス時間の電磁放射（ＥＭＲ）を照射することによって、標的構造に永久的な熱損傷を与え、その一方で、周囲の組織は無傷のままとすることができる。毛包への応用では、供給されるＥＭＲのパルス幅は、毛包の熱緩和時間よりはるかに小さいものとされるため、毛包内で生成される熱は、それらが十分に損傷を受けるまで流出せず、その一方で、周辺表皮の損傷は最小限とされる。

選択的光熱融解の拡大理論は、ＥＭＲ波長を、色素のある部位の吸収係数と標的周辺組織のそれの間の対比が最大となるように選択するべきであることを示している。これに加えて、ＥＭＲの出力は、色素のある部位における吸収損失を防止し、その一方で、色素のある部位の温度が標的損傷温度より確実に高くなるのに十分であるように限定するべきである。最後に、パルス幅は、熱損傷時間（ＴＤＴ）より短いか、またはそれと同等とするべきであり、ＴＤＴとは、周辺組織を傷つけずに、標的に可逆的損傷を与えるのに必要な時間と定義される。留意すべき点として、ＴＤＴは、標的全体のＴＲＴより有意に長い可能性がある。

選択的光熱融解の教示の少なくとも一部を調整して、毛の切り取りおよび剃毛機器による成果を改善することが望ましいであろう。

したがって、本発明の主な目的は、先行技術の欠点の少なくともいくつかを克服することである。これは、特定の実施形態において、切り取り要素を利用する剃毛器と、皮膚の一部またはその付近の皮膚内層に光を照射し、近赤外放射が毛包に供給され、その際、過剰な熱によって皮膚外層に損傷を与えないように構成された照射要素と、を含む一体的機器を提供することによって達成される。１つの実施形態において、切り取り要素は被加熱要素であり、他の実施形態において、切り取り要素と照射要素は単一の要素として提供される。

１つの独立した実施形態において、脱毛および発毛抑制器具が提供され、この器具は、制御回路と、筐体に固定された少なくとも１つの除去および抑制ヘッドと、少なくとも１つの除去および抑制ヘッドに連結され、少なくとも１つの除去および抑制ヘッドの壁から反対に延びる少なくとも１つの延伸組立体であって、その端に、少なくとも１つの除去および抑制ヘッドの壁から離された開口部を画定する少なくとも１つの延伸組立体と、少なくとも１つの除去および抑制ヘッドに固定され、制御回路に対応する少なくとも１つの照射要素と、少なくとも１つの除去および抑制ヘッドに固定された少なくとも１つの反射板であって、少なくとも１つの照射要素が自身と開口部の間に配置されるような少なくとも１つの反射板と、少なくとも１つの除去および抑制ヘッドに固定され、開口部が、毛が外側に延びている皮膚部分と並置された時に、毛を切り取るように構成された少なくとも１つの切り取り要素と、を含み、少なくとも１つの反射板は、少なくとも１つの照射要素からの電磁放射出力を開口部に向けて実質的に反射するように構成される。

１つの実施形態において、脱毛および発毛抑制器具は、制御回路と連通するモーションセンサーをさらに含み、制御回路は、モーションセンサーによって検出された相対運動に対応して、少なくとも１つの照射要素の出力を制御するように構成される。他の実施形態において、脱毛および発毛抑制器具は、制御回路と連通するモーションセンサーをさらに含み、制御回路は、モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第一の所定の数値より高いことに対応して、少なくとも１つの照射要素を作動状態にし、モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第二の所定の数値より低いことに対応して、少なくとも１つの照射要素を停止状態にするように構成される。

１つの実施形態において、脱毛および発毛抑制器具は、制御回路と連通するモーションセンサーをさらに含み、制御回路は、モーションセンサーが検出した相対運動に対応して、少なくとも１つの照射要素による放射出力量を制御するように構成される。他の実施形態において、脱毛および発毛抑制器具はモーションセンサーをさらに含み、少なくとも１つの切り取り要素は、ワイヤとリボンのうちの一方を含み、制御回路は、モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第三の所定の数値より高いことに対応して、少なくとも１つの切り取り要素に、毛を切り取るのに十分な温度まで加熱するための電源を供給し、モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第四の所定の数値より低いことに対応して、少なくとも１つの切り取り要素への電源供給を停止するように構成される。１つの別の実施形態において、毛を切り取るのに十分な温度は４００〜１９００℃である。

１つの実施形態において、筐体は、照射要素から筐体の周囲の外気中に熱を排出する排熱口を有する。他の実施形態において、少なくとも１つの照射要素は、長い直方体の形状である。

１つの実施形態において、少なくとも１つの照射要素は長い円筒形である。他の実施形態において、少なくとも１つの切り取り要素は、刃と被加熱要素のうちの一方である。

１つの実施形態において、少なくとも１つの反射板は、１０００ナノメートルで受け取った放射の少なくとも９８％を実質的に反射するように構成される。他の実施形態において、少なくとも１つの照射要素は、全体の少なくとも９５％が５００〜５０００ナノメートルのスペクトラム内である電磁エネルギーを出力するように構成される。１つの別の実施形態において、少なくとも１つの照射要素は、全体の１０％未満が５００〜１０００ナノメートルのスペクトラム内である電磁エネルギーを出力するように構成される。

１つの実施形態において、少なくとも１つの照射要素は、０．５〜２０ワットの間のパワーを持つ電磁エネルギーを出力するように構成される。他の実施形態において、少なくとも１つの照射要素は、１〜１０ワットの間のパワーを持つ電磁エネルギーを出力するように構成される。

１つの実施形態において、制御回路は、少なくとも１つの照射要素を加熱するための電源を供給するように構成され、少なくとも１つの照射要素による放射出力は、少なくとも１つの照射要素の加熱に対応する。他の実施形態において、請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具は、筐体に固定された少なくとも１つの移動機構をさらに含み、少なくとも１つの除去および抑制ヘッドの開口部が皮膚表面と並置されるように構成され、少なくとも１つの移動機構は、少なくも１つの除去および抑制ヘッドと少なくとも１つの切り取り要素を第一の位置と第二の位置の間で移動させるように構成され、第一の位置は第二の位置より皮膚表面に近く、制御回路は、少なくとも１つの移動機構を制御して、少なくとも１つの切り取り要素を第一と第二の位置間で規則的に移動させるように構成される。

１つの別の実施形態において、少なくとも１つの移動機構はさらに、少なくとも１つの照射要素を第三の位置と第四の位置の間で移動させるように構成され、第三の位置は第四の位置より皮膚表面に近く、制御回路は、少なくとも１つの移動機構を制御して、少なくとも１つの照射要素を第三と第四の位置間で規則的に移動させるように構成される。１つのまた別の実施形態において、制御回路はさらに、少なくとも１つの照射要素に電源を供給することによって、少なくとも１つの照射要素を、少なくとも１つの照射要素が放射を出力する温度まで加熱し、また、照射要素を規則的に第三の位置にある時間にわたって位置付けることによって、第三の位置への複数回の移動で開口部と並置された皮膚部分が照射されるように構成される。

１つの別の実施形態において、制御回路はさらに、少なくとも１つの切り取り要素に電源を供給することによって、少なくとも１つの切り取り要素をある温度まで加熱し、また、少なくとも１つの切り取り要素を規則的に第一の位置にある時間にわたって位置付けることによって、第一の位置への複数回の移動で開口部から突出する毛が切り取られるように構成される。他の別の実施形態において、少なくとも１つの切り取り要素は長い直方体の形状である。

１つの別の実施形態において、脱毛および発毛抑制器具は、制御回路と連通するモーションセンサーをさらに含み、制御回路は、少なくとも１つの切り取り要素の規則的な移動の速度を、モーションセンサーが検出した相対運動に対応して制御するように構成される。他の別の実施形態において、脱毛および発毛抑制器具は、制御回路と連通するモーションセンサーをさらに含み、制御回路は、モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第一の所定の数値より高いことに対応して、少なくとも１つの切り取り要素の規則的な移動を起こさせ、モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第二の所定の数値より低いことに対応して、少なくとも１つの切り取り要素の規則的な移動を停止させるように構成される。

１つの別の実施形態において、脱毛および発毛抑制器具は、制御回路と連通するモーションセンサーをさらに含み、制御回路は、少なくとも１つの切り取り要素のデューティーサイクルを、モーションセンサーが検出した相対運動に対応して制御するように構成される。他の別の実施形態において、制御回路はさらに、少なくとも１つの切り取り要素に電源を供給することによって、少なくとも１つの切り取り要素をある温度まで加熱するように構成され、少なくとも１つの切り取り要素から出力される温度は４００〜１９００℃である。１つのさらに別の実施形態において、少なくとも１つの切り取り要素から出力される温度は１０００〜１９００℃である。

１つの別の実施形態において、第一の位置にある少なくとも１つの切り取り要素と少なくとも１つの延伸組立体の開口部と並置される皮膚表面との間の距離は３ｍｍ未満である。他の別の実施形態において、第一の位置にある少なくとも１つの切り取り要素と少なくとも１つの延伸組立体の開口部と並置される皮膚表面との間の距離は０．１〜１ｍｍの間である。

１つの別の実施形態において、少なくとも１つの切り取り要素は、第一の位置において、少なくとも１つの延伸組立体の開口部と並置される皮膚表面と接触する。他の別の実施形態において、第一の位置にある少なくとも１つの切り取り要素のデューティーサイクルは５０％より大きい。

１つの別の実施形態において、第一の位置にある少なくとも１つの切り取り要素のデューティーサイクルは、約６０％である。他の別の実施形態において、開口部に関する第一の位置と第二の位置の間の距離は、２〜２０ｍｍの間である。

１つの別の実施形態において、開口部に関する処置位置と冷却位置との間の距離は約５ｍｍである。他の別の実施形態において、第一の位置への規則的な移動の周期は２〜２０００Ｈｚの間である。１つのさらに別の実施形態において、第一の位置への規則的な移動の周期は約５Ｈｚである。

１つの別の実施形態において、少なくとも１つの照射要素と少なくとも１つの切り取り要素は、少なくとも１つの単一の照射および切り取り要素として提供される。１つのさらに別の実施形態において、少なくとも１つの単一の照射および切り取り要素は、複数の単一の照射および切り取り要素を含み、少なくとも１つの反射板は複数の反射板を含み、単一の照射および切り取り要素の各々は、反射板の特定の１つと開口部との間に配置され、少なくとも１つの移動機構は複数の移動機構を含み、移動機構の各々は、単一の照射および切り取り要素の特定の１つを第一の位置と第二の位置の間で移動させるように構成される。

他のさらに別の実施形態において、少なくとも１つの除去および抑制ヘッドは複数の除去および抑制ヘッドを含み、少なくとも１つの延伸組立体は複数の延伸組立体を含み、各々が除去および抑制ヘッドの特定の１つに連結され、単一の照射および切り取り要素の各々は除去および抑制ヘッドの特定の１つに固定され、反射板の各々は、除去および抑制ヘッドの特定の１つに固定される。

別の独立した実施形態において、脱毛および発毛抑制のための方法が提供され、この方法は、皮膚表面の部分に電磁放射を照射するステップと、電磁放射を皮膚表面の部分に向かって実質的に反射するように構成された反射板を提供するステップと、皮膚表面の部分から突出する毛を同時に切り取ることによって、皮膚表面の部分の毛の除去と毛の生育の長期的な低減を提供するステップとを含み、照射するステップは、皮膚表面の部分に電磁放射を直接照射するステップと、提供されている反射板に、皮膚表面の部分に向かって反射されるべき電磁放射を照射するステップと、を含む。

１つの実施形態において、方法は、除去および抑制ヘッドを提供するステップと、除去および抑制ヘッドの相対運動を検出するステップと、をさらに含み、照射は検出された相対運動に対応する。他の実施形態において、方法は、除去および抑制ヘッドを提供するステップと、提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、をさらに含み、皮膚表面の部分を照射するステップは、検出された相対運動の速度が第一の所定の数値より高いことに対応して開始し、検出された相対運動の速度が第二の所定の数値より低いことに対応して停止する。

１つの実施形態において、方法は、除去および抑制ヘッドを提供するステップと、提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、をさらに含み、皮膚表面の部分を照射する放射の量は、検出された相対運動の速度に対応する。他の実施形態において、方法は、除去および抑制ヘッドを提供するステップと、提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、をさらに含み、毛を切り取るステップは、毛に、毛を切り取るのに十分な温度の熱を供給するステップを含み、熱を供給するステップは、検出された相対運動の速度が第三の所定の数値より高いことに対応して開始し、検出された相対運動の速度が第四の所定の数値より低いことに対応して停止する。１つの別の実施形態において、毛を切り取るのに十分な温度は４００〜１９００℃である。

１つの実施形態において、方法は、熱を皮膚表面の部分から遠ざけるように排出するステップをさらに含む。他の実施形態において、電磁放射は、全体のエネルギーの少なくとも９５％が５００〜５０００ナノメートルの波長のスペクトラム内である。

１つの実施形態において、電磁放射は、全体のエネルギーの１０％未満が５００〜１０００ナノメートルの波長のスペクトラム内である。他の実施形態において、方法は、照射要素を加熱するステップをさらに含み、照射するステップは加熱するステップに対応する。

１つの他の実施形態において、方法は、照射要素を皮膚表面の部分に関する第一の位置と皮膚表面の部分に関する第二の位置との間で規則的に移動させるステップをさらに含み、皮膚表面の部分と第一の位置にある照射要素との間の距離は、皮膚表面の部分と第二の位置にある照射要素との間の距離より短い。他の別の実施形態において、切り取るステップは、皮膚表面の部分に熱を供給するステップを含み、供給される熱は、皮膚表面の部分から突出する毛を切り取るのに十分な温度である。

１つのさらに別の実施形態において、方法は、除去および抑制ヘッドを提供するステップと、提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、をさらに含み、照射要素の規則的な移動の速度は検出された相対運動に対応する。他のさらに別の実施形態において、方法は、除去および抑制ヘッドを提供するステップと、提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、をさらに含み、照射要素の規則的な移動は、検出された相対運動の速度が第一の所定の数値より高いことに対応して開始し、検出された相対運動の速度が第二の所定の数値より低いことに対応して停止する。

１つのさらに別の実施形態において、方法は、除去および抑制ヘッドを提供するステップと、提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、をさらに含み、照射要素の第一の位置への移動はあるデューティーサイクルを有し、デューティーサイクルは検出された相対運動の速度に対応する。他のさらに別の実施形態において、第一の位置への照射要素の移動はあるデューティーサイクルを有し、デューティーサイクルは５０％より大きい。

１つのさらに別の実施形態において、デューティーサイクルは約６０％である。他のさらに別の実施形態において、第一の位置への規則的な移動の周期は２〜２０００Ｈｚの間である。１つのさらに別の実施形態において、第一の位置への規則的な移動の周期は約５Ｈｚである。

その他の特徴と利点は、以下のような図面と説明から明らかとなるであろう。

本発明をよりよく理解し、これをどのように実行できるかを示すために、ここで、純粋に例としての添付の図面を参照するが、すべての図面を通じて、同様の番号は対応する要素または部分を示している。

ここで、特に図面に関して、図中の詳細は例示のためであり、本発明の好ましい実施形態を実例的に説明するためにすぎず、本発明の原理と概念的態様を最も有益で容易に理解できる説明と考えられるものを提供しようとして示されている点を強調する。
この点に関して、本発明の構造的な詳細は、本発明の基本的理解に必要な程度以上には詳しく示すことは試みられず、説明を、図面を参照しながら読むことにより、当業者にとっては、本発明のいくつかの形態を実際に実施する方法がわかるであろう。

図１Ａは、特定の実施形態による、照射要素と切り取り要素を含む脱毛および発毛抑制装置の各種の構成要素の図を示す。 図１Ｂは、特定の実施形態による、照射要素と切り取り要素を含む脱毛および発毛抑制装置の各種の構成要素の図を示す。 図１Ｃは、特定の実施形態による、照射要素と切り取り要素を含む脱毛および発毛抑制装置の各種の構成要素の図を示す。 図１Ｄは、特定の実施形態による、照射要素と切り取り要素を含む脱毛および発毛抑制装置の各種の構成要素の図を示す。 図１Ｅは、特定の実施形態による、照射要素と切り取り要素を含む脱毛および発毛抑制装置の各種の構成要素の図を示す。 図１Ｆは、特定の実施形態による、照射要素と切り取り要素を含む脱毛および発毛抑制装置の各種の構成要素の図を示す。 図１Ｇは、特定の実施形態による、照射要素と切り取り要素を含む脱毛および発毛抑制装置の各種の構成要素の図を示す。 図２Ａは、特定の実施形態よる、規則的移動機構をさらに含む図１Ａ〜１Ｇの脱毛および発毛抑制器具の高レベル側方断面図を示す。 図２Ｂは、図２Ａの脱毛および発毛抑制装置が表皮と毛包の温度に与える影響を示すグラフを示す。 図３Ａは、特定の実施形態による、移動する反射板を含む脱毛および発毛抑制器具の各種の高レベル側方断面図を示す。 図３Ｂは、特定の実施形態による、移動する反射板を含む脱毛および発毛抑制器具の各種の高レベル側方断面図を示す。 図３Ｃは、特定の実施形態による、移動する反射板を含む脱毛および発毛抑制器具の各種の高レベル側方断面図を示す。 図３Ｄは、特定の実施形態による、移動する反射板を含む脱毛および発毛抑制器具の各種の高レベル側方断面図を示す。 図４Ａは、特定の実施形態による、固定された反射板を備える脱毛および発毛抑制器具の各種の高レベル側方断面図を示す。 図４Ｂは、特定の実施形態による、固定された反射板を備える脱毛および発毛抑制器具の各種の高レベル側方断面図を示す。 図５Ａは、特定の実施形態による、照射要素と切り取り要素を含み、各要素のための別の移動機構をさらに含む脱毛および発毛抑制器具の各種の高レベル側方断面図を示す。 図５Ｂは、特定の実施形態による、照射要素と切り取り要素を含み、各要素のための別の移動機構をさらに含む脱毛および発毛抑制器具の各種の高レベル側方断面図を示す。 図６は、特定の実施形態による、固定された照射要素と、切り取り要素と、切り取り要素を第一と第二の位置間で移動させるように構成された移動機構と、を含む脱毛および発毛抑制器具の高レベル側方断面図を示す。 図７Ａは、複数の照射および切り取り要素と、複数の移動機構と、を含む脱毛および発毛抑制器具の各種の高レベル側方断面図を示す。 図７Ｂは、複数の照射および切り取り要素と、複数の移動機構と、を含む脱毛および発毛抑制器具の各種の高レベル側方断面図を示す。 図８Ａは、複数の照射および切り取り要素と、複数の移動機構と、排熱口と、を含む脱毛および発毛抑制器具の高レベル側方断面図を示す。 図８Ｂは、図８Ａの脱毛および発毛抑制器具の動作を説明するグラフを示す。 図９は、複数の照射および切り取り要素と、複数の移動機構と、１つの除去および抑制ヘッドと、を含む脱毛および発毛抑制器具の高レベル側方断面図を示す。 図１０は、特定の実施形態による、照射要素と、反射板と、切り取り要素と、含む脱毛および発毛抑制器具の第一の動作方法の高レベルフローチャートを示す。 図１１は、図１０の特定の段階を取り入れた、脱毛および発毛抑制器具の第二の動作方法の高レベルフローチャートを示す。 図１２は、特定の実施形態による、皮膚表面の部分を照射するステップと、そこから突出している毛を切り取るステップと、を含む、脱毛および発毛抑制方法の高レベルフローチャートを示す。 図１３は、特定の実施形態による、皮膚表面の部分を規則的に加熱し、冷却させるステップを含む脱毛および発毛抑制方法の高レベルフローチャートを示す。

本発明の少なくとも１つの実施形態を詳しく説明する前に、理解すべき点として、本願において、本発明は以下の説明に記され、または図面に描かれた構成要素の構成および配置の詳細に限定されない。本発明は、他の実施形態にも応用でき、様々な方法で実施または実行できる。また、理解するべき点として、本明細書で採用されている表現と用語は説明を目的としたものであり、限定するものとみなすべきではない。

図１Ａ〜１Ｇは、脱毛および発毛抑制器具１０の各種の構成要素の複数の図を示す。具体的には、図１Ａ〜１Ｃは各々、脱毛および発毛抑制器具１０の除去および抑制ヘッド２０の等角図を示し、図１Ｄ〜１Ｆは各々、脱毛および発毛抑制器具１０の高レベル側方断面図を示し、図１Ｇは照射要素４０と反射板９０の等角図を示し、すべてある特定の実施形態による。図１Ｄはさらに、脱毛および発毛抑制器具１０の特定の電気的構成要素の高レベル概略図を示す。図１Ａ〜１Ｇは、まとめて説明する。脱毛および発毛抑制器具１０は、開口部１７を有する筐体１５と、使用者入力装置１８と、使用者アラーム１９と、壁２２を有する除去および抑制ヘッド２０と、１対のアーム２５で構成され、第一の端２７と第二の端２９と長さ方向の端２８を有する延伸組立体２３と、電源３０と、照射要素４０と、１対の第一のコネクタペア５０と、ドライバ６０と、制御回路７０と、モーションセンサー８０と、反射板９０と、第二のコネクタペア１００と、切り取り要素１１０と、ドライバ１２０と、を含む。

１つの非限定的な実施形態において、使用者入力装置１８は、押しボタン、タッチスクリーン、スイッチのうちの１つを含む。１つの非常限定的実施形態において、使用者アラーム１９は、ＬＥＤ、音声アラーム、スクリーンディスプレイのうちの１つを含む。１つの実施形態において、延伸組立体２３は低い熱伝導率を有する。１つの実施形態において、延伸組立体２３はセラミック材料からなる。１つの実施形態において、延伸組立体２３の長さ方向の端２８は複数の歯を含み、それによって最小限の表面積が提供される。１つの実施形態において、延伸組立体２３の内面２４は、波長が５００〜５０００ｎｍのＥＭＲを実質的に反射するように構成された反射材料で構成される。１つの実施形態において、各面２４は酸化アルミニウムで構成され、１つの別の実施形態において、酸化アルミニウムの純度は９０〜９９．５％の間である。１つの実施形態において、各面２４の反射率は１０００ｎｍで少なくとも９８％である。１つの実施形態において、各面２４の反射面は実質的に平滑である。１つの実施形態において、電源３０は、電源コードを介して主電源に接続されるように構成されている。１つの実施形態において、電源３０は再充電可能電源である。

１つの実施形態において、照射要素４０はワイヤを含む。他の実施形態において、照射要素４０はリボンを含む。１つの実施形態において、照射要素４０はニッケルクロム合金を含む。１つの別の実施形態において、照射要素４０はニクロムを含む。他の実施形態において、照射要素４０は珪化モリブデン合金を含む。他の実施形態において、照射要素４０はファライト鉄クロムアルミニウム合金を含む。１つの別の実施形態において、照射要素４０は、全体のエネルギーの約９５％が５００〜５０００ｎｍのスペクトラム内のＥＭＲを出力するように構成され、１つの特定の実施形態において、ＥＭＲは全体のエネルギーの１０％未満が５００〜１０００ｎｍのスペクトラム内にある。１つの実施形態において、出力されるＥＭＲは、全体のエネルギーの約９５％が約１０００ｎｍの波長である。１つの実施形態において、照射要素４０は、そこに適正な電流が流れることに対応して、４００〜１９００℃の温度まで加熱されるように構成される。１つの特定の実施形態において、照射要素は、そこに適正な電流が流れることに対応して、１０００〜１９００℃の温度まで、１つの別の実施形態においては約１９００℃の温度まで加熱されるように構成される。他の実施形態において、照射要素４０は、１９００℃より高い温度まで加熱されるように構成される。１つの実施形態において、照射要素４０は長い立方体の形状である。他の実施形態において、照射要素４０は長い直方体の形状である。１つの実施形態において、照射要素４０の長さは幅より１〜１００倍長い。１つの特定の実施形態において、照射要素４０の長さは幅より５倍長い。他の実施形態において、照射要素４０の長さは幅の１００倍より長い。他の実施形態において、図１Ｄに示されるように、照射要素４０は円筒形である。

１つの実施形態において、第一のコネクタペア５０の第一のコネクタと第二のコネクタペア１００の第一のコネクタは単一の単体コネクタで構成され、第一のコネクタペア５０の第二のコネクタと第二のコネクタペア１００の第二のコネクタは単一の単体コネクタで構成される。

１つの実施形態において、ドライバ６０とドライバ１２０は単独のドライバとして提供される。１つの実施形態において、ドライバ６０は電流ドライバであり、他の実施形態において、ドライバ６０は電圧ドライバである。１つの実施形態において、ドライバ１２０は電流ドライバであり、他の実施形態において、ドライバ１２０は電圧ドライバである。１つの実施形態において、モーションセンサー８０は、たとえば、これらに限定されないが、光センサー、磁気センサー、機械的センサー、超音波センサーを含む複数の標準的なモーションセンサーのうちのいずれかを含む。１つの特定の実施形態において、モーションセンサー８０は、皮膚表面と接触するように構成されたローラを含む。制御回路７０は、モーションセンサー８０に対応して、皮膚表面１４０に沿った筐体１５の相対運動の速度を計算するように構成される。１つの実施形態において、図１Ｄに示されるように、反射板９０は長い凹型である。他の実施形態において、図１Ｅに示されるように、反射板９０は長いＶ字型である。他の実施形態において、反射板９０は長い開放型台形である。他の実施形態において、反射板９０は長い放物面形状である。

１つの実施形態において、反射板９０は、５００〜５０００ｎｍの波長を有するＥＭＲを実質的に反射するように構成された反射材料からなる。１つの実施形態において、反射板９０は酸化アルミニウムで構成され、１つの別の実施形態において、酸化アルミニウムの純度は９０〜９９．５％の間である。１つの実施形態において、反射板９０の反射率は１０００ｎｍで少なくとも９８％である。１つの実施形態において、反射板９０の反射面は実質的に平滑である。１つの実施形態において、反射板９０の熱伝導率は約３５Ｗ／ｍＫ°であり、したがって優れた熱伝達特性を提供する。

１つの実施形態において、切り取り要素１１０は長い形状のワイヤを含む。他の実施形態において、切り取り要素１１０はリボンを含む。１つの別の実施形態において、切り取り要素１１０はニッケルクロム合金を含む。１つの別の実施形態において、切り取り要素１１０はニクロムを含む。他の実施形態において、照射要素４０は珪化モリブデン合金を含む。他の実施形態において、照射要素４０はフェライト鉄クロムアルミニウム合金を含む。１つの実施形態において、切り取り要素１１０は、そこを適正な電流が流れることに対応して、４００〜１９００℃の温度まで加熱されるように構成される。１つの特定の実施形態において、切り取り要素１１０は、そこを適正な電流が流れることに対応して、１０００〜１９００℃の温度まで加熱されるように構成される。任意選択的に、切り取り要素１１０と連通する熱センサー（図示せず）が提供されて、熱センサーの出力は制御回路７０へのフィードバックとして供給される。このような実施形態において、制御回路７０は、切り取り要素１１０の温度の監視的な制御を持続し、動作中に切り取り要素１１０の温度が所定の最大値を超えるのを防止し、任意選択的にはさらに、切り取り要素１１０の温度が所定の最低値より下がらないことを確実にするように構成される。

延伸組立体２３は、除去および抑制ヘッド２０の壁２２の特定の場所から長さ方向の端２８に向かって外側に延び、また、皮膚表面１４０の部分１３０と対面するように構成される。１つの実施形態において、延伸組立体２３は、内面２４が相互に対面する状態で、相互に離間される１対の平行アーム２５から構成される。平行アーム２５は、長さ方向の端２８間に開口部２６を形成する。１つの実施形態（図示せず）において、延伸組立体２３は、除去および抑制ヘッド２０の壁２２から長さ方向の端２８に向かって外側に延びる、囲いの対向壁を含む。

第一のコネクタ５０の一方は、除去および抑制ヘッド２０の壁２２から外側に向かって延び、第一の端２７において平行アーム２５間の開口部と対向する。第一のコネクタ５０のもう一方は、除去および抑制ヘッド２０の壁２２から外側に向かって延び、第二の端２９において平行アーム２５間の開口部と対向する。第二のコネクタ１００の一方は、除去および抑制ヘッド２０の壁２２から外側に向かって延び、第一の端２７において平行アーム２５間の開口部と対向する。第二のコネクタ１００のもう一方は、除去および抑制ヘッド２０の壁２２から外側に向かって延び、第二の端２９において平行アーム２５間の開口部と対向する。

照射要素４０の各端は、特定の第一のコネクタ５０に接続される。照射要素４０が長い直方体の形状である１つの実施形態において、照射要素４０の、除去および抑制ヘッド２０の壁２２と対向する縁とそれに平行な縁は、平行アーム２５に平行な縁より狭い。照射要素４０が長い直方体の形状である他の実施形態（図示せず）において、照射要素４０の、除去および抑制ヘッド２０の壁２２と対面する縁とそれに平行な縁は、平行アーム２５に平行な縁より広い。１つの実施形態において、照射要素４０と開口部２６との間の距離は０．１〜８０ｍｍの間である。反射板９０は、１つの実施形態において、除去および抑制ヘッド２０の平行アーム２５間に配置され、壁２２に関して固定されている。１つの実施形態において、反射板９０の壁は、照射要素４０を越えて開口部２６に向かって延びる。１つの実施形態において、複数の反射板９０が提供され、平行アーム２５の面２４に配置される。

切り取り要素１１０の各端は、特定の第二のコネクタ１００に接続される。１つの実施形態において、切り取り要素１１０は、照射要素４０と開口部２６との間に位置付けられる。１つの実施形態において、切り取り要素１１０は開口部２６から、除去および抑制ヘッド２０の壁２２の方向に５ｍｍ未満だけ離間され、１つの特定の実施形態において離間は３ｍｍ未満である。１つの非限定的な実施形態において、照射要素４０と切り取り要素１１０は、開口部２６に対して垂直な平面内で相互に平行である。

１つの実施形態において、電源３０、ドライバ６０、制御回路７０、ドライバ１２０は筐体１５内に位置付けられる。除去および抑制ヘッド２０は、筐体１５の、開口部１７によって形成される空洞１６の中に位置付けられ、除去および抑制ヘッド２０の開口部２６は筐体１５の開口部１７と対向する。制御回路７０の第一の入力はモーションセンサー８０の出力に接続され、制御回路７０の第二の入力は電源３０の出力に接続される。ドライバ６０の電源入力は電源３０のそれぞれの出力に接続され、ドライバ６０の制御入力は制御回路７０のそれぞれの出力に接続される。ドライバ６０の出力は、照射要素４０に接続される。１つの実施形態において、ドライバ６０は、第一のコネクタペア５０を介して照射要素４０に接続される。ドライバ１２０の電源入力（図示せず）は、電源３０のそれぞれの出力に接続され、ドライバ１２０の制御入力は制御回路７０のそれぞれの出力に接続される。ドライバ１２０の出力は、切り取り要素１１０に接続される。１つの実施形態において、ドライバ１２０は、第二のコネクタペア１００を介して切り取り要素１１０に接続される。使用者入力装置１８の出力は制御回路７０の第三の入力に接続され、使用者アラーム１９の入力は制御回路７０のそれぞれの出力に接続される。

１つの実施形態において、除去および抑制ヘッド２０の接続は、使用者が除去および抑制ヘッド２０を筐体１５から取り外し、別の除去および抑制ヘッド２０と交換できるように行われる。

動作中、筐体１５の開口部１７の部分は、１つの実施形態において、使用者が筐体１５を把持することによって皮膚１４０の部分１３０と並置される。使用者入力装置１８での使用者の入力に対応して、制御回路７０はドライバ６０を制御して、照射要素４０に電流を流すことによって、照射要素４０にその加熱の結果として、複数の方向に放射される電磁放射（ＥＭＲ）の生成を始めさせる。１つの実施形態において、熱とＥＭＲの一部分が開口部２の方向に放射され、熱とＥＭＲの大部分が反射板９０の方向に放射される。ＥＭＲは反射板９０により、概して開口部２６の方向に反射される。それゆえ、照射要素４０から放射されるＥＭＲの大部分は、開口部２６を介して皮膚表面１４０の部分１３０に到達し、皮膚表面１４０の部分１３０の下にある毛包および／または皮膚内層を照射する。皮膚表面１４０を透過するＥＭＲは好ましくは、毛包および／またはそれに近接する周囲の物質により吸収されることによって毛包を加熱し、その一方で、表皮による吸収が最小限となるように構成された波長である。１つの実施形態において、ＥＭＲは、上述の選択的光熱融解の拡大理論にしたがって、毛包を、それに損傷を与えるように十分に加熱し、その一方で、表皮の加熱は表皮の損傷を防止するために制限するように構成される。１つの実施形態において、照射要素４０と反射板９０は、照射要素４０によって出力されるＥＭＲが屈折して、照射要素４０に対して平行な、皮膚表面１４０の下の０．５〜１０ｍｍの深さの線に沿って合焦するように構成される。１つの実施形態において、照射要素４０と反射板９０は、ＥＭＲが皮膚表面１４０の部分１３０に対して概して垂直な線に沿って合焦し、それによって皮膚への透過を最大にし、皮膚表面１４０からのＥＭＲの反射を縮小するように構成される。

１つの実施形態において、ドライバ６０は、照射要素４０を駆動して、０．５〜２０Ｗの間のパワー、１つの特定の実施形態においては１〜１０Ｗの間のパワーのＥＭＲを出力させるように構成される。１つの実施形態において、ドライバ６０は、照射要素４０を駆動して、開口部２６で測定した時のフルエンスが１〜１０Ｊ／ｃｍ²の間、１つの特定の実施形態においてはフルエンスが約３Ｊ／ｃｍ²のＥＭＲを出力させるように構成される。

有利な点として、前述のように、ＥＲＭのエネルギーの１０％未満が５００〜１０００ｎｍのスペクトラム内である。それゆえ、表皮の加熱は、表皮のメラニンが主に１０００ｎｍより短い波長から高温となるため、限定される。これに加えて、ＥＭＲのエネルギーのうちわずかな部分が紫外線（ＵＶ）スペクトラム内である。それゆえ、皮膚に到達する有害ＵＶ放射は最小限であり、ＵＶフィルタは不要である。さらに、１０００ｎｍより長い波長の放射、すなわち赤外（ＩＲ）放射は、皮膚により散乱、反射されにくい。これに加えて、ＩＲ放射は、毛包が存在する真皮等の皮膚内層において、１０００ｎｍより短い波長の放射よりよく吸収される。

照射要素４０から反射板９０の方向に放射される熱は、照射要素４０により出力される熱の大部分を占め、それによって吸収され、１つの実施形態において、反射板９０を通じた対流によって伝導および／または伝達される。照射要素４０から延伸組立体２３の第一の端２７と第二の端２９の方向に放射される熱は、それらの間の開口部から出る。それゆえ、照射要素４０から放射される熱のわずかな部分だけが皮膚表面１４０の部分１３０に到達する。具体的には、照射要素４０が直方体の形状である実施形態において、照射要素４０から出力される熱の大部分が反射板９０に到達し、小さな部分だけが開口部２６に到達する。出力された熱の小さな部分だけが皮膚表面１４０の部分１３０に到達するための、皮膚のいかなる温度上昇も限定される。１つの実施形態において、図８Ａと９に関して後述するように、１つまたは複数の排熱口が提供され、熱を皮膚表面１４０から遠ざけるように構成される。

剃毛またはその他の毛の切り取りを実行するために、使用者は除去および抑制ヘッド２０を皮膚表面１４０に沿って移動させる。１つの実施形態において、制御回路７０は、モーションセンサー８０からの、筐体１５が皮膚表面１４に関して所定の第一の最小値より高い運動速度で相対的に運動していることを示す出力に対応して、ドライバ１２０を制御し、電流を切り取り要素１１０に流すことによって、切り取り要素１１０に熱を発生させるように構成される。１つの実施形態において、切り取り要素１１０を皮膚表面１４０に隣接する位置まで、任意選択的には皮膚表面１４０から３ｍｍ未満の距離まで移動させるために、機械的な位置決め機構（図示せず）がさらに供給される。１つの実施形態において、電流が切り取り要素１１０に流された時だけ、制御回路７０によって電流が照射要素４０に流される。他の実施形態において、モーションセンサー８０の出力に関係なく、電流が照射要素４０に流される。さらに他の実施形態において、モーションセンサー８０により検出された相対運動の速度が第一の限度を超えたことに対応して、電流が照射要素４０に流され、モーションセンサー８０によって検出された相対運動の速度が第二の限度を超えたことに対応して、電流が切り取り要素１１０に流され、第二の限度は第一の限度より高い。皮膚表面１４０の部分１３０から突出する毛１５０は、切り取り要素１１０と接触し、加熱された切り取り要素１１０によって、毛焼き等により切り取られる。有利な点として、切り取り要素１１０の直径は、それによる熱出力が皮膚表面１４０の部分１３０に到達する前に実質的に消散されるのに十分に小さい。さらに、切り取り要素１１０の小さい直径は、切り取り要素１１０にとって小さい熱質量を提供し、それゆえ、相対運動の速度が所定の動作限度より低くなり、切り取り要素１１０の電源が切られた時に、皮膚表面１４０が意図せず焼けるのが防止されるため、有利である。１つの実施形態において、切り取り要素１１０の直径は１０〜３００ｍｍの間である。

１つの実施形態において、制御回路７０は、モーションセンサー８０が、筐体１５の相対運動の速度が所定の限度より低いことを検出した場合、ドライバ１２０を制御して、切り取り要素１１０を流れる電流を停止させるように構成される。任意選択的に、ドライバ６０により、照射要素４０を流れる電流も同様に停止される。１つの好ましい実施形態において、図２Ａ〜２Ｂに関して後述するように、除去および抑制ヘッド２０は皮膚から遠ざかるように移動される。他の実施形態において、切り取り要素１１０が皮膚から遠ざかるように移動され、除去および抑制ヘッド２０は移動されない。１つの実施形態において、使用者アラーム１９は、筐体１５の相対運動の速度を高めるべきであるという表示を出力する。あるいは、前述のように、ドライバ６０とドライバ１２０の各々について、異なる限度が提供される。それゆえ、相対運動の速度が上記の第二の限度より低くなると、切り取り要素１１０への電流が停止し、任意選択により、切り取り要素１１０は皮膚表面１４０から遠ざかるように移動されてもよく、また、相対運動の速度が上記の第一の限度より低くなると、照射要素１４０への電流が停止され、任意選択により、照射要素は皮膚表面１４０から遠ざかるように移動されてもよい。あるいは、照射要素４０を流れる電流は、検出された相対運動の速度に応じ、検出された相対運動の速度の数値に対応して、ある範囲の出力放射が照射要素４０により供給される。１つの実施形態において、照射要素４０と切り取り要素１１０の各々を流れる電流の制御は、開口部２６と並置された時の皮膚表面１４０の部分１３０の温度が４０〜４６℃となるように制御される。

他の実施形態において、モーションセンサー８０が筐体１５の運動を検出しないか、相対運動が所定の安全閾値より低い場合、制御回路７０はドライバ６０、１２０の一方または両方を制御して、照射要素４０と切り取り要素１１０のそれぞれ一方を流れる電流が中断されるようにする。１つの好ましい実施形態において、図２Ａ〜２Ｂに関して後述するように、除去および抑制ヘッド２０は皮膚から遠ざかるように移動される。他の実施形態において、切り取り要素１１０が皮膚から遠ざかるように移動され、除去および抑制ヘッド２０は移動しない。好ましくは、制御回路７０は、所定の時間にわたって相対運動が検出されない場合、ドライバ６０を制御して照射要素４０を流れる電流を中断させ、ドライバ１２０を制御して切り取り要素１１０を流れる電流を中断させるように構成される。１つの実施形態において、使用者アラーム１９は、筐体１５の相対運動の速度を高めるべきであるとの表示を出力する。

１つの実施形態において、制御回路７０は、ドライバ６０を制御して、電流をパルス式に照射要素４０に流すように構成される。制御回路７０がモーションセンサー８０の検出からの入力に対応して皮膚表面１４０の上方での筐体１５の相対運動の速度を計算するように構成されている１つの実施形態において、任意選択的に、ドライバ６０のデューティーサイクルが検出された相対運動の速度に応じる。筐体１５の相対運動の速度が上昇すると、ドライバ６０のデューティーサイクルは増大し、筐体１５の相対運動の速度が低下すると、ドライバ６０のデューティーサイクルは減少する。１つの実施形態において、ドライバ６０のデューティーサイクルは、開口部２６と並置された時に皮膚表面１４０の部分１３０の温度が４０〜４６℃となるように調整される。１つの実施形態において、ドライバ６０のデューティーサイクルは次のようなパルス幅を提供するように調整され、
Ｔ＝Ｘ／Ｖ
式中、Ｘは、平行アーム２５の長さ方向の端２８間の、開口部２６を画定する間隔であり、Ｖは、検出された筐体１５の相対運動の速度である。

１つの実施形態において、制御回路７０は、ドライバ１２０を制御して、電流をパルス式に切り取り要素１１０に流させるように構成される。制御回路７０が、モーションセンサー８０の検出に対応して皮膚表面１４０の上方の筐体１５の相対運動の速度を計算するように構成される１つの実施形態において、任意選択的にドライバ１２０のデューティーサイクルは、検出された相対運動の速度に応じる。筐体１５の相対運動の速度が上昇すると、ドライバ１２０のデューティーサイクルは増大し、筐体１５の相対運動の速度が低下すると、ドライバ１２０のデューティーサイクルは減少する。

以上は、切り取り要素１１０が被加熱要素である実施形態において説明したが、これは一切限定しようとするものではない。他の実施形態において、切り取り要素１１０は刃として提供され、これは、除去および抑制ヘッド２０が毛に関して運動中に、刃と接触する毛を切り取るように構成される。

図２Ａは、脱毛および発毛抑制器具３００の高レベル側方断面図を示し、図２Ｂは、脱毛および発毛抑制器具３００の動作の表皮と毛包に対する効果を示すグラフを示し、ｘ軸は時間を表し、ｙ軸は温度を表しており、いずれも単位は任意であり、これらの図面をまとめて説明する。脱毛および発毛抑制器具３００は、すべての点において図１Ａ〜１Ｅの脱毛および発毛抑制器具１０と同様であり、さらに、移動機構３３０を含む。１つの実施形態において、反射板９０は提供されない。１つの実施形態（図示せず）において、モーションセンサー８０は提供されない。簡単にするために、使用者入力装置１８、使用者アラーム１９、電源３０、照射要素４０、ドライバ６０、制御回路７０、ドライバ１２０は示されていない。１つの非限定的な実施形態において、移動機構３３０は、短い半径部分３６０と長い半径部分３７０を有するカム３５０と、複数のばね３８０と、複数のばねコネクタ３９０と、を含む。１つの実施形態（図示せず）において、カム３５０は複数の機械的部品を含み、それによって短い半径部分３６０と長い半径部分３７０の調整が可能となる。他の実施形態（図示せず）において、移動機構３３０は機械的受け台を含む。他の実施形態（図示せず）において、移動機構３３０は、双方向直線運動のために構成されたスイングレバーを含む。

各ばね３８０は、一方の端で除去および抑制ヘッド２０に接続され、第二の端において、それぞれのばねコネクタ３９０を介して筐体１５に接続される。除去および抑制ヘッド２０の壁２２に対向し、そこから筐体１５の開口部１７とは反対に移動される、除去および抑制ヘッド２０の壁２１は、カム３５０と接触するように構成される。カム３５０は、制御回路７０と電源３０と連通するモータ（図示せず）によって回転される。

動作中、筐体１５の開口部１７の部分が、１つの実施形態においては使用者が筐体１５を把持することによって、皮膚表面１４０の部分１３０と並置される。当初、使用者入力装置１８０の使用者による入力に対応して、カム３５０の長い半径部分３７０が除去および抑制ヘッド２０と接触し、それによって除去および抑制ヘッド２０は筐体１５の開口部１７に関して処置位置へと移動され、処置位置を本明細書では第一の位置とも呼ぶ。１つの実施形態において、処置位置では、ｈ（ｔ）で示される切り取り要素１１０と開口部１７の距離は３ｍｍ未満、１つの特定の実施形態においては０．１〜１ｍｍの間である。他の実施形態において、処理位置では、切り取り要素１１０は筐体１５の開口部１７と同じ高さとなる。制御回路７０は、ドライバ６０と１２０を制御して、電流がそれぞれ照射要素４０（図示せず）と切り取り要素１１０に流れるように駆動させる。前述のように、照射要素４０からは熱とＥＭＲが出力され、放射の大部分が皮膚表面１４０の部分１３０に到達して、その中の毛包を加熱する。熱は、切り取り要素１１０から出力され、前述のように、それと接触する毛のあらゆる部分を切り取るように構成される。これに加えて、制御回路７０は、カム３５０を制御して回転を開始させるように構成される。図２Ｂの曲線４００は、皮膚表面１４０の部分１３０の表皮の温度を示し、図２Ｂの曲線４１０は皮膚表面１４０の部分１３０の表皮の下にある毛包の温度を示す。曲線４００と４１０により示されるように、毛包の温度は表皮の温度より早く上昇し、それゆえ、毛包は時間の経過に伴う温度上昇によって衝撃を受けるが、表皮の表面に生じる温度上昇はほとんどない。

時間Ｔ１では、カム３５０が回転して、長い半径部分３７０が除去および抑制ヘッド２０と接触しなくなると、ばね３８０によって除去および抑制ヘッド２０はカム３５０に向かって、特にカム３５０の短い半径部分３６０に向かって前進する。除去および抑制ヘッド２０はそれゆえ、処置位置から、第二の位置とも呼ばれる冷却位置へと移動し、それによって距離ｈ（ｔ）が増大する。１つの実施形態において、除去および抑制ヘッド２０の処置位置と冷却位置との間の距離は２〜２０ｍｍの間であり、１つの特定の実施形態では５ｍｍである。１つの実施形態において、制御回路７０は、除去および抑制ヘッド２０が冷却位置にある間、電流ドライバ１２０を制御して、切り取り要素１１０を流れる電流を停止させ、それによって切り取り要素１１０が冷却されるように構成される。１つの実施形態において、制御回路７０は、電流ドライバ６０を制御して、照射要素４０を流れる電流を停止させ、それによって照射要素４０が冷却されるように構成される。それぞれの曲線４００と４１０により示されるように、表皮の温度の低下は毛包の温度の低下より有意に大きく、これは、表皮の熱緩和時間が毛包のそれより有意に低いからである。

時間Ｔ２で、カム３５０は１回転し終わり、長い半径部分３７０が再び除去および抑制ヘッド２０と接触し、除去および抑制ヘッド２０は筐体１５の開口部１７に向かって前進する。除去および抑制ヘッド２０はそれゆえ、処置位置に移動し、これによって、前述のように、皮膚表面１４０の部分１３０の毛包と表皮の温度が上昇する。冷却位置にある時に切り取り要素１１０を流れる電流が停止される１つの実施形態において、制御回路７０は、電流ドライバ１２０を制御して、時間Ｔ２で切り取り要素１１０を流れる電流を再開させるように構成される。冷却位置にある時に照射要素４０を流れる電流が停止される１つの実施形態において、制御回路７０は、電流ドライバ６０を制御して、時間Ｔ２で照射要素４０を流れる電流を再開させるように構成される。時間Ｔ３では、カム３５０の長い半径部分３７０が除去および抑制ヘッド２０と接触しなくなり、除去および抑制ヘッド２０は再び冷却位置へと移動する。曲線４００と４１０に示されるように、時間Ｔ３での毛包の温度は時間Ｔ１での温度より有意に高いが、時間Ｔ３の表皮の温度は時間Ｔ１より有意に高くない。時間Ｔ４では、カム３５０が２回転目を完了し、長い半径部分３７０が再び除去および抑制ヘッド２０と接触し、除去および抑制ヘッド２０は再び、時間Ｔ２に関して上述したように、処置位置に移動する。時間Ｔ５では、長い半径部分３７０が除去および抑制ヘッド２０と接触しなくなり、除去および抑制ヘッド２０は再び冷却位置に移動して、それによって時間Ｔ３に関して上述した工程を繰り返す。

有利な点として、毛包は、それによって損傷を受けて毛の生育を低減させるのに十分に高い温度まで加熱され、その一方で、表皮の外側部分の全体的な温度上昇は有意ではなく、したがって、表皮には全く損害が生じない。これに加えて、毛１５０の、切り取り要素１１０と接触している端はさらに、切り取り要素１１０の反復的な加熱動作によって切り取られる。

１つの実施形態において、除去および抑制ヘッド２０が連続して周期的に処置位置へ移動する、毎回の間隔は、０．５〜５００ｍｓの間であり、１つの特定の実施形態において、この周期は約２００ｍｓである。具体的には、１つの実施形態において、カム３５０の回転周期は２〜２０００Ｈｚであり、１つの特定の実施形態において、この周期は約５Ｈｚである。１つの実施形態において、除去および抑制ヘッド２０の処置位置のデューティーサイクルは５０％より大きく、すなわち、除去および抑制ヘッド２０が処置位置に留まる時間の長さは、除去および抑制ヘッド２０が冷却位置に留まる時間の長さより長い。具体的には、カム３５０の長い半径部分３７０の円周は、短い半径部分３６０の円周より大きい。１つの実施形態において、除去および抑制ヘッド２０の処置位置のデューティーサイクルは約６０％である。１つの好ましい実施形態において、除去および抑制ヘッド２０の処置位置のデューティーサイクルとカム３５０の回転周期は、皮膚表面１４０の部分１３０が過剰な熱によって損傷を受けないように構成される。

１つの非限定的な実施形態において、上記の動作は、除去および抑制ヘッド２０が動作中、具体的には、皮膚表面１４０に関して相対運動中であり、相対運動の速度が所定の最小値より高いことを示す、モーションセンサー８０からの出力に対応する。モーションセンサー８０が、筐体１５の相対運動の速度が所定の限度より低いことを検出した場合、制御回路７０は、ドライバ６０とドライバ１２０を制御して、それぞれ照射要素４０と切り取り要素１１０を通る電流を停止させる。１つの実施形態において、制御回路７０はさらに、カム３５０の回転によって短い半径部分３６０が除去および抑制ヘッド２０と接触した地点でカム３５０の回転を停止させ、それゆえ、確実に除去および抑制ヘッド２０が冷却位置にあることになるように構成される。好ましくは、カム３５０の回転と、照射要素４０および切り取り要素１１０を流れる電流は、モーションセンサー８０が、筐体１５の相対運動の速度が所定の限度、すなわち安全閾値より低いことを検出した場合にのみ停止される。１つの特定の実施形態において、所定の限度はゼロを上回った点であり、それゆえ、相対運動が検出されない時に電源が切られる。

１つの非限定的な実施形態において、処置のデューティーサイクルは、検出された筐体１５の相対運動の速度に応じる。それゆえ、照射要素４０には、除去および抑制ヘッド２０が処置位置にある時間の一部のみについて照射を提供するように電源供給される。処置デューティーサイクルは、本明細書において、除去および抑制ヘッド２０の総サイクル時間のうち、照射要素４０が熱を供給するように電源供給されている時のパーセンテージを意味すると解釈される。筐体１５の相対運動の速度が上昇すると、処置のデューティーサイクルが増大し、筐体１５の相対運動の速度が低下すると、処置のデューティーサイクルが減少する。

１つの実施形態において、除去および抑制ヘッド２０のデューティーサイクルは、除去および抑制ヘッド２０がカム３５０の各サイクル中に処置位置にある時間の長さが次のようになるように調整され、
Ｔ＝Ｙ／Ｖ
式中、Ｙは除去および抑制ヘッド２０の開口部２６の幅であり、Ｖは検出された筐体１５の相対運動の速度である。具体的には、１つの特定の実施形態において、除去および抑制ヘッド２０のデューティーサイクルを調整するために、カム３５０の回転速度は、短い半径部分３６０が除去および抑制ヘッド２０と接触している期間中と、長い半径部分３７０が除去および抑制ヘッド２０と接触している期間中に、別々に調整される。

図３Ａは、脱毛および発毛抑制器具５００の、除去および抑制ヘッド２０が冷却位置にある時の高レベル側方断面図を示し、図３Ｂは、脱毛および発毛抑制器具５００の除去および抑制ヘッド２０が処置位置にある時の高レベル側方断面図を示し、図３Ｃは、脱毛および発毛抑制器具５００の、除去および抑制ヘッド２０が冷却位置にある時の、さらに延伸組立体２３の長さ方向の端２８の歯を説明する高レベル側方断面図を示し、図３Ｄは、脱毛および発毛抑制器具５００の、除去および抑制ヘッド２０が処置位置にある時の、またさらに延伸組立体２３の長さ方向の端２８の歯を示す高レベル側方断面図を示す。脱毛および発毛抑制器具５００は、すべての点において、図２Ａの脱毛および発毛抑制器具３００と同様であるが、筐体１５に取り付けられ、筐体１５の開口部１７がそれと並置された時に皮膚表面１４０と接触するように構成されたローラ５１０が追加されている。簡単にするために、移動機構３３０の詳細は示されていない。図２Ａ〜２Ｂに関して上述したように、除去および抑制ヘッド２０は、図３Ａと３Ｃに示されるような処置位置と、図３Ｂと３Ｄに示されるような冷却位置の間で規則的に移動される。脱毛および発毛抑制器具５００の動作は、すべての点で、図３Ａの脱毛および発毛抑制器具３００と同様である。有利な点として、ローラ５１０と、延伸組立体２３の長さ方向の端２８の歯によって、皮膚表面１４０にわたって、よりスムーズな運動が可能となる。これに加えて、延伸組立体２３の歯によって、延伸組立体２３のより小さな表面積での皮膚表面１４０との接触が提供され、これによって延伸組立体２３から皮膚表面１４０に伝えられる熱が少なくなる。図３Ａ〜３Ｄの実施形態において、照射要素４０の移動は切り取り要素１１０の移動と連結されるが、これは一切限定しようとするものではない。照射要素４０と切り取り要素１１０の各々のための独立した移動機構を提供してもよく、これも本願の範囲を逸脱しない。

図４Ａは、脱毛および発毛抑制器具６００の、除去および抑制ヘッド２０が冷却位置にある時の高レベル側方断面図を示し、図４Ｂは、脱毛および発毛抑制器具６００の、除去および抑制ヘッド２０が処置位置にある時の高レベル側方断面図を示す。脱毛および発毛抑制器具６００は、すべての点において、図３Ａ〜３Ｄの脱毛および発毛抑制器具５００と同様であるが、例外として、反射板９０が、除去および抑制ヘッド２０にではなく、筐体１５に設置されている。具体的には、反射板９０は、筐体１５の、開口部１７と対向する壁６１０に設置される。１つの非限定的な実施形態において、反射板９０は２つに分割され、移動機構３３０は２つの二分割部分間に位置付けられる。上述のように、除去および抑制ヘッド２０は、図４Ａに示されるような冷却位置と、図４Ｂに示されるような処置位置との間で規則的に移動される。除去および抑制ヘッド２０の位置に関係なく、反射板９０は筐体１５に関して固定されたままである。

図５Ａは、脱毛および発毛抑制器具７００の、除去および抑制ヘッド２０が冷却位置にある時の高レベル側方断面図を示し、図５Ｂは、脱毛および発毛抑制器具７００の、除去および抑制ヘッド２０が処置位置にある時の高レベル側方断面図を示す。脱毛および発毛抑制器具７００は、すべての点において、図３Ａ〜３Ｂの脱毛および発毛抑制器具５００と同様であるが、例外として、照射要素４０と切り取り要素１１０の各々のために別の移動機構３３０が提供されている。脱毛および発毛抑制器具７００の動作は、すべての点で、脱毛および発毛抑制器具５００の動作と同様であるが、例外として、切り取り要素１１０が除去および抑制ヘッド２０の移動とは独立して移動される。１つの実施形態において、除去および抑制ヘッド２０が処置位置にある時、切り取り要素１１０は皮膚表面１４０の部分１３０に向かってさらに移動され、それによって切り取り要素１１０と皮膚表面１４０との間の距離は、照射要素４０と皮膚表面１４０との間の距離より小さくなる。１つの実施形態において、切り取り要素１１０は、除去および抑制ヘッド２０の位置に関係なく、皮膚表面１４０の部分１３０から３ｍｍ未満の距離に保持される。制御回路７０は、モーションセンサー８０が、筐体１５の相対運動が所定の数値より小さいことを検出した場合、それぞれの移動機構３３０を制御して、前述のように、切り取り要素１１０を皮膚表面１４０から冷却位置に移動させるように構成される。

図６は、脱毛および発毛抑制器具８００の、除去および抑制ヘッド２０が処置位置にある時の高レベル側方断面図を示す。脱毛および発毛抑制器具８００は、すべての点で、図４Ａ〜４Ｂの脱毛および発毛抑制器具６００と同様であるが、例外として、照射要素４０が筐体１５の壁８１０に関して固定される。前述のように、除去および抑制ヘッド２０は処置位置と冷却位置との間で規則的に移動される。除去および抑制ヘッド２０の位置に関係なく、照射要素４０と反射板９０は、筐体１５に関して固定されたままである。１つの実施形態において、制御回路７０は、除去および抑制ヘッド２０の位置に関係なく、ドライバ６０を制御して、照射要素４０を流れる電流を保持することにより、皮膚表面１４０の部分１３０を常に照射させるように構成される。

図７Ａ〜７Ｂは、脱毛および発毛抑制器具９００の高レベル側方断面図を示し、これらの図をまとめて説明する。脱毛および発毛抑制器具９００は、すべての点において、図３Ａ〜３Ｂの脱毛および発毛抑制器具５００と同様であるが、例外として、１対の除去および抑制ヘッド２０が提供されており、照射要素４０と切り取り要素１１０が、照射および切り取り要素９１０に置き換えられている。移動機構３３０が各々の除去および抑制ヘッド２０のために設置され、１つの実施形態において、図２Ａに関して上述したように配置される。１つの実施形態（図示せず）において、ドライバ６０が各々の照射および切り取り要素９１０のために提供され、そこに電流を流すように構成される。他の実施形態において、単独のドライバ６０だけが提供され、各々の照射および切り取り要素９１０に電流を流すように構成される。１つの実施形態において、図７Ａに示されるように、各反射板９０は長い凹状の形状である。他の実施形態において、図７Ｂに示されるように、反射板９０は長い開放型台形である。１つの特定の実施形態において、開放型台形は、広い底辺が開いた等脚台形である。

１つの実施形態において、照射および切り取り要素９１０はニッケルクロム合金を含む。１つの別の実施形態において、照射および切り取り要素９１０はニクロムを含む。他の実施形態において、照射および切り取り要素９１０は珪化モリブデン合金を含む。他の実施形態において、照射および切り取り要素９１０は、フェライト鉄クロムアルミニウム合金を含む。１つの実施形態において、照射および切り取り要素９１０は、全体のエネルギーの約９５％が５００〜５０００ｎｍのスペクトラム内のＥＭＲ、１つの特定の実施形態においては、全体のエネルギーの１０％未満が５００〜１０００ｎｍのスペクトラム内のＥＭＲを出力するように構成される。１つの実施形態において、出力されるＥＭＲは、全体のエネルギーの約９５％が約１０００ｎｍの波長である。１つの実施形態において、照射および切り取り要素９１０は、そこに適正な電流が流れることに対応して、４００〜１９００℃の温度まで加熱されるように構成される。１つの特定の実施形態において、照射および切り取り要素９１０は、そこに適正な電流が流れることに対応して、１０００〜１９００℃の温度、１つの別の実施形態においては約１９００℃の温度まで加熱されるように構成される。他の実施形態において、照射および切り取り要素９１０は、１９００℃より高い温度まで加熱されるように構成される。

１つの実施形態において、照射および切り取り要素９１０は、長い直方体の形状である。１つの実施形態において、図７Ａに示されるように、照射および切り取り要素９１０の、除去および抑制ヘッド２０の壁２２と対向する縁と、それに対して平行な縁は、図１Ａ〜１Ｃに関して上述したように、平行アーム２５に対して平行な縁より広い。他の実施形態において、図７Ｂに示されるように、照射および切り取り要素９１０の、除去および抑制ヘッド２０の壁２２に対向する縁と、それに対して平行な縁は、平行アーム２５に対して平行な縁より狭い。１つの実施形態において、照射および切り取り要素９１０の長さは、幅より１〜１００倍長い。１つの特定の実施形態において、照射および切り取り要素９１０の長さは、幅より５倍長い。他の実施形態において、照射および切り取り要素９１０の長さは、幅の１００倍より長い。他の実施形態において、照射および切り取り要素９１０は円筒形である。他の実施形態において、照射および切り取り要素９１０は長い立方体の形状である。

動作中、前述のように、各除去および抑制ヘッド２０は、処置位置と冷却位置との間で規則的に移動される。ドライバ６０は、処置位置では、照射および切り取り要素９１０に電流を流し、それによって、照射要素４０と切り取り要素１１０に関して上述したように、皮膚表面１４０の部分１３０を照射して、そこから突出する毛を切り取るように構成される。１つの実施形態において、ドライバ６０は、冷却位置では、照射および切り取り要素９１０に流れる電流を停止するように構成される。１つの実施形態において、除去および抑制ヘッド２０は交互に治療位置に移動され、各除去および抑制ヘッド２０は、他方の除去および抑制ヘッド２０が冷却位置にある時のみ、治療位置に移動される。他の実施形態において、両方の除去および抑制ヘッド２０の処置時間、すなわち各除去および抑制ヘッド２０が処置位置にある時間は、少なくとも部分的に重複する。１つの実施形態において、両方の除去および抑制ヘッド２０のデューティーサイクル、すなわち、各除去および抑制ヘッド２０が処置位置にある時間のパーセンテージは等しい。１つの実施形態において、各除去および抑制ヘッド２０のデューティーサイクルは、約６０％である。他の実施形態において、各除去および抑制ヘッド２０のデューティーサイクルは、５０％未満である。１つの実施形態において、各除去および抑制ヘッド２０のデューティーサイクルは、図２Ａ〜２Ｂの脱毛および発毛抑制器具３００に関して上述したように、検出された筐体１５の相対運動の速度に対応して制御される。１つの実施形態において、各照射および切り取り要素９１０の駆動パルス時間、ＴＫは、
ＴＫ＝ＸＫ／Ｖ
であり、式中、ＸＫは各照射および切り取り要素９１０の幅であり、Ｖは検出された筐体１５の相対運動の速度である。１つの実施形態において、各照射および切り取り要素９１０の大きさと除去および抑制ヘッド２０の位置は、除去および抑制ヘッド２０の両方の開口部２６間にギャップが存在するように構成される。有利な点として、皮膚表面１４０の部分１３０は、ギャップがそれと並置されている間、すなわち、部分１３０がいずれの照射および切り取り要素９１０にも曝されていない間に冷却される。上記は、２つの除去および抑制ヘッド２０が提供された実施形態において説明したが、これは一切限定しようとするものではなく、いくつの除去および抑制ヘッド２０を設けてもよく、これも本発明の範囲を逸脱しない。

図８Ａは、脱毛および発毛抑制器具１０００の高レベル側方断面図を示し、図８Ｂは、脱毛および発毛抑制器具１０００の動作を説明するグラフを示し、ｘ軸は任意の単位の時間を表し、ｙ軸は任意の単位の皮膚の面積を表しており、これらの図面をまとめて説明する。脱毛および発毛抑制器具１０００は、すべての点において、図７Ａ〜７Ｂの脱毛および発毛抑制器具９００と同様であるが、例外として、４つの除去および抑制ヘッド２０が提供され、ファン１０２０を含む排熱口１０１０が提供され、複数のばね１０３０が提供されている。排熱口１０１０は、筐体１５の空洞１６から筐体１５の外の周辺外気へと延びる。ファン１０２０は、排熱口１０１０の中に位置付けられる。各ばね１０３０の第一の端は筐体１５に接続され、各ばね１０３０の第二の端は特定の除去および抑制ヘッド２０に接続される。脱毛および発毛抑制器具１０００の動作は、すべての点において、図７Ａ〜７Ｂの脱毛および発毛抑制器具９００の動作と同様である。有利な点として、排熱口１０１０は、熱を皮膚表面１４０から遠ざけて排出するように構成される。１つの実施形態において、ファン１０２０は、継続的に動作して排熱を支援するように構成されている。１つの実施形態において、図８Ｂのグラフに示されるように、除去および抑制ヘッド２０は、皮膚表面１４０の各部分１３０が２つの除去および抑制ヘッド２０によって照射されるように構成され、操作される。

線１０４０は、第一の除去および抑制ヘッド２０により照射される皮膚表面１４０の領域を示し、破線は、第一の除去および抑制ヘッド２０にエネルギーが供給されていないことを示し、実線は第一の除去および抑制ヘッド２０にエネルギーが供給されていることを示す。線１０５０は、第二の除去および抑制ヘッド２０により照射される皮膚表面１４０の領域を示し、破線は、第二の除去および抑制ヘッド２０にエネルギーが供給されていないことを示し、実線は第二の除去および抑制ヘッド２０にエネルギーが供給されていることを示す。線１０６０は、第三の除去および抑制ヘッド２０により照射される皮膚表面１４０の領域を示し、破線は、第三の除去および抑制ヘッド２０にエネルギーが供給されていないことを示し、実線は第三の除去および抑制ヘッド２０にエネルギーが供給されていることを示す。線１０７０は、第四の除去および抑制ヘッド２０により照射される皮膚表面１４０の領域を示し、破線は、第四の除去および抑制ヘッド２０にエネルギーが供給されていないことを示し、実線は第四の除去および抑制ヘッド２０にエネルギーが供給されていることを示す。

時間Ｔ０では、第一と第三の除去および抑制ヘッド２０が上述のように処置位置に移動され、Ｘ４で示される皮膚表面１４０の部分１３０が第一の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって時間Ｔ１まで照射される。Ｔ１からＴ２までの期間中に第三の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射される皮膚表面１４０の部分は、図８Ｂには示されていない。皮膚表面１４０の領域Ｘ１〜Ｘ３は照射されていないため、冷却される。時間Ｔ１では、第一と第三の除去および抑制ヘッド２０が冷却位置に移動され、領域Ｘ４は冷却を始める。時間Ｔ２では、第二と第四の除去および抑制ヘッド２０が上述のように処置位置へと移動され、Ｘ３で示される皮膚表面１４０の部分１３０が第二の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって時間Ｔ３まで照射される。Ｔ２からＴ３までの期間中に第四の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射される皮膚表面１４０の部分は、図８Ｂでは示されていない。領域Ｘ１、Ｘ２、Ｘ４は照射されないため、冷却する。時間Ｔ３では、第二と第四の除去および抑制ヘッド２０が冷却位置へと移動し、領域Ｘ３は冷却を始める。

時間Ｔ４では、第一と第三の除去および抑制ヘッド２０が処置位置に移動される。Ｘ６で示される皮膚表面１４０の部分１３０は、第一の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射され、Ｘ２で示される皮膚表面１４０の部分１３０は第三の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射され、どちらも時間Ｔ５まで続く。時間Ｔ５では、第一と第三の除去および抑制ヘッド２０が冷却位置まで移動され、領域Ｘ２とＸ６は冷却を始める。時間Ｔ６では、第二と第四の除去および抑制ヘッド２０が処置位置まで移動される。Ｘ５で示される皮膚表面１４０の部分１３０は、第二の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射され、Ｘ１で示される皮膚表面１４０の部分１３０は、第四の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射され、どちらも時間Ｔ７まで続く。時間Ｔ７では、第二と第四の除去および抑制ヘッド２０が冷却位置まで移動され、領域Ｘ１とＸ５は冷却を始める。

時間Ｔ８では、第一と第三の除去および抑制ヘッド２０が処置位置まで移動される。Ｘ８で示される皮膚表面１４０の部分１３０は第一の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射され、皮膚表面１４０の部分Ｘ４は、第三の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射され、どちらも時間Ｔ９まで続く。前述のように、部分Ｘ４はＴ０とＴ１の間の期間中、照射されていた。それゆえ、部分Ｘ４に再び処置が提供される。時間Ｔ９では、第一と第三の除去および抑制ヘッド２０が冷却位置へと移動され、領域Ｘ４とＸ８は冷却を始める。時間Ｔ１０では、第二と第四の除去および抑制ヘッド２０が処置位置に移動される。Ｘ７で示される皮膚表面１４０の部分１３０は、第二の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射され、皮膚表面１４０の部分Ｘ３は、第四の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射され、どちらも時間Ｔ１１まで続く。前述のように、部分Ｘ３は、Ｔ２とＴ３の間の期間中、照射されていた。それゆえ、部分Ｘ３に再び処置が提供される。時間Ｔ１１では、第二と第四の除去および抑制ヘッド２０が冷却位置へと移動され、領域Ｘ３とＸ７は冷却を始める。

時間Ｔ１２では、第一と第三の除去および抑制ヘッド２０が処置位置へと移動される。表面１４０の部分Ｘ６は、第三の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって、時間Ｔ１３まで照射される。前述のように、部分Ｘ６は、Ｔ４とＴ５の間の期間中に照射されていた。それゆえ、部分Ｘ６に再び処置が提供される。Ｔ１２とＴ１３の間の間隔中に第一の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射される皮膚表面１４０の部分１３０は示されていない。時間Ｔ１３では、第一と第三の除去および抑制ヘッド２０が冷却位置へと移動され、領域Ｘ６が冷却を始める。時間Ｔ１４では、第二と第四の除去および抑制ヘッド２０が処置位置へと移動される。皮膚表面１４０の部分Ｘ５は、第四の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって、時間Ｔ１５まで照射される。前述のように、部分Ｘ５はＴ６とＴ７との間の期間中に照射されていた。それゆえ、部分Ｘ５に再び処置が提供される。Ｔ１４とＴ１５との間の期間中に第二の除去および抑制ヘッド２０の照射および切り取り要素９１０によって照射される表面１４０の部分１３０は示されていない。時間Ｔ１５では、第二と第四の除去および抑制ヘッド２０が冷却位置に移動され、領域Ｘ５が冷却を始める。

有利な点として、脱毛および発毛抑制器具１０００の構成と動作は、皮膚表面１４０の複数回の処置を提供し、各々の除去および抑制ヘッド２０のデューティーレートは５０％未満である。１つの実施形態において、各ばね１０３０は、それぞれの移動機構３３０が故障した場合に、それぞれの除去および抑制ヘッド２０を処置位置から冷却位置に移動させるように構成される。

図９は、脱毛および発毛抑制器具１１００の高レベル側方断面図を示す。脱毛および発毛抑制器具１１００は、すべての点において、図８Ａの脱毛および発毛抑制器具１０００と同様であるが、例外として、単独の除去および抑制ヘッド２０だけが提供されている。各照射および切り取り要素９１０と、これに関連する反射板９０は、それぞれの移動機構３３０に接続されている。ばね１０３０の第一の端はそれぞれの反射板９０に接続され、各ばね１０３０の第二の端は除去および抑制ヘッド２０に接続される。複数の排熱口１０１０が設けられ、各々がそれぞれの照射および切り取り要素９１０に関連付けられる。

図１０は、特定の実施形態による、照射要素と、反射板と、切り取り要素と、を含む脱毛および発毛抑制器具の第一の動作方法の高レベルフローチャートを示す。段階２０００において、照射要素が提供される。１つの実施形態において、照射要素はワイヤを含む。他の実施形態において、照射要素はリボンを含む。１つの実施形態において、照射要素はニッケルクロム合金を含む。１つの別の実施形態において、照射要素はニクロムを含む。他の実施形態において、照射要素は珪化モリブデン合金を含む。他の実施形態において、照射要素はフェライト鉄クロムアルミニウム合金を含む。１つの実施形態において、照射要素は、全体のエネルギーの約９５％が５００〜５０００ｎｍの間のスペクトラム内のＥＭＲ、１つの特定の実施形態においては、全体のエネルギーの１０％未満が５００〜１０００ｎｍのスペクトラム内のＥＭＲを出力するように構成される。１つの実施形態において、出力されるＥＭＲは、全体のエネルギーの約９５％が約１０００ｎｍの波長である。１つの実施形態において、照射要素は、適正な電流がそこに流れることに対応して、４００〜１９００℃の温度まで加熱されるように構成され、ＥＭＲ出力は照射要素の加熱に対応する。１つの特定の実施形態において、照射要素は、適正な電流がそこに流れることに対応して、１０００〜１９００℃の温度、１つの別の実施形態においては、約１９００℃の温度まで加熱されるように構成される。他の実施形態において、照射要素は１９００℃より高い温度まで加熱されるように構成される。

１つの実施形態において、照射要素は長い直方体の形状である。他の実施形態において、照射要素は長い立方体の形状である。他の実施形態において、照射要素は円筒形である。１つの実施形態において、照射要素の長さは幅より１〜１００倍長い。１つの特定の実施形態において、照射要素の長さは幅より５倍長い。他の実施形態において、照射要素の長さは幅の１００倍より長い。

段階２０１０において、切り取り要素が提供される。１つの実施形態において、切り取り要素は長形のワイヤ、リボン、刃、被加熱要素のうちの１つを含む。１つの実施形態において、切り取り要素はニッケルクロム合金を含む。１つの別の実施形態において、切り取り要素はニクロムを含む。他の実施形態において、切り取り要素は珪化モリブデン合金を含む。他の実施形態において、切り取り要素はフェライト鉄クロムアルミニウム合金を含む。

段階２０２０において、除去および抑制ヘッドが提供され、段階２０００と２０１０で提供された照射要素と切り取り要素がそれに関して固定され、提供された除去および抑制ヘッドに反射板が設置される。「固定される」という用語は、固定された接続に限定されず、１つの実施形態においては、図５Ａ、５Ｂ、９に関して上述したように、提供された照射要素と提供された切り取り要素の少なくとも一方が、提供された除去および抑制ヘッドに関して移動可能である。１つの実施形態において、反射板は５００〜５０００ｎｍの間の波長を有するＥＭＲを実質的に反射するように構成された反射材料で構成される。１つの実施形態において、反射板は酸化アルミニウムで構成され、１つの別の実施形態において、純度は９０〜９９．５％である。１つの実施形態において、反射板の反射率は１０００ｎｍで少なくとも９８％である。１つの実施形態において、反射板の熱伝導率は約３５Ｗ／ｍＫ°である。段階２０３０で、段階２０００の照射要素が段階２０２０の反射板の前に位置付けられ、これによって照射要素が反射板と皮膚表面との間に位置付けられることになり、これについては後述する。

段階２０４０において、段階２０２０で提供された除去および抑制ヘッドが皮膚表面の部分と並置される。段階２０５０において、照射要素は、その中に電流が流れ、それが加熱されたことに対応して、ＥＭＲを出力する。１つの実施形態において、前述のように、出力されたＥＭＲは全体のパワーの約９５％が５００〜５０００ｎｍのスペクトラム内であり、１つの特定の実施形態において、ＥＭＲは全体のパワーの１０％未満が５００〜１０００ｎｍの間のスペクトラム内である。１つの実施形態において、出力されるＥＭＲは全体のエネルギーの約９５％が約１０００ｎｍの波長である。１つの実施形態において、照射要素は０．５〜２０Ｗのパワー、１つの特定の実施形態においては１〜１０Ｗのパワーを有するＥＭＲを出力するように構成される。１つの実施形態において、出力されたＥＭＲの、段階２０２０の除去および抑制ヘッドと並置された皮膚表面の部分で測定したフルエンスは１〜１０Ｊ／ｃｍ²であり、１つの特定の実施形態において、フルエンスは約３Ｊ／ｃｍ²である。照射要素によって出力されたＥＭＲは、反射板によってヘッドの窪みと並置された皮膚表面の部分に向かって反射される。有利な点として、照射要素によって出力される熱は、反射板によって皮膚表面に実質的に反射されない。

段階２０６０において、段階２０１０の切り取り要素が毛を切り取るのに十分な温度まで加熱される。１つの実施形態において、切り取り要素は、４００〜１９００℃の温度、１つの特定の実施形態においては１０００〜１９００℃の温度まで加熱される。

選択可能な段階２０７０において、モーションセンサーが提供される。１つの実施形態において、モーションセンサーは、並置された皮膚表面に関する段階２０２０の筐体の相対運動に対応して信号を出力するように構成される。１つの実施形態において、モーションセンサーによって検出された相対運動が第一の所定の数値より大きい場合、段階２０００で提供された照射要素による照射が行われ、モーションセンサーにより検出された相対運動が第二の所定の数値より小さい場合、照射が中断される。１つの実施形態において、第一の所定の数値と第二の所定の数値は同じである。モーションセンサーによって検出された相対運動が第三の所定の数値より大きい場合、段階２０１０の切り取り要素は毛を切り取るのに十分な温度まで加熱され、さらに、任意選択的に毛切り取り位置に移動される。モーションセンサーによって検出された相対運動が第四の数値より小さい場合、切り取り要素へのパワーは中断され、さらに、任意選択的に非切り取り位置に移動される。１つの実施形態において、第三の所定の数値と第四の所定の数値は同じである。１つの実施形態において、第一の所定の数値は第三の所定の数値より小さい。

選択可能な段階２０８０において、段階２０００の照射要素と段階２０１０の切り取り要素を流れるパワーは、モーションセンサーに対応して制御される。１つの実施形態において、デューティーサイクルは、段階２０２０の除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が上昇すると増大し、このデューティーサイクルは、除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が低下すると減少する。１つの実施形態において、照射要素と切り取り要素を流れる電流は、除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が上昇すると増大し、除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が低下すると減少する。

以上は、切り取り要素が長い被加熱要素である実施形態において説明したが、これは一切限定しようとするものではない。他の実施形態において、切り取り要素は刃である。

図１１は、特定の実施形態による、図１０の段階２０００〜２０３０の後の脱毛および発毛抑制器具の第二の動作方法の高レベルフローチャートを示す。段階３０００において、図１０の段階２０４０で説明したように、段階２０２０の除去および抑制ヘッドが皮膚表面の部分と並置される。段階３０１０において、段階２０００の照射要素が処置位置に移動される。前述のように、照射要素は、電流がその中を流れ、それが加熱されたことに対応してＥＭＲを出力する。１つの実施形態において、出力されたＥＭＲは、全体のパワーの約９５％が５００〜５０００ｎｍの間のスペクトラム内であり、１つの特定の実施形態において、ＥＭＲは全体のパワーの１０％未満が５００〜１０００ｎｍのスペクトラム内である。１つの実施形態において、出力されるＥＭＲは、全体のエネルギーの約９５％が約１０００ｎｍの波長である。１つの実施形態において、照射要素は０．５〜２０Ｗのパワーの、１つの特定の実施形態においては、１〜１０ＷのパワーのＥＭＲを出力する
１つの実施形態において、出力されたＥＭＲの、段階２０２０の除去および抑制ヘッドと並置された皮膚表面の部分で測定したフルエンスは１〜１０Ｊ／ｃｍ²であり、１つの特定の実施形態において、フルエンスは約３Ｊ／ｃｍ²である。照射要素によって出力されたＥＭＲは、段階２０２０の反射板によって、除去および抑制ヘッドの窪みと並置された皮膚表面の部分に向かって反射される。有利な点として、熱は反射板によって皮膚表面に向かって実質的に反射されない。

段階３０２０において、段階２０１０の切り取り要素が、毛を切り取るのに十分な温度まで加熱される。１つの実施形態において、切り取り要素は４００〜１９００℃の温度まで加熱される。１つの特定の実施形態において、切り取り要素は１０００〜１９００℃の温度まで加熱される。１つの実施形態において、処置位置における切り取り要素と皮膚表面との間の距離は３ｍｍ未満、１つの特定の実施形態においては０．１〜１ｍｍである。他の実施形態において、切り取り要素は皮膚と接触する。

段階３０３０において、照射要素は段階３０１０の処置位置から冷却位置へと移動される。１つの実施形態において、処置位置と冷却位置との間の距離は２〜２０ｍｍ、１つの特定の実施形態においては、約５ｍｍである。１つの実施形態において、照射要素は、冷却位置に移動されると、積極的な熱の生成を停止し、それゆえ、積極的なＥＭＲの生成を停止するように構成される。段階３０４０において、照射要素は段階３０１０の処置位置と段階３０３０の冷却位置との間で規則的に移動される。１つの実施形態において、照射要素の処置位置への連続する毎回の移動間のサイクルは２〜２０００Ｈｚ、好ましくは約５Ｈｚである。１つの実施形態において、照射要素のデューティーサイクル、すなわち照射要素が処置位置にある時間のパーセンテージは、約６０％である。選択可能な段階３０５０において、段階２０１０の切り取り要素が段階２０００の照射要素と一緒に処置位置と冷却位置の間で移動される。１つの実施形態において、冷却位置では、切り取り要素が積極的な熱の生成を停止する。

選択可能な段階３０６０において、モーションセンサーが提供される。１つの実施形態において、モーションセンサーは、段階２０２０の除去および抑制ヘッドの相対運動に対応して信号を出力するように構成される。１つの実施形態において、モーションセンサーによって検出された相対運動の速度が第一の所定の数より高い場合、段階３０１０の処置位置と段階３０３０の冷却位置との間で照射要素が規則的に移動され、モーションセンサーによって検出された相対運動が第二の所定の数値より低い場合、規則的な移動が中断される。１つの実施形態において、段階２０００の照射要素による熱の生成、およびそれゆえ電磁放射の生成は中断される。１つの実施形態において、照射要素は冷却位置に移動される。１つの別の実施形態において、段階２０１０の切り取り要素もまた冷却位置に移動され、積極的な熱の生成を停止する。１つの実施形態において、第一の所定の数値と第二の所定の数値は等しい。

選択可能な段階３０７０において、段階３０４０の照射要素のデューティーサイクルは、段階３０６０で提供されたモーションセンサーに対応して制御される。１つの実施形態において、デューティーサイクルは、段階２０２０の除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が上昇すると増大し、除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が低下すると減少する。さらに、任意選択的に、照射要素の出力は、提供されたモーションセンサーに対応して制御される。１つの実施形態において、照射要素を流れる電流は、除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が上昇すると増大し、除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が低下すると減少する。任意選択的に、段階２０１０の切り取り要素を流れる電流は、除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が上昇すると増大し、除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が低下すると減少する。

図１２は、特定の実施形態による、皮膚表面の部分を照射するステップと、そこから突出している毛を切り取るステップとを含む、脱毛および発毛抑制方法の高レベルフローチャートを示す。段階４０００において、皮膚表面の部分にＥＭＲが照射される。１つの実施形態において、ＥＭＲは、全体のエネルギーの約９５％が５００〜５０００ｎｍのスペクトラム内であり、１つの特定の実施形態において、ＥＭＲは全体のエネルギーの１０％未満が５００〜１０００ｎｍのスペクトラム内である。１つの実施形態において、ＥＭＲは、全体のエネルギーの約９５％が約１０００ｎｍの波長である。１つの実施形態において、ＥＭＲの、皮膚表面の部分で測定されたフルエンスは１〜１０Ｊ／ｃｍ²の間であり、１つの別の実施形態において、フルエンスは約３Ｊ／ｃｍ²である。有利な点として、長期的に毛の生育が低減される。１つの実施形態において、ＥＭＲは、照射要素４０に関して上述したように、要素を加熱することによって出力される。段階４０１０において、皮膚表面の部分から突出する毛が切り取られ、それによって脱毛が行われる。１つの実施形態において、毛は、被加熱要素を提供することによって切り取られる。１つの実施形態において、提供される被加熱要素の温度は４００〜１９００℃である。

選択可能な段階４０２０において、反射板が提供され、照射を皮膚表面の部分に向けて実質的に反射するように構成される。１つの実施形態において、段階４０００の照射は、皮膚表面の部分の直接照射と、提供された反射板にＥＭＲを照射することが含まれ、ＥＭＲは皮膚表面の部分に向けて反射される。

選択可能な段階４０３０では、除去および抑制ヘッドが提供され、段階４０００の照射と段階４０１０の切り取りは、除去および抑制ヘッド２０に関して上述したように、提供された除去および抑制ヘッドの開口部から提供される。選択可能な段階４０４０において、選択可能な段階４０３０で提供された除去および抑制ヘッドの、それが並置された皮膚表面に関する相対運動またはそれがないことが検出される。１つの実施形態において、段階４０００の照射は検出された相対運動に対応する。１つの実施形態において、段階４０００の照射は、除去および抑制ヘッドの相対運動が検出された時に開始し、相対運動が検出されないと停止する。選択可能な段階４０５０において、段階４０３０で提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が検出される。１つの実施形態において、段階４０００の照射は検出された相対運動に対応する。１つの実施形態において、照射は、検出された相対運動の速度が第一の所定の数値より高いことに対応して開始し、検出された相対運動の速度が第二の所定の数値より低いことに対応して停止する。１つの実施形態において、第一の所定の数値と第二の所定の数値は等しい。１つの実施形態において、ＥＭＲの量は検出された相対運動の速度に対応し、ＥＭＲの量は、検出された相対運動の速度の上昇に対応して増大し、検出された相対運動の速度の低下に対応して減少する。

選択可能な段階４０６０において、選択可能な段階４０３０で提供される除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が検出される。１つの実施形態において、段階４０１０の切り取りは、被加熱要素に、毛を切り取るのに十分な電気エネルギーを供給するステップを含み、加熱は、検出された相対運動の速度が第三の所定の数値より大きいことに対応して開始し、検出された相対運動の速度が第四の所定の数値より低いことに対応して停止する。１つの実施形態において、第三の所定の数値と第四の所定の数値は等しい。選択可能な段階４０７０において、熱は皮膚表面の部分から遠ざかるように排出される。１つの実施形態において、熱は、選択可能な段階４０３０で提供された除去および抑制ヘッドに少なくとも１つの排熱口を提供することによって排出される。

図１３は、特定の実施形態による、皮膚表面の部分を規則的に処置および冷却するステップを含む、脱毛および発毛抑制方法の高レベルフローチャートを示す。段階５０００において、皮膚表面の部分が規則的に処置、冷却される。１つの実施形態において、処置は、皮膚表面の部分に熱を供給するステップを含む。１つの実施形態において、供給される熱は毛を切り取るのに十分な温度である。１つの実施形態において、供給される熱は４００〜１９００℃の間、１つの特定の実施形態においては、供給される熱は１０００〜１９００℃であり、１つの別の実施形態において、供給される熱は約１９００℃である。１つの実施形態において、加熱デューティーサイクル、すなわち、規則的な加熱と冷却の期間のうち加熱しているパーセンテージは、５０％より大きく、１つの別の実施形態において、加熱デューティーサイクルは約６０％である。１つの実施形態において、規則的加熱の周期は２〜２０００Ｈｚの間であり、１つの別の実施形態において、周期は約５Ｈｚである。

段階５０１０において、皮膚表面の部分にＥＭＲが照射される。選択可能な段階５０２０において、除去および抑制ヘッドが提供され、段階５０００の処置と冷却および選択可能な段階５０１０の選択可能な照射は、提供された除去および抑制ヘッドの開口部から提供される。選択可能な段階５０３０において、選択可能な段階５０２０で提供された除去および抑制ヘッドの、それが並置される皮膚表面に関する相対運動の速度が検出される。１つの実施形態において、段階５０００の規則的な処置と冷却は、検出された相対運動の速度に対応する。１つの実施形態において、規則的な処置と冷却は、相対運動の速度が第一の所定の数値より高いことに対応して開始し、相対運動の速度が第二の所定の数値より低いことに対応して停止する。１つの実施形態において、第一の所定の数値と第二の所定の数値は等しい。１つの実施形態において、段階５０１０で供給されるＥＭＲの量は、検出された相対運動の速度に対応する。１つの実施形態において、ＥＭＲの量は、検出された相対運動の速度の上昇に対応して増大し、検出された相対運動の速度の低下に対応して減少する。選択可能な段階５０４０において、選択可能な段階５０２０で提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が検出される。１つの実施形態において、段階５０００の規則的な処置と冷却の速度は、検出された相対運動の速度に対応する。選択可能な段階５０５０において、選択可能な段階５０２０で提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度が検出される。１つの実施形態において、処置のデューティーサイクルは、検出された相対運動の速度に対応する。１つの実施形態において、処置のデューティーサイクルは、検出された相対運動の速度の上昇に対応して増大し、検出された相対運動の速度の低下に対応して減少する。

当然のことながら、明瞭さのために別々の実施形態の内容で説明した本発明の特定の特徴はまた、１つの実施形態において組み合わせて提供することもできる。反対に、簡潔さのために、１つの実施形態に関して説明した本発明の各種の特徴は、別々にも、またはどのような適当な部分的組み合わせでも提供できる。本願の特許請求の範囲と本発明の説明の中で、明瞭な文言または必然的な黙示により、文脈上、他の解釈が必要な場合を除き、「〜を含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅ）」またはその変化形（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓまたはｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）はあらゆる包含的な意味で使用され、すなわち記載された特徴の存在を明示することを目的としており、本発明の様々な実施形態における別の特徴の存在または追加を排除するためではない。

特に別段の定義がないかぎり、本明細書で使用されるすべての技術用語や科学用語は本発明が属する業界の当業者により一般的に理解されているものと同じ意味を有する。本明細書で説明されたものと同様または均等な方法を本発明の実施または試験に使用することもできるが、好適な方法は本明細書で説明されている。

本明細書に記載されたすべての文献、特許出願、特許およびその他の参考文献は、その全体を参照によって援用する。矛盾点がある場合、定義を含め、この特許明細書が優先する。これに加えて、材料、方法、例は例示のためにすぎず、限定することは意図されない。いずれの参考文献も先行技術を構成するとは認められない。参考文献に関する記述は、その著者の主張を記したものであり、出願人は、引用した文献の正確さと適切性について異議を唱える権利を留保する。本明細書では多数の参考文献の複雑な関係に言及したが、この言及は、これらの文献のいずれかがいずれかの国の当業界における通常の一般的な知識の一部をなすと認めていることにはならないことが明確に理解されるであろう。

当業者であれば、本発明は、具体的に示され、上で説明されたものに限定されないことがわかるであろう。そうではなく、本発明の範囲は付属の特許請求の範囲により定義され、上記の説明を読むことによって当業者が着想するであろう、上記の様々な特徴の組み合わせと部分的な組み合わせの両方のほか、その変形や改良も包含する。

Claims (57)

1. 制御回路と、
   筐体に固定された少なくとも１つの除去および抑制ヘッドと、
   前記少なくとも１つの除去および抑制ヘッドに連結され、前記少なくとも１つの除去および抑制ヘッドの壁から反対に延びる少なくとも１つの延伸組立体であって、その端に、前記少なくとも１つの除去および抑制ヘッドの前記壁から離された開口部を画定する少なくとも１つの延伸組立体と、
   前記少なくとも１つの除去および抑制ヘッドに固定され、前記制御回路に対応する少なくとも１つの照射要素と、
   前記少なくとも１つの照射要素が自身と前記開口部の間に配置されるようにして前記少なくとも１つの除去および抑制ヘッドに固定される少なくとも１つの反射板と、
   前記少なくとも１つの除去および抑制ヘッドに固定され、前記開口部が、毛が外側に延びている皮膚部分と並置された時に、毛を切り取るように構成された少なくとも１つの切り取り要素と、
   を備え、
   前記少なくとも１つの反射板は、前記少なくとも１つの照射要素からの電磁放射出力を前記開口部に向けて実質的に反射するように構成される脱毛および発毛抑制器具。
2. 前記制御回路と連通するモーションセンサーをさらに備え、前記制御回路は前記モーションセンサーによって検出された相対運動に対応して、前記少なくとも１つの照射要素の出力を制御するように構成される、請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
3. 前記制御回路と連通するモーションセンサーをさらに備え、前記制御回路は前記モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第一の所定の数値より高いことに対応して、前記少なくとも１つの照射要素を作動状態にし、前記モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第二の所定の数値より低いことに対応して、前記少なくとも１つの照射要素を停止状態にするように構成される、請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
4. 前記制御回路と連通するモーションセンサーをさらに備え、前記制御回路は前記モーションセンサーが検出した相対運動に対応して、前記少なくとも１つの照射要素による放射出力量を制御するように構成される、請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
5. モーションセンサーをさらに備え、前記少なくとも１つの切り取り要素はワイヤとリボンのうちの一方を備え、前記制御回路は前記モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第三の所定の数値より高いことに対応して、前記少なくとも１つの切り取り要素に、毛を切り取るのに十分な温度まで加熱するための電源を供給し、前記モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第四の所定の数値より低いことに対応して、前記少なくとも１つの切り取り要素への電源供給を停止するように構成される、請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
6. 毛を切り取るのに十分な温度は４００〜１９００℃である請求項５に記載の脱毛および発毛抑制器具。
7. 前記筐体は、前記照射要素から前記筐体の周囲の外気中に熱を排出する排熱口を有する請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
8. 前記少なくとも１つの照射要素は長い直方体の形状である請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
9. 前記少なくとも１つの照射要素は長い円筒形である請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
10. 前記少なくとも１つの切り取り要素は刃と被加熱要素のうちの一方である請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
11. 前記少なくとも１つの反射板は、１０００ナノメートルで受け取った放射の少なくとも９８％を実質的に反射するように構成される、請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
12. 前記少なくとも１つの照射要素は、全体の少なくとも９５％が５００〜５０００ナノメートルのスペクトラム内である電磁エネルギーを出力するように構成される、請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
13. 前記少なくとも１つの照射要素は、全体の１０％未満が５００〜１０００ナノメートルのスペクトラム内である電磁エネルギーを出力するように構成される、請求項１２に記載の脱毛および発毛抑制器具。
14. 前記少なくとも１つの照射要素は、０．５〜２０ワットの間のパワーを持つ電磁エネルギーを出力するように構成される、請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
15. 前記少なくとも１つの照射要素は、１〜１０ワットの間のパワーを持つ電磁エネルギーを出力するように構成される、請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
16. 前記制御回路は、前記少なくとも１つの照射要素を加熱するための電源を供給するように構成され、前記少なくとも１つの照射要素による放射出力は、前記少なくとも１つの照射要素の加熱に対応する、請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
17. 前記筐体に固定された少なくとも１つの移動機構をさらに備え、
    前記少なくとも１つの除去および抑制ヘッドの前記開口部は皮膚表面と並置されるように構成され、
    前記少なくとも１つの移動機構は、前記少なくとも１つの除去および抑制ヘッドと前記少なくとも１つの切り取り要素を第一の位置と第二の位置の間で移動させるように構成され、前記第一の位置は前記第二の位置より前記皮膚表面に近く、
    前記制御回路は、前記少なくとも１つの移動機構を制御して、前記少なくとも１つの切り取り要素を前記第一と第二の位置間で規則的に移動させるように構成される、請求項１に記載の脱毛および発毛抑制器具。
18. 前記少なくとも１つの移動機構はさらに、前記少なくとも１つの照射要素を第三の位置と第四の位置の間で移動させるように構成され、前記第三の位置は前記第四の位置より前記皮膚表面に近く、
    前記制御回路は、前記少なくとも１つの移動機構を制御して、前記少なくとも１つの照射要素を前記第三と第四の位置間で規則的に移動させるように構成される、請求項１７に記載の脱毛および発毛抑制器具。
19. 前記制御回路はさらに、前記少なくとも１つの照射要素に電源を供給することによって、前記少なくとも１つの照射要素を、前記少なくとも１つの照射要素は放射を出力する温度まで加熱し、また、前記照射要素を規則的に前記第三の位置にある時間にわたって位置付けることによって、前記第三の位置への複数回の移動で前記開口部と並置された皮膚部分が照射されるように構成される、請求項１８に記載の脱毛および発毛抑制器具。
20. 前記制御回路はさらに、前記少なくとも１つの切り取り要素に電源を供給することによって、前記少なくとも１つの切り取り要素をある温度まで加熱し、また、前記少なくとも１つの切り取り要素を規則的に前記第一の位置にある時間にわたって位置付けることによって、前記第一の位置への複数回の移動で前記開口部から突出する毛が切り取られるように構成される、請求項１７または請求項１８に記載の脱毛および発毛抑制器具。
21. 前記少なくとも１つの切り取り要素は長い直方体の形状である請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
22. 前記制御回路と連通するモーションセンサーをさらに備え、前記制御回路は前記少なくとも１つの切り取り要素の規則的な移動の速度を、前記モーションセンサーが検出した相対運動に対応して制御するように構成される、請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
23. 前記制御回路と連通するモーションセンサーをさらに備え、前記制御回路は前記モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第一の所定の数値より高いことに対応して、前記少なくとも１つの切り取り要素の規則的な移動を起こさせ、前記モーションセンサーが検出した相対運動の速度が第二の所定の数値より低いことに対応して、前記少なくとも１つの切り取り要素の規則的な移動を停止させるように構成される、請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
24. 前記制御回路と連通するモーションセンサーをさらに備え、前記制御回路は前記少なくとも１つの切り取り要素のデューティーサイクルを、前記モーションセンサーが検出した相対運動に対応して制御するように構成される、請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
25. 前記制御回路はさらに、前記少なくとも１つの切り取り要素に電源を供給することによって、前記少なくとも１つの切り取り要素をある温度まで加熱するように構成され、前記少なくとも１つの切り取り要素から出力される温度が４００〜１９００℃である、請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
26. 前記少なくとも１つの切り取り要素から出力される温度は１０００〜１９００℃である請求項２５に記載の脱毛および発毛抑制器具。
27. 前記第一の位置にある前記少なくとも１つの切り取り要素と前記少なくとも１つの延伸組立体の前記開口部と並置される皮膚表面との間の距離は３ｍｍ未満である、請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
28. 前記第一の位置にある前記少なくとも１つの切り取り要素と前記少なくとも１つの延伸組立体の前記開口部と並置される皮膚表面との間の距離は０．１〜１ｍｍの間である、請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
29. 前記少なくとも１つの切り取り要素は、前記第一の位置において、前記少なくとも１つの延伸組立体の前記開口部と並置される皮膚表面と接触する、請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
30. 前記第一の位置にある前記少なくとも１つの切り取り要素のデューティーサイクルは５０％より大きい、請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
31. 前記第一の位置にある前記少なくとも１つの切り取り要素のデューティーサイクルは約６０％である、請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
32. 前記開口部に関する前記第一の位置と前記第二の位置の間の距離は２〜２０ｍｍの間である、請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
33. 前記開口部に関する処置位置と冷却位置との間の距離は約５ｍｍである、請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
34. 前記第一の位置への前記規則的な移動の周期は２〜２０００Ｈｚの間である請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
35. 前記第一の位置への前記規則的な移動の周期は約５Ｈｚである請求項３４に記載の脱毛および発毛抑制器具。
36. 前記少なくとも１つの照射要素と前記少なくとも１つの切り取り要素は、少なくとも１つの単一の照射および切り取り要素として提供される請求項１７〜１８のいずれか１項に記載の脱毛および発毛抑制器具。
37. 前記少なくとも１つの単一の照射および切り取り要素は、複数の単一の照射および切り取り要素を備え、
    前記少なくとも１つの反射板は複数の反射板を備え、前記単一の照射および切り取り要素の各々は、前記反射板の特定の１つと前記開口部との間に配置され、
    前記少なくとも１つの移動機構は複数の移動機構を備え、前記移動機構の各々は、前記単一の照射および切り取り要素の特定の１つを前記第一の位置と前記第二の位置の間で移動させるように構成される、請求項３６に記載の脱毛および発毛抑制器具。
38. 前記少なくとも１つの除去および抑制ヘッドは複数の除去および抑制ヘッドを備え、
    前記少なくとも１つの延伸組立体は複数の延伸組立体を備え、各々は前記除去および抑制ヘッドの特定の１つに連結され、
    前記単一の照射および切り取り要素の各々は前記除去および抑制ヘッドの特定の１つに固定され、
    前記反射板の各々は、前記除去および抑制ヘッドの特定の１つに固定される請求項３７に記載の脱毛および発毛抑制器具。
39. 皮膚表面の部分に電磁放射を照射するステップと、
    電磁放射を前記皮膚表面の前記部分に向かって実質的に反射するように構成された反射板を提供するステップと、
    前記皮膚表面の前記部分から突出する毛を同時に切り取るステップと、
    それによって、前記皮膚表面の前記部分の毛の除去と毛の生育の長期的な低減を提供するステップと、を含み、
    前記照射するステップは、
    前記皮膚表面の前記部分に電磁放射を直接照射するステップと、
    前記提供されている反射板に、前記皮膚表面の前記部分に向かって反射されるべき電磁放射を照射するステップと、を含む脱毛および発毛抑制のための方法。
40. 除去および抑制ヘッドを提供するステップと、
    前記除去および抑制ヘッドの相対運動を検出するステップと、
    をさらに含み、
    前記照射するステップは前記検出された相対運動に対応する請求項３９に記載の方法。
41. 除去および抑制ヘッドを提供するステップと、
    前記提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、
    をさらに含み、
    前記前記皮膚表面の前記部分を照射するステップは、検出された相対運動の速度が第一の所定の数値より高いことに対応して開始し、検出された相対運動の速度が第二の所定の数値より低いことに対応して停止する請求項３９に記載の方法。
42. 除去および抑制ヘッドを提供するステップと、
    前記提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、
    をさらに含み、
    前記皮膚表面の前記部分を照射する放射の量は、前記検出された相対運動の速度に対応する請求項３９に記載の方法。
43. 除去および抑制ヘッドを提供するステップと、
    前記提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、
    をさらに含み、
    前記毛を切り取るステップは、前記毛に、前記毛を切り取るのに十分な温度の熱を供給するステップを含み、
    前記熱を供給するステップは、検出された相対運動の速度が第三の所定の数値より高いことに対応して開始し、検出された相対運動の速度が第四の所定の数値より低いことに対応して停止する、請求項３９に記載の方法。
44. 毛を切り取るのに十分な温度は４００〜１９００℃である請求項４３に記載の方法。
45. 熱を前記皮膚表面の前記部分から遠ざけるように排出するステップをさらに含む請求項３９に記載の方法。
46. 電磁放射は、全体のエネルギーの少なくとも９５％が５００〜５０００ナノメートルの波長のスペクトラム内である請求項３９に記載の方法。
47. 電磁放射は、全体のエネルギーの１０％未満が５００〜１０００ナノメートルの波長のスペクトラム内である請求項３９に記載の方法。
48. 照射要素を加熱するステップをさらに含み、
    前記照射するステップは前記加熱するステップに対応する請求項３９に記載の方法。
49. 前記照射要素を前記皮膚表面の前記部分に関する第一の位置と前記皮膚表面の前記部分に関する第二の位置との間で規則的に移動させるステップをさらに含み、
    前記皮膚表面の前記部分と前記第一の位置にある前記照射要素との間の距離は、前記皮膚表面の前記部分と前記第二の位置にある前記照射要素との間の距離より短い、請求項４８に記載の方法。
50. 前記切り取るステップは前記皮膚表面の前記部分に熱を供給するステップを含み、
    前記供給される熱は、前記皮膚表面の前記部分から突出する毛を切り取るのに十分な温度である、請求項４８に記載の方法。
51. 除去および抑制ヘッドを提供するステップと、
    前記提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、
    をさらに含み、
    前記照射要素の前記規則的な移動の速度は前記検出された相対運動に対応する請求項４９〜５０のいずれか１項に記載の方法。
52. 除去および抑制ヘッドを提供するステップと、
    前記提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、
    をさらに含み、
    前記照射要素の前記規則的な移動は、検出された相対運動の速度が第一の所定の数値より高いことに対応して開始し、検出された相対運動の速度が第二の所定の数値より低いことに対応して停止する、請求項４９〜５０のいずれか１項に記載の方法。
53. 除去および抑制ヘッドを提供するステップと、
    前記提供された除去および抑制ヘッドの相対運動の速度を検出するステップと、
    をさらに含み、
    前記照射要素の前記第一の位置への前記移動はあるデューティーサイクルを有し、前記デューティーサイクルは前記検出された相対運動の速度に対応する、請求項４９〜５０のいずれか１項に記載の方法。
54. 前記照射要素の前記第一の位置への前記移動はデューティーサイクルを有し、前記デューティーサイクルは５０％より大きい請求項４９〜５０のいずれか１項に記載の方法。
55. 前記デューティーサイクルは約６０％である請求項４９〜５０のいずれか１項に記載の方法。
56. 前記第一の位置への前記規則的な移動の周期は２〜２０００Ｈｚの間である請求項４９〜５０のいずれか１項に記載の方法。
57. 前記第一の位置への前記規則的な移動の周期は約５Ｈｚである請求項４９〜５０のいずれか１項に記載の方法。

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